| linda |
2009-10-29 15:43 |
ZEMAX（西安、成都）光学设计软件标准培训班
以下是光研今年11月即将在西安和成都举办的ZEMAX标准培训信息，课程时间已由过去的两天调整为三天，内容更加充实完整，相信我们的课程能更好的满足大家的需求。其中，西安的培训及即将举办，请大家抓紧最后的报名机会。 YQ39 A_e
g
如果有参加的意向可以和我们取得联系，届时我们将发正式的邀请函给您！ j:k[ 90
感谢您对光研的关注！ U 'R)x";=
5"HV BfFk
▓▓▓▓▓ ZEMAX（西安、成都）光学设计软件标准培训班 ▓▓▓▓▓ 4"{ooy^Q
开课时间：西安：2009年11月6-8日 成都：2009年11月25-27日 ]<H&+ &!
开课地点：西安、成都市区内 G]fRk^~
● 主办单位 A3|Dz&@:
南京理工大学 电子工程与光电技术学院 0|$ v-`P$
光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com RT) d ]u
● 课程形式： o>/YAX:.!T
讲师讲授与学员互动式教学、下机讨论并指导上机练习，教材与PPT同步教学 Cz 72?[6
● 课程对象 / x5rf
光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域研究的技术开发人员 C!Rs^/
● 课程特色 u#Z#)3P
本课程为ZEMAX标准学习课程，专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置，通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能进行分析及优化和公差评估。授课全程使用正版软件讲解。 }*lUah,@
● 课程内容 c.,2GwW
1、 光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因及平衡像差的方法。 ?\$#L^;b}
2、 光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 #tZ4N7
3、 光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。 >)spqu]
4、 ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。 4T!+D
5、 衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 R$[ #+X!
6、 非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 x /;bu W-
7、 光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。 cJ1#ge%4
● 培训证书 :|Ad:fEs
培训结束后，将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书 v=_6XF
/R Ho1
ZEMAX光学设计标准培训班课表（西安、成都） mH Ic f{RG
第一天： SI LQ
基础光学理论 b!sRk@LGZ
玻璃材料特性 2_zp:v
一阶光学 ZJwrLV
像的形成 MxGu> r
光瞳和光阑 o'W5|Gy
三阶光学 Q(<)KZIK
各种像差描述 YN`H
BFH
平衡像差方法 87=^J
xy
ZEMAX使用界面 / C>wd
创建光学系统（定义孔径、视场、波长、变量参数等 ^@qvl%j
单透镜设计及优化过程 $ :
]o]a
参数求解类型 E-I-0h2
三种像质评价方法 7b<je=G6PA
双胶合透镜设计优化实例 /%&2HDA)
玻璃优化技巧 vgUb{D
第二天： q{t*34R
衍射理论及衍射极限系统分析 : {IO=^D=$
MTF传递函数定义 UEozAY
双高斯照相镜头MTF优化实例 P?t" jKp'
坐标断点 B
x (uRj
如何精确地模拟系统倾斜与偏心 SE),":aY
牛顿望远镜设计实例 |1b_3?e
光路路径查找来确定最小元件口径的方法 Gm(b/qDDe
（掌握坐标断点）
Xtp"QY
p
准直系统设计几种方法 'ow.=1N-
激光扩束系统设计实例 'g$(QvGF 9
系统存在成像与准直面两种标准同时优化技巧 c zm& ~n6$
多重结构系统 q-c=nkN3
变焦镜头设计实例 ~-PjW#J%
f-theta镜头设计原理 (;q\}u
扫描镜头设计实例 wg0 \_ @3
转鼓扫描系统设计方法 |b-]n"}c>
第三天 nWMm na.5
热分析及无热化设计 9nH?l{As
频谱仪的设计实例 *,Za6.=
渐晕系统分析及优化特点 6S+U&Ce\
高斯光束整形（可选） L+'Fs
三反离轴光学系统设计 f|R"u W +
镜头制造和样板测试 >lBD<;T
公差介绍
u$-U*r
公差操作数详解 s 1e:v+B]
系统公差设计过程 # g_Bx
蒙特卡罗结果分析 xj[(P$,P
问题解答 :dLAs@z
t`+'r}=d
本课程配备ZEMAX公司标准初级培训教材 PJ2qfYsH=>
● 报名咨询及热线 uPRQU+
025-57929358（直线） 025-57929359（传真） 4"xPr[=iG
侯小姐，E-mail：nancy@wavelab-sci.com.cn
|
|