应用光学研讨
中国国际光电子材料与器件研讨会 m='+->O*'l
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---中德国际应用光学专题研讨会
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（中国·深圳会展中心 2009年9月6日－7日） bTHJb pt*-
组织机构 .}Bb
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主办单位: nez5z:7F
中国光学学会 6 u8`,& U
德国应用光学协会 GbB&kE3KP
中国国际光电博览会（CIOE） G!0|ocE }
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承办单位： 6D 0uLh
中国国际光电博览会（CIOE） b*P \a
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海外支持单位：
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德国大众传媒集团 pSV
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俄罗斯光电协会 t@4 X(i0
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支持单位：
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中国光学光电子行业协会 B: {bmvy
中国科学院光电研究院 mN@0lfk;
深圳科技和信息局 Szwa2IdI.
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协办单位： `DWz p5Ax
中国科协 VMHiuBz:
中国电子商会 ;&J MBn]J
广东省光学学会 eYsO%y\I
台湾光电科技工业协进会 l9P~,Ec4''
香港光电协会 He j0l^
深圳光学学会 RsTpjY*Xb
深圳光学光电子行业协会 ap;*qiNFQ
华南师范大学信息光电子科技学院 -#)xe W.d
光电新闻网 joM 98H@
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合作媒体 (qohb0
CCTV.COM、 深圳新闻网、深圳商报、深圳特区报、中国贸易报、 HC360 慧聪网、阿里巴巴、环球资源、《光学学报》、《应用光学》、《光学与光电技术》、《光机电信息》、《光连》、《光子学报》、《光学精密工程》、《半导体科技》、《光机电月刊》、《国际光学市场》、《元器件快递》、中国真空网、中国光学网、显微在线、中国激光网、中国激光设备网、中国视觉网、中国医疗器械网、中国军工信息网、西安光电资源网、中国高教仪器信息网等。 __3Cjo^6&
中德国际应用光学专题研讨会简介 x `C;
为了推动中国光学事业的快速发展，促进中国光学科研院所和光学企业之间的紧密结合，推动中国光学科学发展与生产技术的进步，由德国应用光学协会、中国光学学会和CIOE共同主办的《中德应用光学国际专题研讨会》将在中国国际光电博览会期间隆重举行。 $Fd9iJ!k
研讨会主办德方将由欧洲应用光学分会、德国应用光学学会会长Michael Pfeffer博士带队，中方将由中国光学学会理事长周炳昆院士带队，他们分别带领两国有关科研院所及光学企业的研发精英出席，这将是两国的顶级专家在光学设计、光学加工、光学测量及应用方面首次在光博会同台论剑，同场还将有来自德国、日本及韩国的光学知名企业专家，他们将为行业和CIOE参展企业展现应用光学世界最高水平。本次研讨会内容和主题重在应用技术，这会为光学企业的技术发展给予方向性和启迪性指导。 7p u*/W~
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中德国际应用光学专题研讨会亮点 ;'= !Fv
² 本次研讨会的特点是重应用轻理论，以满足参展企业和整个行业渴求新产品、新技术、新应用的愿望。世界顶级光学企业专家出席，将带来光学加工等领域的最新水平和技术，非常值得期待。 $XT&8%|*7
² 德国和日本是世界光学工业最发达的国家，尤其在光学加工方面，其光学仪器仪表和光学镜头无人能比，研讨会将大量涉及实用性技术。 y1 k ""75
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研讨会主要议程和主题（初定） Z(Q?epyT
2009年9月6日上午 0 B3*\ H}5
² 会议开幕式由德国应用光学学会Michael Pfeffer会长与中国光学学会周炳琨理事长致词，并发表论坛主题演讲。 (`>4~?|+T
² 第一单元主题： eZP"M 6
前沿光学设计理论与技术 （主讲人，中外专家）； -*?a*q/#nQ
光学与光电子材料及其应用（主讲人，中外专家）； ^f3F~XhY3
2009年9月6月下午 m[Zz(tL
² 第二单元主题： kFuaLEJi
现代光学制造技术 （主讲人，中外专家）； >@ge[MuS
2009年9月7日上午 LX*T<|c`'
² 第三单元主题： ;=UrIA@y;=
现代光学测试技术与仪器 （主讲人，中外专家）； C7q bofo V
组委会联系方式 )G*H l^Z;4
中国国际光电博览会（CIOE） <( [o4%
地 址：深圳南山区海德三道海岸大厦东座607 /i^b; ?/1
邮 编：518059 Y\ 9uR!0
联系人：张先生
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电 话：0755-86290817 13760328418 _Vp9Y:mX2
传 真：0755-86290951 ! >t |vgW
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在线QQ咨询：233343935 {I(Euk>lR
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