应用光学研讨
中国国际光电子材料与器件研讨会 '\
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---中德国际应用光学专题研讨会
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（中国·深圳会展中心 2009年9月6日－7日） (A"oMnjWd
组织机构 y*_g1q$
主办单位: 4? 8 GK
中国光学学会 1=#`&f5f&
德国应用光学协会 ? BBDk
中国国际光电博览会（CIOE） E6BW&Xp
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承办单位： hydn" 9;
中国国际光电博览会（CIOE） I7]45 pF
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海外支持单位： V8&%f xn+
德国大众传媒集团 =g?r .;OO
俄罗斯光电协会 <o
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支持单位： >oLM2VJ
中国光学光电子行业协会 }p ."7(
中国科学院光电研究院 \b~zyt6-
深圳科技和信息局 &XN*T.Y`
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协办单位： ./.E=,j
中国科协 M3 u[E
中国电子商会 Jg: Uv6eN+
广东省光学学会 `5h$@
台湾光电科技工业协进会 7?p%~j
香港光电协会 r+\it&cW+
深圳光学学会 Jd/ 5Kx
深圳光学光电子行业协会 ;`@DQvVZ:
华南师范大学信息光电子科技学院 DR^mT$
光电新闻网 (S1$g ~t;
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合作媒体 Tf*X\{"
CCTV.COM、 深圳新闻网、深圳商报、深圳特区报、中国贸易报、 HC360 慧聪网、阿里巴巴、环球资源、《光学学报》、《应用光学》、《光学与光电技术》、《光机电信息》、《光连》、《光子学报》、《光学精密工程》、《半导体科技》、《光机电月刊》、《国际光学市场》、《元器件快递》、中国真空网、中国光学网、显微在线、中国激光网、中国激光设备网、中国视觉网、中国医疗器械网、中国军工信息网、西安光电资源网、中国高教仪器信息网等。 'X{7b
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中德国际应用光学专题研讨会简介 0d. lF:
为了推动中国光学事业的快速发展，促进中国光学科研院所和光学企业之间的紧密结合，推动中国光学科学发展与生产技术的进步，由德国应用光学协会、中国光学学会和CIOE共同主办的《中德应用光学国际专题研讨会》将在中国国际光电博览会期间隆重举行。 u{exQ[, E
研讨会主办德方将由欧洲应用光学分会、德国应用光学学会会长Michael Pfeffer博士带队，中方将由中国光学学会理事长周炳昆院士带队，他们分别带领两国有关科研院所及光学企业的研发精英出席，这将是两国的顶级专家在光学设计、光学加工、光学测量及应用方面首次在光博会同台论剑，同场还将有来自德国、日本及韩国的光学知名企业专家，他们将为行业和CIOE参展企业展现应用光学世界最高水平。本次研讨会内容和主题重在应用技术，这会为光学企业的技术发展给予方向性和启迪性指导。 {. eC"
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中德国际应用光学专题研讨会亮点 J:p nmZ`X
² 本次研讨会的特点是重应用轻理论，以满足参展企业和整个行业渴求新产品、新技术、新应用的愿望。世界顶级光学企业专家出席，将带来光学加工等领域的最新水平和技术，非常值得期待。 nn5S 7!
² 德国和日本是世界光学工业最发达的国家，尤其在光学加工方面，其光学仪器仪表和光学镜头无人能比，研讨会将大量涉及实用性技术。
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研讨会主要议程和主题（初定） Hm1C|Qb
2009年9月6日上午 cXt L3T+
² 会议开幕式由德国应用光学学会Michael Pfeffer会长与中国光学学会周炳琨理事长致词，并发表论坛主题演讲。 7{/q QGL
² 第一单元主题： B8;_h#^q
前沿光学设计理论与技术 （主讲人，中外专家）； UV@<55)K
光学与光电子材料及其应用（主讲人，中外专家）； z{;W$SO
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2009年9月6月下午 C n4|qX"&t
² 第二单元主题： >TwOL
现代光学制造技术 （主讲人，中外专家）； >8 VfijK
2009年9月7日上午 w{#%&e(q"
² 第三单元主题： V|<qO-#.
现代光学测试技术与仪器 （主讲人，中外专家）； T\. 8og
组委会联系方式 [Zi\L>PHO
中国国际光电博览会（CIOE） fJC)>doM
地 址：深圳南山区海德三道海岸大厦东座607 I-&/]<5y
邮 编：518059 jAN(r>zVL
联系人：张先生 +1F@vag7
电 话：0755-86290817 13760328418 l<GRM1^ kU
传 真：0755-86290951 &Lk@Xq1
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在线QQ咨询：233343935 / >.&
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