应用光学研讨
中国国际光电子材料与器件研讨会 pp@O6
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---中德国际应用光学专题研讨会
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（中国·深圳会展中心 2009年9月6日－7日） Ot`zn JU@
组织机构 54].p7
主办单位: |k^ C-
中国光学学会 1m y 1m
德国应用光学协会 :!Nx'F9a
中国国际光电博览会（CIOE） @FZbp
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承办单位： SY.ZEJcv
中国国际光电博览会（CIOE） }N&? 8s=
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海外支持单位： u+^KP>rM(
德国大众传媒集团 b]
俄罗斯光电协会 .N7<bt@~)
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支持单位： WLA&K ]
中国光学光电子行业协会 4n"6<cO5q
中国科学院光电研究院 n?;h-KKO:
深圳科技和信息局 (D:-p:q.
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协办单位： F ^Bk @
中国科协 W-*HAS
中国电子商会 6_:I~TTX
广东省光学学会 >qs/o$+t}
台湾光电科技工业协进会 [(eX\kL
香港光电协会 N0%q 66]1
深圳光学学会 W,"Re,`H
深圳光学光电子行业协会 n
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华南师范大学信息光电子科技学院 N<ux4t z
光电新闻网 IEfYg( c0U
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合作媒体 AOJ[/YpM
CCTV.COM、 深圳新闻网、深圳商报、深圳特区报、中国贸易报、 HC360 慧聪网、阿里巴巴、环球资源、《光学学报》、《应用光学》、《光学与光电技术》、《光机电信息》、《光连》、《光子学报》、《光学精密工程》、《半导体科技》、《光机电月刊》、《国际光学市场》、《元器件快递》、中国真空网、中国光学网、显微在线、中国激光网、中国激光设备网、中国视觉网、中国医疗器械网、中国军工信息网、西安光电资源网、中国高教仪器信息网等。 9 J?lNq
中德国际应用光学专题研讨会简介 % m"Qg<
为了推动中国光学事业的快速发展，促进中国光学科研院所和光学企业之间的紧密结合，推动中国光学科学发展与生产技术的进步，由德国应用光学协会、中国光学学会和CIOE共同主办的《中德应用光学国际专题研讨会》将在中国国际光电博览会期间隆重举行。 bYoBJ
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研讨会主办德方将由欧洲应用光学分会、德国应用光学学会会长Michael Pfeffer博士带队，中方将由中国光学学会理事长周炳昆院士带队，他们分别带领两国有关科研院所及光学企业的研发精英出席，这将是两国的顶级专家在光学设计、光学加工、光学测量及应用方面首次在光博会同台论剑，同场还将有来自德国、日本及韩国的光学知名企业专家，他们将为行业和CIOE参展企业展现应用光学世界最高水平。本次研讨会内容和主题重在应用技术，这会为光学企业的技术发展给予方向性和启迪性指导。 zk"8mTg
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中德国际应用光学专题研讨会亮点 Z~<=I }@
² 本次研讨会的特点是重应用轻理论，以满足参展企业和整个行业渴求新产品、新技术、新应用的愿望。世界顶级光学企业专家出席，将带来光学加工等领域的最新水平和技术，非常值得期待。 k>\v]&|T`
² 德国和日本是世界光学工业最发达的国家，尤其在光学加工方面，其光学仪器仪表和光学镜头无人能比，研讨会将大量涉及实用性技术。 JEaTDV_
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研讨会主要议程和主题（初定） _-3n' i8
2009年9月6日上午 bL Sc=f&
² 会议开幕式由德国应用光学学会Michael Pfeffer会长与中国光学学会周炳琨理事长致词，并发表论坛主题演讲。 ;>L8&m)R5
² 第一单元主题： @%G?Nht]o
前沿光学设计理论与技术 （主讲人，中外专家）； "}wO<O6[
光学与光电子材料及其应用（主讲人，中外专家）； PXqG;o*Q*?
2009年9月6月下午 z:$ibk4#h
² 第二单元主题： shw"TF>?zG
现代光学制造技术 （主讲人，中外专家）； #4lIna%VX
2009年9月7日上午 O@4 J=P=w
² 第三单元主题： rwVp}H G
现代光学测试技术与仪器 （主讲人，中外专家）； SZyORN
组委会联系方式 !n` | k
中国国际光电博览会（CIOE） %<x! mE x
地 址：深圳南山区海德三道海岸大厦东座607 iPCCT s
邮 编：518059 \=7jp|{Yl
联系人：张先生 i/sk U9
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