| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 W9?*
~!
cKVFykwM
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) Y
D<3 #Dr]
U<'N=#A
J
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). kp* v:*
]^ R':YE
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： M+%Xq0`T
[attachment=18975] UBwl2Di
I0mp [6
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： )Q=u[ p
[attachment=18976] z"4 q%DC
<D |&)/#
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 $M}"u [Qq
[attachment=18977] BH r ,jC
Y#os6|MV#
单击Next_Apply即可。 X7$]qE K
[attachment=18978] Q+Bl1xl
$9YQ aN%
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 rn-bfzoDS
[attachment=18979] LGhK)]:
{]\7
M|9\
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） |[rn/
[attachment=18980] m.+h@
<N)!s&D
单击OK.再Load新建的目标， Z=&|__ +d
[attachment=18981] Kt aoOe
@ZI Sv'F
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 ~|" Vl<9
[attachment=18982] 3S3 a|_+%
%6q82}# `
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 0)|Z 7c&
[attachment=18983] $z_yx
`5
[attachment=18984]
|
|