| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例
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Q^ q=! /qQ
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) {"\q(R0
|Rk37P {
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). FP@ A;/c
vF+YgQ1H
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： zCM^r <Kr
[attachment=18975] g`
kZ T} h
4Q/r[x/&C
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： mC "7)&,F
[attachment=18976] ev*c4^z:s
,io h fZz
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 o[2Y;kP3*P
[attachment=18977] [5-!d!a|st
x:vrK#8D>
单击Next_Apply即可。 mf#fA2[
[attachment=18978] &F86SrsI
qY# m*R
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 @#1c x
[attachment=18979] zAu}hVcW
O<Jwaap
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） (J/>G y)d
[attachment=18980] IS .g);Gj
Age-AJ
单击OK.再Load新建的目标， 69?I?,7
[attachment=18981] }3Df]
_82<| NN:
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 %d ZM9I0
[attachment=18982] yi&?d&rK
}t}38%1 i
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 \8
g.
[attachment=18983] x ru(Le}E
[attachment=18984]
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