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2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2:设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:设计和优化示例 :(EU\yCzK )P\Vd # 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) \;x+KD o
>bf7+D 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). k WYjqv n0#HPI" 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜: 9,y*kC [attachment=18975] F,^Q'$! HXF5fs 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口: `i0RLGze [attachment=18976] $-9m8}U(Y UahFs 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。 SlvQ)jw% [attachment=18977] RrSo`q-h+ \MM(w& 单击Next_Apply即可。 +^hFs7je) [attachment=18978] eX$P k: @~Z:W<X 于上表中单击波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现 A<.`HCv2 [attachment=18979] jvn:W{'Q RS@*/.]o 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可) uN V(r" [attachment=18980] }./__gJ D t\F]\6sd 单击OK.再Load新建的目标, I0oM\~# [attachment=18981] @%@uZqQ4 #kT3Sx 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 $d.UF!s [attachment=18982] qJ!&H _
v\=ag 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。 - xtj:UO [attachment=18983] zZDa71> [attachment=18984]
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