| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 <
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J~gf Mp.
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) N>ct`a)BD/
QJdSNkc6
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). }~QB2&3
.2x ypL8(
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： V]k!]
[attachment=18975] tx5_e [
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单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： *$# r %
[attachment=18976] `Q(ac|
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图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 ?783LBe
[attachment=18977] j&T/.]dX&
#(aROTV5a
单击Next_Apply即可。 i6`8yw
[attachment=18978] @%\ANM$S
R X2=
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于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 y\0^c5}
[attachment=18979] E=QL4*?
n"FOCcTIs
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） V'K$:9^x[8
[attachment=18980] RTY$oUqlZ
cC}s5`
单击OK.再Load新建的目标， wkJB5i^<w
[attachment=18981] hLm9"N 'Pf
y'@l,MN{
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 Qgx~'9
[attachment=18982] JyB>,t)
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% ES
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 :>3&"T.
[attachment=18983] M;iaNL(
[attachment=18984]
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