| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 xi\RUAW
\KXEw2S
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) I yN9
+
sr+mY;
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). t QaCNS$=
cB}2(`z9
B
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： BZc -
[attachment=18975] X4G55]D$>
jFT V\|C
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： O m IB k
[attachment=18976] Ur (o &,
WG luY>C;
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 UeMe4$m
[attachment=18977] 15 11<,
7 aD&\?
单击Next_Apply即可。 mZVOf~9E
[attachment=18978] 5yiiPK$qr
7B!Qq/E?g
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 786_QV
[attachment=18979] ]q7 LoH'S
yN<fmi};c
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） >m1 V9 A
[attachment=18980] s7i.p]
-+>r4P
单击OK.再Load新建的目标， v@uaf=x-
[attachment=18981] qg{<&V7fE
O)JUY *&I5
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 *>p(]_s,
[attachment=18982] PZ(<eJ>
XJ~l5} y ]
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 x <\D@X^
[attachment=18983] ^MHn2Cv/~
[attachment=18984]
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