| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 _n8GWBi
2| iV,uJ&
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) :e1 o<JgPt
V gb *% I
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ( lm&*tKm
/'2O.d0}.
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： M,5j5< 7
[attachment=18975] h 5_G4J{1
asiov[o;
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： Ba F!O5M
[attachment=18976] ^ $>XW\yCs
@!N-RQ&A
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 3f Xv4R;!:
[attachment=18977] cLa]D[H
9h90huyKF
单击Next_Apply即可。 '+>fFM,*B
[attachment=18978] w.\w1:d
^efb
5
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 /I 5X"x
[attachment=18979] {#P `^g
r[(xj n
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） Jf)bHjC_V
[attachment=18980] AE`We$!
j:T/ iH!YF
单击OK.再Load新建的目标， 5Z/GK2 [HL
[attachment=18981] \@3Q i8u//
GPhl4#'
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 sbkQ71T:
[attachment=18982] UUK P"
#PDf,^
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 NgCuFL(Ic
[attachment=18983] aJL^AG
[attachment=18984]
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