| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 84}Pu %
2=/,9ka ~
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) 84eq T[I'
kMP3P S
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 3 q*p#l~
LW '3m 5
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： EYD24
[attachment=18975] 6z keWR
E 6Uiw]3
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： z IT)Hs5
[attachment=18976] A5[iFT>
MGU% "7i'}
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 ' V#$P Zx
[attachment=18977] X&14;lu%p
GI _.[
单击Next_Apply即可。 #l?E2
U4WL
[attachment=18978] y1c2(K>tu
p]E \!/
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 jC}2>_#m(
[attachment=18979] zD,K_HicI
O; #qG/b1
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） '`nf7b(
[attachment=18980] mx3p/p
D@
4sq^|2
单击OK.再Load新建的目标， la}Xo0nq0+
[attachment=18981] Xdtyer%
%;MM+xVVX
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 Qo pA 'm
[attachment=18982] f5o##ia7:
& A!?:?3%O
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 =jIP 29+
[attachment=18983] ;:A/WU.^
[attachment=18984]
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