| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 D'vaK89\
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参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) v?
OUd^
ar#73f
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). GcDA0%i
kDDC@A $
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： ~^jPE)
[attachment=18975] U[02 $gd0l
qZ'2M.;
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： yo/;@}g}
[attachment=18976] =yz"xWH
g(W+[kj)
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 R?{xs
[attachment=18977] !+A%`m
(W J)!
单击Next_Apply即可。 \8=)X} )
[attachment=18978] D =mmBo
,h*N9}xYTi
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 mvK ^')
[attachment=18979] \
a,}1FS
c8YbBdk'
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） h x&"f e
[attachment=18980] }o A>0Nw$K
Jw8?o/1D@
单击OK.再Load新建的目标， nj:w1E/R
[attachment=18981] `BK b60
DqT<bNR1*;
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 `MCiybl,&P
[attachment=18982] X!K> .r_Dg
""jW'% wR
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 bsD A&~ )s
[attachment=18983] 1P(=0\ P>&
[attachment=18984]
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