| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 5o^\jTEl^
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参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) Nah\4-75&
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). YvUV9qps~
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设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： q:wz!~( >
[attachment=18975] FbCuXS=+`
Wq25, M'
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： 7<*g'6JG[
[attachment=18976] 2H1?f|0>
(F*y27_u
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 Xa g#ZT
[attachment=18977] e[QEOx/-h2
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单击Next_Apply即可。 ~'Korxa
[attachment=18978] 1_mqP Mm
]0")iY_
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 cVaGgP}\
[attachment=18979] !H zJ*
$%1oZ{&M
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） K;R!>p}t
[attachment=18980] ;IT'6m`@W
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单击OK.再Load新建的目标， BtF7P}:MGf
[attachment=18981] [ mo9?
mW3 IR3 b
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 pWeD,!f
[attachment=18982] e=ry_@7
g]?QV2bX6
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 f5*hOzKG6
[attachment=18983] F>k/;@d
[attachment=18984]
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