| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 t 1"#L_<e
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参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) :>r
W`=
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k3nvML,b v
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). k<CbI
V
PHEQG]H S
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： Xx%<rsA>F
[attachment=18975] rf%VSxD9
HZ2W`wo
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： T:Ee6I 3l
[attachment=18976] 6>)nkD32g
Dg"szJ-
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 B /w&Lo
[attachment=18977] Wz"H.hf
m{?f,Q=u@
单击Next_Apply即可。 yjMN>L'
[attachment=18978] ?w'86^_z
U%q6n"[
Cr
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 |2@*?o"ll
[attachment=18979] AO]cnh C
-W<1BJE
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） %=Z/Frd
[attachment=18980] CfSP*g0rW
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单击OK.再Load新建的目标， rUmP_
[attachment=18981] \q4r/SbgW
c.b | RM0;
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 {jmy:e2
[attachment=18982] *B }O
.RJMtmp
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 %lWOW2~R
[attachment=18983] ..+#~3es#y
[attachment=18984]
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