| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2:设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:设计和优化示例 ?^vZ{B)&0E ?mAw"Rb! 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) c6m,oS^ ] zY 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ZO1J";>u u"gp"> 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜: NGY I%: [attachment=18975] nu<!/O RGLA}| 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
'X,V [attachment=18976] 7dJaWD:& !v L:P2 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。 8W>l(w9M [attachment=18977] yMkd|1 VC(|t} L4 单击Next_Apply即可。 [AzN&yACE [attachment=18978] vrv*k >[@d&28b% 于上表中单击波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现 k#) .E X [attachment=18979] #+PbcL xlO2jSSAt 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可) Q9>]@DrAx [attachment=18980] LeyDs>!0 }AqD0Qd2Hj 单击OK.再Load新建的目标, 1[`<JCFClc [attachment=18981] )x &@j4, 8w[EyVHA 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 3raA^d3!? [attachment=18982] q*nz4QTOE eBIR*TZ): 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。 ~(/HgFLLu [attachment=18983] p&mtKLv [attachment=18984]
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