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2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 C>03P.s4c W*s`1O > 例:评估一四分之一波片的光谱特性: #mM&CscE FVD}9ia 参数为:QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) q%y_<Fw#E TY#1Z )% 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 1a)_Lko Xt7'clr Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. txgGL' L;f=\q"g 打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: g9
yCd(2<5 [attachment=18985] ^y3\e
pIrAGA; 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, T4#knSIlh [attachment=18986] ~::R+Lh( >3kR~:; 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK 2+P3Sii [attachment=18987] vV'^HD^v yk5P/H) 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 wYxizNv, [attachment=18988] FU [,,a0<< {xykf7zp 同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: e7?W VV, [attachment=18989] $%E9^F A8RT3OiXA 单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: eHJ7L8# [attachment=18990] ,C&>mv xA Ly<;x^D 在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 j(BS;J$i [attachment=18991] !Q3Snu= -#o+x Jj 可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , T7T!v [attachment=18992] FKx9$B e-')SB 在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: 0>;#vEF*1 [attachment=18993] '?>eW2d Y-Ku2m 上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 M"vcF5q [attachment=18994] I>3]4mI*a 1;xw)65 单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: Wu4Nq+ [attachment=18995] ]p*)
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A4xk 保存:Data_Save Design。
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