| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 O:oU`vE
x&hv FG3
例:评估一四分之一波片的光谱特性: b
xk'a,!S
]y1$F
Ir+
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) s)=!2A Y
ql#{=oGDnA
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 2.fyP"P
L
l fU"SSQ
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. Z^/z
H MEs8.
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： htUy2v#V
[attachment=18985] {#dp-5V
ue6/EN;}
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， D-TNFYYy2
[attachment=18986] "VT {1(]t
;#5- .z
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ugIm :bg&
[attachment=18987] kbIY%\QSO
PT uCN
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 ({d,oU$> y
[attachment=18988] }$&T
O$LX
fd!pM4"0
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： `@f hge
[attachment=18989] t7 C!}'g&'
|g7nh[
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： ' mBLf&fB
[attachment=18990] r)9i1rI+
N27K
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 E>l#0Zw
[attachment=18991] ~_d BND?
Q>SPV8s
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， c"f-$^<
[attachment=18992] Y5h)l<P>B
C1#o<pv
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： M v7w5vTl
[attachment=18993] IEIxjek
+ ,vJ7
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 jt'Y(u]2
[attachment=18994] V:,3OLL*
$ +!}Vtb
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： WQI M2_=M
[attachment=18995] W[[YOK1T
M Q9 M%>
保存：Data_Save Design。
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