| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 gp+@+i>b+[
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: D8`SI2 1P
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参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) u ^M'[<{
31N5dIi,
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). fsWPU] \)
mqDI'~T9 u
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. C1OiM b(:
Ac\e>N
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： )U{\c2b
[attachment=18985] P.djR) YI
fFXnD
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， -X-sykDm
[attachment=18986] }\1I sK ~P
+y\o^w4sT
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK .>2]m[53
[attachment=18987] VdGpreRPC
hb1eEn
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 ~DS.b-E
[attachment=18988] p9&gKIO_m
uW4.Q_O!H
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： 'Jd*r(2d
[attachment=18989] M3eFG@,
,M$h3B\;r
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： sYB2{w
[attachment=18990] x#hSN|'"
|{MXDx
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 znAo]F9=J"
[attachment=18991] (~fv; }}v
aJ [|80U
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， |<%v`*
[attachment=18992] H`jnChD:M'
}-
wK
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： w Ju9.
[attachment=18993] Nnfq!%
BN6cu9a
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 Ao\Im(?
[attachment=18994] D$VRE^ k
* D vQnj
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： -8v:eyc
[attachment=18995] tD,I7%|@
SeLF ubs_
保存：Data_Save Design。
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