| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 ;i>(r ;ZM
tmgZNg
例:评估一四分之一波片的光谱特性: ={k_
(8]
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参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
e&\+o}S
} b/Xui9Q
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). v~AD7k2{8
4R&e5!
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. G5 T(
n5 z";:p
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： ) /FEjo
[attachment=18985] ] [ V@t^
14S_HwX
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， 'mm ~+hp
[attachment=18986] <KEVA?0>
d cG)ql4d
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK 6=3;(2u[C"
[attachment=18987] Bgf'Hm% r
r=4vN= :
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 c*DBa]u2
[attachment=18988] *Me&> "N"
@;b @O
_
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
s*9lYk0
[attachment=18989] +zI NnX
E0 6)&tF
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： w^= uq3X?
[attachment=18990] 8}.V[,]6
GWCU 9n
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 >E\U$} WCG
[attachment=18991] kVY 0
E
iu.$P-s
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， Rz:1(^oA
[attachment=18992] ~(P\'H&(h
<6ST w
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： rk7d7`V
[attachment=18993] z: )z]6
DPBWw[
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 R^Y>v5jAe
[attachment=18994] w%uM=YmuT
rGgP9
(
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： <gLq?~e|A
[attachment=18995] 2"pFAQBw~i
{D`_q|
保存：Data_Save Design。
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