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opturn 2009-06-10 10:34

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 :n?rk/F  
H*",'`|-  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: 1XHE:0!dQ  
OgCNq W d-  
参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) @CC 6 `D  
QS-X_  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). (>*L-&-  
UGoB7TEfn  
Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. 4-C'2?  
W/%9=g$m  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: 58o&Dv6?  
[attachment=18985] D\pX@Sx,v[  
d"lk"R  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, +.xK`_[M  
[attachment=18986] xb&,9Lxd|  
o9OCgP`Y  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK [ -R[rF  
[attachment=18987] )6px5Vwz  
}%0X7'  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 ._&SS,I5VZ  
[attachment=18988] |jcIn[)=  
&(|x-OT  
同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: Lo=n)cV1,  
[attachment=18989] hXD/  
iaRCV 6cl  
单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: iY5V4Gbo  
[attachment=18990] r<Q0zKW!jN  
`9acR>00$  
在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口  gq} c  
[attachment=18991] [|(=15;  
8<=sUO  
可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , s$^2Qp  
[attachment=18992] Y6(= cm  
cV4Y= &  
在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: yI%q3lB}^  
[attachment=18993] Nc?'},  
1*trtb4F  
上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 8T"kQB.Zv  
[attachment=18994] Bz>5OuOVS\  
dKa2_|k'  
单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: 7'|aEH  
[attachment=18995] @eq.&{&  
pfFHuS~  
保存:Data_Save Design。
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