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opturn 2009-06-10 10:34

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 C>03P.s4c  
W*s`1O>  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: #m M&CscE  
FVD}9ia  
参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) q%y_<Fw#E  
TY#1Z )%  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 1a)_Lko  
Xt7'clr  
Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. txgGL'  
L;f=\q"g  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: g9 yCd(2<5  
[attachment=18985] ^y3\e  
pIrAGA;  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, T4#knSIlh  
[attachment=18986] ~::R+Lh(  
>3kR~:;  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK 2+P3Sii  
[attachment=18987] vV'^HD^v  
y k5P/H)  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 wYxizNv,  
[attachment=18988] FU[,,a0<<  
{xykf7zp  
同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: e7?W VV,  
[attachment=18989] $%E9^F  
A8RT3OiXA  
单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: eHJ7L8#  
[attachment=18990] ,C&>mv xA  
Ly<;x^D  
在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 j(BS;J$i  
[attachment=18991] !Q3Snu=  
-#o+x Jj  
可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , T7T!v  
[attachment=18992] FKx9$B  
e-')SB  
在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: 0>;#vEF*1  
[attachment=18993] '?>eW 2d  
Y-Ku2m  
上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 M"vcF5q  
[attachment=18994] I>3]4mI*a  
1;xw)65  
单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: Wu4Nq+  
[attachment=18995] ]p*) PpIl  
t? A4xk  
保存:Data_Save Design。
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