| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 :n?rk/ F
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: 1XHE:0!dQ
OgCNq W
d-
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) @CC
6 ` D
QS-X _
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). (>*L- &-
UGoB7TEfn
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. 4-C'2 ?
W/%9=g$m
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： 58o&Dv6?
[attachment=18985] D\pX@Sx,v[
d"lk"R
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， +.xK`_[M
[attachment=18986] xb&,9Lxd|
o 9OCgP`Y
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK [ -R[rF
[attachment=18987] )6px5Vwz
}%0X7'
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 ._&SS,I5VZ
[attachment=18988] | j cIn[)=
&(|x-OT
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： Lo=n)cV 1,
[attachment=18989] hXD/
iaRCV 6cl
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： iY5V4Gbo
[attachment=18990] r<Q0zKW!jN
`9acR>00$
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 g q} c
[attachment=18991] [|(=15;
8<=sUO
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， s$^2Qp
[attachment=18992] Y6(= cm
cV4Y=
&
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： yI%q3lB}^
[attachment=18993] Nc? '} ,
1*trtb4F
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 8T"kQB.Zv
[attachment=18994] Bz>5OuOVS\
dKa2 _|k'
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： 7'|aEH
[attachment=18995] @eq.&{&
pfFHuS~
保存：Data_Save Design。
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