| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 O{*GW0}55
d^_itC;-,
例:评估一四分之一波片的光谱特性: L c{!FG>
Hq79/ wKj
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) (T4k~T`3
k\%,xf; x
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 6J]~A0vsi}
0rGj|@+;
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. @b8X%0B7
:Z ]/Q/$
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： CARq^xI-
[attachment=18985] J1& A,Gb
$kM '
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， *di& %&f
[attachment=18986] N.k+AQb
+0SW ?#%
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK 9k*^\@\\x
[attachment=18987] :R{x]sv
es{cn=\ s
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 8x` Kl(
[attachment=18988] +q$xw}+PK
HarYV :
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： k` {RX x
[attachment=18989] <tGI]@Nwk
r=xTs,xx
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： _95- -\
[attachment=18990] N,h1$)\B#
Q>##hG:m
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 7=; D0SS
[attachment=18991] 5/zf
x
QZ6[*_Z6
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 6sO
[attachment=18992] Ks9FnDm8
s0_-1VU
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： X v`2hf
[attachment=18993] >SY 2LmV'a
n.=e)*
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 EY,;e\7O,
[attachment=18994] 3(cU)
yBJ/>SAcG
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： {d&X/ tT
[attachment=18995] bS_y_ 9K
:|*Gnu
保存：Data_Save Design。
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