| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 &O6;nJE I
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: nK jeH@&#
=F %wlzF:
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) [p W1 =tI
Me I 2i
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 5G'&9{oB
8 5%Pq:E
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. O~#uQm
WE 5"A|
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： nI*(a:
[attachment=18985] )7I.N]=
xMSNr Oc
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， S:p.W=TAB
[attachment=18986] 68p\WheCal
Ej+]^t$\
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK MdV CD^B
[attachment=18987] cXb
@H#
PTzp;.
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 6bbZ<E5At
[attachment=18988] 1H&?UP4=(
vh|Tb5W<
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： mJ8{lXq3!
[attachment=18989] RwAbIXG{0
\~gA+ o}Q
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： C.yY8?|
[attachment=18990] lFp!XZ!
^8?j~&u$F
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 WFU?o[k-O
[attachment=18991] g.[+yzuE6
pu/m8
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， .k# N7[q=
[attachment=18992] ";wyNpb(
o &BPG@n
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： c;c:Ea5
[attachment=18993] TK; \_yN
-Wl)Lez@
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 $.oOG"u0]
[attachment=18994] )8pc f`h{
LQh^ ;
]^(
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： !2GHJHxv]c
[attachment=18995] {iA^rv|
mWNR( ()v
保存：Data_Save Design。
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