| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 YE;Tpji
L)yc_ d5
例:评估一四分之一波片的光谱特性: B6J <
b SgdVP-
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) q) Qg'l^f
;%B:1Z
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). Z%$ tV3a?
wzf%~ ats
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. .{,f b
#,B +&SK{
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： mZ0'-ax
[attachment=18985] *c> B,
!(nFq9~~Q
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， Gph:'3
*X
[attachment=18986] Zg=jDPt}
6BH
P#B2 j
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK :J;&Z{
[attachment=18987] LVe [N-K
J7FzOwd1h
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 Vqp 3'=No
[attachment=18988] S pIdw0
k@}g?X`8
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： *|Bt!
[attachment=18989] |f{ (MMlj
B2T= O %
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： S'} pUGDO
[attachment=18990] u#)ARCx ,w
N:~CN1
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 h[i@c`3 /2
[attachment=18991] yt[*4gF 4
cH6 <'W{*
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 8fWk C<f}
[attachment=18992] 0x,NMS
iCIU'yI
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： [ XBVES8
[attachment=18993] .1YiNmW=
%4^NX@1jV
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 9CPr/q9 '
[attachment=18994] RfQ*`^D
^,{ r[}
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： 1<F6{? ,z
[attachment=18995] -jk-ve
e N^6gub
保存：Data_Save Design。
|
|