| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 BhM '@g*
8'<-:KG
例:评估一四分之一波片的光谱特性: c7tfRq
n+
A3B56 K
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) Np'2 }6P
BZud) l24
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). wNQ*t -K
F#5B <I
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. %CS@g.H=_
Zm=(+
f
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： OR}c)|1
[attachment=18985] 356>QW'm
{Z h>mHW3
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， Z9575CI<
[attachment=18986] X@k`3X
?T>'j mmV=
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK q4}PM[K?=\
[attachment=18987] {?J/c{=/P
.A-]_98Z
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 Ga# :P F0
[attachment=18988] q Z}P*+`Q
Gm9hYhC8
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： 1Ab>4UhD
[attachment=18989] = M]iIWQ@`
g.'yZvaP
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： ]8icBneA~'
[attachment=18990] ~zS Cg|"r
}0u 8r`
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 (9 <guv
[attachment=18991] <Q ?a =4
X{we/'>
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， VH=S?_RY>
[attachment=18992] hGbj 0
3t<a $i
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： Y$Q| J4z
[attachment=18993] X6 6VU
W?eu!wL#p
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 rg{ 9UVj
[attachment=18994] ={5#fgK>
F
B ?UZ
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： )$`wIp
[attachment=18995] ' v\L @"
HcedE3Rg
保存：Data_Save Design。
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