| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 #!B4 u?"m
Ng& %o
例:评估一四分之一波片的光谱特性: .N;=\C*
+bx YG D
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) `%bypHeSp
5PCqYN(:B
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). e)IzQ7Zex
t|?ez4/{z
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. *][`@@->
s FKX-S~:
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： HdI8f!X'TG
[attachment=18985] krxo"WgD
NSMyliM1Y
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， YRk(u7:0
[attachment=18986] -/B+T>[nTb
f^Z RT@`O
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ,]C;sN% ~}
[attachment=18987] "s-"<&>a(
3d8L6GJ
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 nUr5Qn?
[attachment=18988] &3>)q ul
hF?1y `20
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： KM0ru
[attachment=18989] ;LfXi 8)
OdbEq?3S/?
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： ~G p [_ %K
[attachment=18990] B4/>H|
@n/\L< ]t
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 T b}4wLu
[attachment=18991] >{ ]%F*p4
^#-l
q)
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， o 11jca|
[attachment=18992] >=lC4Tu
&AMl:@p9
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： LP^$A Ay
[attachment=18993] K g*Q
SGRp3,1\4%
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 %`r$g[<G
[attachment=18994] Ty\R=y}}
Y Uc+0
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： JG. y,<xW
[attachment=18995] S}3fr^{.
bP#:Oi0v`
保存：Data_Save Design。
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