| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 [L-wAk:Fb
J#H,QYnf(L
例:评估一四分之一波片的光谱特性: 7_3
PM
3C
8fi'"
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) 6H2Bf*i
v $@1q9 5J
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). fk15O_#3
sK W~+ ]
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. 4xT /8>v2|
:mDOqlXW/
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
TR*vZzoy
[attachment=18985] @?J7=}bzz
FT>>X P8
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， 0?t;3 z$n
[attachment=18986] >q?{'#i
/
n&&C(#mBC
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK IHCxM|/k(M
[attachment=18987] eQyc <
?/T=G k
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 zk3\v
"
[attachment=18988] "D>/#cY1/
e u)""l
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： id+EBVHAd
[attachment=18989] r2tE!gMC
d^54 mfgI
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： -]}#Z:&
[attachment=18990] P//nYPyzg
POc<XLZ B
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 vq9O|E3
[attachment=18991] Ki:t!vAO
uj\&-9gEi
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 8cvSA&l(D
[attachment=18992] tU Je -3,
0FL'8!e<
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： %L)QTv/
[attachment=18993] (gE<` b
7Q'u>o
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 3&E@#I^] ,
[attachment=18994] /g %RIzgW
vMX \q
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： !s$1C=z5u
[attachment=18995] R)N^j'R~=
/EQ ^-4yr
保存：Data_Save Design。
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