| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 Y~UAE.
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: K{"hf:k
n+YUG
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) SO[ u4b_"h
mdEl
CC0
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). MtN!Xx
-V[x
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Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. N0vECk
n^O!93a
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： zR]!g|;f
[attachment=18985] |\G^: V[.
0\B{~1(^
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， M6N p!0G
[attachment=18986] nbf/WOCk
8"ZS|^#
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK \hBzP^*"n
[attachment=18987] rKyulgP
c:>&YGmhu
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 p :W ]
[attachment=18988] h& }i H
bcps jUiy#
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： kV 4Oq.E
[attachment=18989] $u yx
hwJ>IQ1
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： C])s'XTs
[attachment=18990] UOl*wvy
~!8j,Bqs+z
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 1
ptyiy
[attachment=18991] [(5. ?
cBZEyy&
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， y1Z>{SDiq
[attachment=18992] {+E]c:{
oZ d 3H
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： g,]m8%GHE
[attachment=18993] PoPR34] ^J
vg D+Y
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 =|ODa/2 p
[attachment=18994] .SER,],P
gD4vV '|
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： hd~#I<8;2
[attachment=18995] gBcs
O#=%t
保存：Data_Save Design。
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