| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 Wzl/ @CPM
L0g+Ro hW
例:评估一四分之一波片的光谱特性: cT'Bp)a
N1~bp?$1
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) ~qgh w@Q~
LL( xi )
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). )s
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w jkh*Y
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. L"bJ#0m
&42 ]#B"*
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： _@ao$)q{J
[attachment=18985] ! UT'4 Fs
8o5[tl
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单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， *E/Bfp1LIe
[attachment=18986] uos8Mav{E
!zE{`H a~
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK yvB]rz} i
[attachment=18987] Yqs=jTq`{
?Y~t{5NJR
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 [bh?p+V
[attachment=18988] TWRP|i!i
H+[?{+"#@l
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： 60+ zoL'
[attachment=18989] B(W~]i
+_]Ui| l
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： \L*%?~
[attachment=18990] <Q|\mUS6
c u/"=]D
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 DsHF9Mn
[attachment=18991] k$kE5kh,S
v,-T k=qP
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， Q#p)?:o/
[attachment=18992] gnp.!-
0nw i5
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： ) ;0
[attachment=18993] X?_rD'3
>+%#m'Y&&
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 px;~20$e
[attachment=18994] UdO8KD#r3
d7V/#34
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： lM\dK)p21O
[attachment=18995] i-CJ{l
^OV ; P[
保存：Data_Save Design。
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