| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 nK)1.KVN
` M{Ne:J
例:评估一四分之一波片的光谱特性: uqU&k@
pKGhNIj$
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) pzoh9}bue
pLCS\AUTsv
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). <m\<yZ2aa
_}ii1fLv
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. +a%D+
d:>'c=y
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： !M`.(sO ]
[attachment=18985] +rA#]#hN
'o4`GkNh)
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， i*$~uuY
[attachment=18986] (6NDY5h~=n
z^j mf_
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK K f}*Ij
[attachment=18987] !#WQ8s!?o
.'Q*_};W
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 b/ Ma,}
[attachment=18988] \8m9^Z7IfK
Nnr[@^M5
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： sD2,!/'
[attachment=18989] ]z8 /S!?
Q4L=]qc T
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： mqHH1}
[attachment=18990] >~]|o
9<toDg_
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 8 5)C7tJ-g
[attachment=18991] Otx>S' 5
_9H]:]1QH
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 9I2&Vx=DSt
[attachment=18992] qg1\ABH
i2rSP $j
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： TBQ 68o
[attachment=18993] zPybP E8
0 Z]HH+Z;
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 [! wJIy?,
[attachment=18994] Eu~1t& 4
bZ:+q1
D
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： P0(LdZH6u
[attachment=18995] !iNwJ|0
K(PSGlI f
保存：Data_Save Design。
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