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| opturn | 2009-06-10 10:34 |  
| 光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 :n?rk/ F H*",'`|-
 例:评估一四分之一波片的光谱特性: 1XHE:0!dQ
 OgCNqW
d-
 参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52)  @CC
6`D
 QS-X_
 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). (>*L-&-
 UGoB7TEfn
 Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. 4-C'2?
 W/%9=g$m
 打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口:  58o&Dv6?
 [attachment=18985]  D\pX@Sx,v[
 d"lk"R
 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, +.xK`_[M
 [attachment=18986] xb&,9Lxd|
 o9OCgP`Y
 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK [-R[rF
 [attachment=18987] )6px5Vwz
 }%0X7'
 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 ._&SS,I5VZ
 [attachment=18988] |jcIn[)=
 &(|x-OT
 同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: Lo=n)cV 1,
 [attachment=18989]  hXD/
 iaRCV6cl
 单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: iY5V4Gbo
 [attachment=18990]  r<Q0zKW!jN
 `9acR>00$
 在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 	gq}c
 [attachment=18991]  [|(=15;
 8<=sUO
 可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , s$^2Qp
 [attachment=18992]  Y6(=cm
 cV4Y=
&
 在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: yI%q3lB}^
 [attachment=18993]  Nc?'},
 1*trtb4F
 上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 8T"kQB.Zv
 [attachment=18994] Bz>5OuOVS\
 dKa2_|k'
 单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: 7'|aEH
 [attachment=18995] @eq.&{&
 pfFHuS~
 保存:Data_Save Design。
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