| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 O !{YwE8x9
zBTW&
例:评估一四分之一波片的光谱特性: 1' v!~*af
q~[s KAh
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) d[J_iD{ &
MuQ)F-GSUu
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). {?IbbT
RR
^7/-
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. A;RV~!xx
F ;8Q`$n
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： -~ l q <M
[attachment=18985] O>1Cx4s5
(IVhj^dQm
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， t(-,mw
[attachment=18986] nH k^trGm
y32$b,%Xi,
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK n +hL/aQ+
[attachment=18987] 16 ~E
D_0Vu/v
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 _W _< bI34
[attachment=18988] ""a$[[ %WC
; tZQ9#S
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： #0[^jJ3J
[attachment=18989] j;Z?q%M{6
`HkNO@N[
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： yG/!K uA
[attachment=18990] B6k<#-HAT
,r;xH}tbi
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 2a48( ~<_
[attachment=18991] ybE 2N
#IM .7`I
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， tLa%8@;'$
[attachment=18992] |&rCX fC
I*3}er T
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： n *=#jL
[attachment=18993] o#,^7ln
xi(\=LbhY
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 #xw*;hW<
[attachment=18994] !LwHKCj
- R:_o1"
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： %csr Nf
[attachment=18995] >!xyA;
.Ln a\Bv
保存：Data_Save Design。
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