| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 rVx?Yo1F'
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E
例:评估一四分之一波片的光谱特性: _:l<4u !
W$Zc;KRz$0
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) Hy1f,D
L QP4#7
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). E- rXYNfy
`!g
XA.9Uv
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. {~:F1J~=
L}%4YB
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： ppM^&6x^
[attachment=18985] AT,?dxP J
Z= P=o ldH
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， ?\Z-3l% M
[attachment=18986] @g'SH:}
M kadl<
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK {piZm12q?
[attachment=18987] T1r^.;I:
CI6q Dh6
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 j!<R Y>u
[attachment=18988] })}-K7v1+
G!IJ#|D:~
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： O}_Z"y
[attachment=18989] *S4* FH;8
(T0%H<#+
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： [ Lo}_v&
[attachment=18990] ~2*8pb 4
L1E\^)
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 c/E6}OWA
[attachment=18991] 0UT2sM$
6?c(ue iL[
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， qjp<_aw
[attachment=18992] .4 wp
ROHr%'owgL
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： ?#917M
[attachment=18993] 8o;9=.<<~u
?(CMm%(8
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 ,HdFE|
[attachment=18994] 3 _tO
i;$'haK<
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： eqze7EY
[attachment=18995] *xOrt)D=
L?n*b
保存：Data_Save Design。
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