| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 ? Bq"9*q
Z{EHV7
例:评估一四分之一波片的光谱特性: M]!R}<]{
<wFR%Y/j
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) 49bzHEqZ
/v: g' #n
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). BXO(B'1)]
'C1=(PE%`
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. Ra '0 ^4t
eQx9 Vnb
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： ]3
YJE P
[attachment=18985] [Oxmg?W
$R2T)
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， l:a+o gm3
[attachment=18986] gd]vrW'wj
MxuwEV|^
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ({yuwH?tH
[attachment=18987] %:h)8e-;
~cz] Rhq
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 v! E0/
gD
[attachment=18988] Ox 8dnPcx
3%/]y=rA
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： /wK5YN.em
[attachment=18989] y<m{eDV7
_b<Fz`V
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： D IB Az s
[attachment=18990] ;9q3Fu R
a_^3:}i~D
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 /R^HRzT O
[attachment=18991] 7ks09Cy
>-r\]/^
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， tE]g*]o
[attachment=18992] 9r
fR
s{NEP/QQJ
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： >MUwT$szs
[attachment=18993] f Piq
c,Zs.
kC
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 `4.Wdi-Si
[attachment=18994] n>Y3hY
q#pBlJ.LK
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： WHBQA\4
[attachment=18995] Xj&{M[k<
{0lY\#qcE
保存：Data_Save Design。
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