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opturn 2009-06-10 10:34

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 6"+/Imb-  
t*<@>]k  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: JZ#O"rF  
9 *>@s  
参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) 2[WH8l+  
8K qrB!  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). J23Tst#s  
|eD$eZ=m  
Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. 9qIdwDRY  
1mT3$Z  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: D ==H{c1F  
[attachment=18985] 5GD6%{\O  
YE<_a;yh1  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, R"Q=U}?$  
[attachment=18986] 21Z}Zj  
I!IWmU6FN  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK :r0?[#r?N,  
[attachment=18987] l{U-$}  
S1 22. I  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 lq2P10j@  
[attachment=18988] =rBNEd  
e1'<;;; L  
同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: v-`RX;8  
[attachment=18989] &A=>x  
Fb#_(I[aj  
单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: 6?-vj2,  
[attachment=18990] ?yKW^,q+  
Xo[={2_  
在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 mjdZ^  
[attachment=18991] [a~|{~?8  
H]@M00C  
可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , 5a moK7  
[attachment=18992] N*.JQvbnr  
#R&D gt  
在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: iN\D`9e  
[attachment=18993] n[#!Q`D  
}eA2y($N  
上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 02Z># AE  
[attachment=18994] TxZ ^zj  
M7R.? nk  
单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: zcCX;N  
[attachment=18995] Gi})*U]P|  
mSSDV0Pfn  
保存:Data_Save Design。
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