| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 N 5rY*S
z= -u89]
例:评估一四分之一波片的光谱特性: 0Ng6Xg(QHc
BciwS_Qx
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) $jb 0/
n37C"qJ/i
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). < JHU* Z
R0;c'W)
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. cI4%z eR
*$x/(!UE
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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[attachment=18985] l^ni"X
d3T|N\(DL
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， UM7Ft"
[attachment=18986] !W/O g 5n
l/yLSGjM
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK g*ES[JJH&
[attachment=18987] D5)qmu
[] 0`>rV q
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 N~ljU;wo-9
[attachment=18988] ?6B)Ek,'X?
)$yqJ6y5
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： Hjli)*ev
[attachment=18989] =/J4(# Xb
!h7` W*::
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： VG+Yhm<SL
[attachment=18990] r!yrPwKL
UuAn`oYhV
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 zzuDI_,/
[attachment=18991] JGSeu =)
3mZX@h@
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， <"/Y`/
[attachment=18992] JiP]F J;
[9a0J):w{
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： SxC$EQ gL
[attachment=18993] ppVjFCv0<
a2UER1Yp"
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 z7M Jxj H
[attachment=18994] 7*OO k "9
*D F5sY
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： N2;T\xx,
[attachment=18995] 4XQ v
M{zzXE[@
保存：Data_Save Design。
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