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2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 6"+/Imb- t*<@>] k 例:评估一四分之一波片的光谱特性: JZ#O"rF 9 *>@s 参数为:QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
2[WH8l+ 8KqrB! 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). J23Tst#s |eD$eZ=m Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. 9qIdwDRY 1mT3$Z 打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: D
==H{c1F [attachment=18985] 5GD6%{\O YE<_a;yh1 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, R"Q=U}?$ [attachment=18986] 21Z}Zj I!IWmU6FN 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK :r0?[#r?N, [attachment=18987] l{U-$} S1 22.
I 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 lq2P10j@ [attachment=18988] =rBNEd e1'<;;; L 同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: v-`RX;8 [attachment=18989] &A=>x Fb#_(I[aj 单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: 6?-vj2, [attachment=18990] ?yKW^,q+ Xo[={2_ 在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 mjdZ^ [attachment=18991] [a~|{~?8 H]@M00C 可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , 5a
moK7 [attachment=18992] N*.JQvbnr #R&Dgt
在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: iN\D`9e [attachment=18993] n[# !Q`D }eA2y($N 上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 02Z>#AE [attachment=18994] TxZ ^zj M7R.?nk 单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: zcCX;N [attachment=18995] Gi})*U]P| mSSDV0Pfn 保存:Data_Save Design。
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