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oudexu 2009-01-06 20:48

关于沉积速率调整的一个问题

请教大家一个问题 cH4 PrMm&  
假如要降低镀膜的沉积速度,把靶基距调大或减小靶的溅射率,它们的效果一样吗?比如镀出来的膜的折射率,消光系数,薄膜的晶体结构等有什么差别吗? Y"r728T`K  
机器:离子溅射  
timberwolf 2009-03-25 10:29
当然不一样。膜层的附着力、应力和均匀性都效果不同。就看你的要求了。
renlgj 2024-08-22 22:36
跟着学习了
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