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2008-07-16 10:15 |
基本薄膜材料介绍
名称:钇(Y) 1G67#L)USq 三氧化二钇,(Y2O3)使用电子枪蒸镀,该材料性能随膜厚而变化,在500nm时折射率约为1.8.用作铝保护膜其极受欢迎,特别相对于800—12000nm区域高入射角而言,可用作眼镜保护膜,且24小时暴露于湿气中.一般为颗粒状和片状. Ryygq,>VD. 透光范围(nm) 折射率(N)500nm 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 蒸气成分 G,c2?^#n 250--8000 1.79 2300--2500 电子枪 防反膜,铝保护膜 49<t2^1q : 2$*'{mM 名称:二氧化铈(CeO2) ?=^\kXc[ 使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发,在200℃的基板上蒸着二氧化铈,得到一个约为2.2的折射率,在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化,在300℃基板500nm区域折射率为2.45,在波长短过400nm时有吸收,传统方法蒸发缺乏紧密性,用氧离子助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般为颗粒状,还可用一增透膜和滤光片等. 4*9t:D|} 透光范围(nm) 折射率(N)500nm 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 杂气排放量 ?Bl/bY$*h 400--16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜, 多 ?FUK_] @|sBnerE 名称:氧化镁(MgO) ;< | |