| 阿秋 |
2008-04-03 20:59 |
使用TracePro模擬薄膜厚度改變後之透射率問題
Dear各位大大................. Q\ QSnMM&]
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我在做led模擬，目前遇到些瓶頸，請各位大大為我解答一下....... {Xjj- @
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以下是我的模擬資料，其模擬目的為研究薄膜厚度與透射率改變影響光強度(lux)之關係........ a3f- 9LN
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1.LED Chip：由substrate(300µm*300µm*100µm)及p-n junction組成(n-type為300µm *300µm*4µ pO_$ 8=G+
m；p-type為300µm*300µm*0.3µm )。 qh]D=i
z^FJ
2.基板：Sapphire substrate (藍寶石基板)，Index=1.7。 f>!H<4
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'vP"& l rn
3.材料：GaN (氮化鎵)，Index=2.4。 K Y=$RO
x \i+MVR-
4.光源：p-n junction上下面各1 流明，共2流明。 X21k7 Ls
O>KrTK-AV
5.光束：p-n junction上下面各1000 rays，共2000 rays。 L2Vj2o"x?
J4woZ{d
6.監視面：10mm*10mm之正方面。 r.JM!x8
(i1q ".
7.距離：LED Chip與監視面之間距離為15mm。 ns&3Dh(IVP
Qq|c% FZ
8.模擬光源假設條件： Fd1 t/B,
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(1)藍寶石基板其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收，無反射現象，上部無任何設定，下部設定為全反射(假設當作一維光子晶體模擬)。 o..iT:f;n
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(2)LED Chip其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收，無反射現象，上部與下部無任何設定。 9< |nJt
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9.我在p-type上再加設一層薄膜index為1.7，設定為不發光，其厚度由100nm、110nm、120nm一直到200nm，但我做研究的結果，其厚度改變，但結果卻是不變，也就是說光強度並未改變，我有設important sampling，target center z為15.003，如果薄膜厚度改變，其光強度不變的話，與光學原理不符，請問我是不是在哪裡有設定錯誤呢? N h Y`_ ?)
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