首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 请教镀膜中碰到的问题 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

shuangzixing 2005-12-19 12:20

请教镀膜中碰到的问题

前几天在镀可见区增透膜时,在镀的时候没发现异常情况可出罩时发现在基片上有很小的亮点.不是膜点.不能擦掉.做了3罩每罩都有一快.请老师判断.材料是氧化锆.氧化硅.氟化镁
flyinlove79 2005-12-19 17:14
如果基底确实处理干净了 9peB+URV  
就看预熔材料的时候，挡板有没有挡住 lK@r?w|<M  
氟化镁除气有没有彻底，这个材料容易上点子 </Lqk3S-!  
材料在蒸发的时候有没有速率过快
shuangzixing 2005-12-20 17:48
老师：这几点我都注意了。象这种膜系我们经常做，就这几罩有这现象。谢谢
birdy 2005-12-20 18:01
如果真空室脏了的话，也回出现这种情况的
flyinlove79 2005-12-21 17:56
如果每罩只有几块的话，估计不是玻璃没有处理好，就是材料发生嘣溅，特别是MgF2材料，预熔不好的话就容易发生嘣溅。
shuangzixing 2005-12-22 18:02
谢谢老师提醒,这几天我把真空室打扫了.没发现这情况了
ljq2007 2010-05-13 10:48
mgf2膜料喷点
shenbin 2010-05-13 11:54
MGF2的速率一只很稳定的吗你们公司？计算机上的速率曲线是一条很直的线吗？ Etk<`GRfA  
我们公司的好象那条曲线不是很直啊
查看本帖完整版本: [-- 请教镀膜中碰到的问题 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2024 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计