| plok531 |
2008-01-03 22:49 |
Macleod 薄膜設計 問題
300~380 T abs <1% ， T=50%@405nm +- 10nm 2b1:Tt9
425~680 Tave >90% ， T=50%@720nm +-10nm 5OE?;PJ(
780~1200 nm T ave <1% w` :KexD+
^r$5];n
用 (0.5H L 0.5H)^s (0.5L H 0.5L)^s (0.5L H 0.5L)^s 3個膜堆(2短1長 ) -ZJ :<
CKgyv%T5m:
H： Ta2O5 L：SiO2 B`Pi\1H6%
0C_Qp% Z
該如何設計
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