| plok531 |
2008-01-03 22:49 |
Macleod 薄膜設計 問題
300~380 T abs <1% ， T=50%@405nm +- 10nm )8&Q.? T
425~680 Tave >90% ， T=50%@720nm +-10nm ))!Z2PfD
780~1200 nm T ave <1% 5L|yF"TI#
Kv+E"2d
用 (0.5H L 0.5H)^s (0.5L H 0.5L)^s (0.5L H 0.5L)^s 3個膜堆(2短1長 ) 5 d|*E_yu
uW4G!Kw28
H： Ta2O5 L：SiO2 HhN H"b&
RrLQM!~
該如何設計
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