| plok531 |
2008-01-03 22:49 |
Macleod 薄膜設計 問題
300~380 T abs <1% ， T=50%@405nm +- 10nm 9|=nV|R'6
425~680 Tave >90% ， T=50%@720nm +-10nm h$Tr s O
780~1200 nm T ave <1% h<Wg 3o
ltSh'w0
用 (0.5H L 0.5H)^s (0.5L H 0.5L)^s (0.5L H 0.5L)^s 3個膜堆(2短1長 ) h<% U["
^f|<R8 `
H： Ta2O5 L：SiO2 KjOi(YUnq7
q-
:4=vkn
該如何設計
|
|
