| 
| plok531 | 2008-01-03 22:49 |  
| Macleod 薄膜設計 問題
300~380  T abs <1%   , T=50%@405nm +- 10nm ~t:b<'/ 425~680  Tave >90%   ,  T=50%@720nm +-10nm $CmX
&%L=
 780~1200 nm T ave <1%  +2zuIW.
 4Z}bw#
 用 (0.5H L 0.5H)^s  (0.5L H 0.5L)^s (0.5L H 0.5L)^s     3個膜堆(2短1長 ) Q@2tT&eL
 mei_aN7zW
 H: Ta2O5     L:SiO2 &Bn;	Vi
 k,7+=.6
 該如何設計
 |  |