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infotek 2026-10-30 15:51

薄膜设计与镀膜工艺线下课程

薄膜设计与镀膜工艺
-JFW ,8=8  
时间地点 j-FMWEp  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司(微信公众号:讯技光电INFOTEK) J^~J&  
苏州黉论教育咨询有限公司(微信公众号:honglun-seminary) [W <j  
课程时间: 2026/12/4(四)-12/6(日) .6bo  
课程地点:上海讯技 7nW <kA  
课程讲师:讯技光电工程团队成员 "l#"c{ee{  
课程费用:4800RMB/1人次(包含课程材料费、开票税金、午餐费) )RWukr+  
课程简介: X"HVK+  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ke/4l?zs  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ;vpq0t`  
    易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 9]/:B8k  
x&EMg!  
课程大纲: 9c{ ~$zJW  
1.Essential Macleod软件介绍 #D >:'ezm  
1.1 介绍软件 dWhqu68_  
1.2 创建一个简单的设计 ^R7X!tOq4  
1.3 绘图和制表来表示性能 &{q'$oF  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Ou f\%E<  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) I0^oaccM  
1.6 特定设计的公式技术 \3F)M`g  
1.7 交互式绘图 -Wre4 ^,v  
2.光学薄膜理论基础 : 'jVA  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 moMNd(p  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 KyqP@ {  
3. 材料管理 ~!%G2E!  
3.1 材料模型 jD6T2K7i  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 !y2yS/  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 _,p/2m-Pj  
3.4 基板光学常数的提取 3u;0,:X&  
4. 光学薄膜设计优化方法 kmu7~&75  
4.1 参考波长与g ?dCJv_w  
4.2 四分之一规则 0p\Kf(|E*6  
4.3 导纳与导纳图 ?]TtUoY=)F  
4.4 斜入射光学导纳 G('UF1F  
4.5 光学薄膜设计的进展 /}5)[9GC  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 {D [z>I;D  
4.6.1 优化目标设置 i+I1h=  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) CXi:?6OG  
4.6.3 膜层锁定和链接 eX0 [C0#  
5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用 x Y}.mP  
5.1 减反射薄膜 /<o?T{z<-  
5.2 分光膜 W&&C[@Jd3  
5.3 高反射膜 xBqZ: BQ  
5.4 干涉截止滤光片 E*+]Iq1u  
5.5 窄带滤光片 ydE}.0zN  
5.6 负滤光片 /\E3p6\*  
5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 e8z?) 4T  
5.8 仿生蛾眼/复眼结构 v <| iN#  
5.9 颜色膜 aQj6XG u  
5.10 Vstack薄膜设计示例 xi)M8\K  
5.11 Stack应用范例说明 iU# "G" &  
6. 薄膜性能分析 `t g=__D  
6.1 电场分布 \e%%ik,<  
6.2 公差与灵敏度分析 Rgz zbW  
6.3 反演工程 UGoB7TEfn  
6.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 J@ 8OU  
7. 真空技术 %e+*&Z',  
7.1 常用真空泵介绍 5hDPX \  
7.2 真空密封和检漏 [X@JH6U r  
8. 薄膜制备技术 q$}gQ9'z'  
8.1 常见薄膜制备技术 xb&,9Lxd|  
9. 薄膜制备工艺 bPuO~#iN~  
9.1 薄膜制备工艺因素 FbW$H]C$  
9.2 薄膜均匀性修正技术 >U]KPL[%  
9.3 光学薄膜监控技术 B}N1}i+  
10. 激光薄膜 g5*?2D}dqX  
10.1 薄膜的损伤问题 a!;#u 8f  
10.2 激光薄膜的制备流程 V2'5doo  
10.3 激光薄膜的制备技术 &=wvlI52`  
11. 光学薄膜特性测量 =L{-Hu/j  
11.1 薄膜光谱测量 l}D /1~d  
11.2 薄膜光学常数测量 nrbP3sf*  
11.3 薄膜应力测量 KfQR(e9n   
11.4 薄膜损伤测量 q/qig5Ou  
11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 $1k@O@F(4  
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有兴趣学习者请联系微信号18019382784
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