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薄膜设计与镀膜工艺 12.4-6号上海线下专题课程
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infotek
2026-10-10 14:49
薄膜设计与镀膜工艺 12.4-6号上海线下专题课程
薄膜设计与镀膜工艺
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时间地点
?0F#\0
主办单位
:讯技光电科技(上海)有限公司(微信公众号:讯技光电
INFOTEK
)
.x&>H
苏州黉论教育咨询有限公司(微信公众号:
honglun-seminary
)
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课程时间:
2026/12/4
(四)
-12/6
(日)
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课程
地点
:
上海讯技
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课程讲师
:讯技光电工程团队成员
XT\;2etVL
课程费用
:
4800RMB/1
人次
(
包含课程材料费、开票税金、午餐费
)
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课程简介:
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随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
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本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件
Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
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易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、
X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。
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课程大纲:
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1.
Essential Macleod
软件介绍
gDH x+"?
1.1
介绍软件
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1.2
创建一个简单的设计
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1.3
绘图和制表来表示性能
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1.4
通过剪贴板和文件导入导出数据
ZD*>i=S
1.5
可用的材料模型(
Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann
)
Jx_4:G
1.6
特定设计的公式技术
9Rpj&0Is
1.7
交互式绘图
=1D*K%
2.
光学薄膜理论基础
hd900LA}
2.1
垂直入射时的界面和薄膜特性计算
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2.2
后表面对光学薄膜特性的影响
W`KkuQ4cM
3.
材料管理
drH!?0Dpg
3.1
材料模型
Z`[j;=[
3.2
介质薄膜光学常数的提取
]l4\/EW6
3.3
金属薄膜光学常数的提取
>?5`FC
3.4
基板光学常数的提取
oR~+s&c