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infotek 2026-10-10 14:49

薄膜设计与镀膜工艺 12.4-6号上海线下专题课程

薄膜设计与镀膜工艺
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时间地点 ?0F#\0  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司(微信公众号:讯技光电INFOTEK) .x&>H  
苏州黉论教育咨询有限公司(微信公众号:honglun-seminary) n=~?BxB  
课程时间: 2026/12/4(四)-12/6(日) 1RLSeT  
课程地点:上海讯技 p O.8>C%  
课程讲师:讯技光电工程团队成员 XT\;2etVL  
课程费用:4800RMB/1人次(包含课程材料费、开票税金、午餐费) Al?XJ C B@  
课程简介: 7u;B[qH  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 pc #^ {-  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 d)@M MF  
    易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 -HOCxR  
se-}d.PwL  
课程大纲: ["z$rk  
1.Essential Macleod软件介绍 gDH x+"?  
1.1 介绍软件 ??4QDa-  
1.2 创建一个简单的设计 X~0P+E#  
1.3 绘图和制表来表示性能 ,b/0_Q  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ZD*>i=S  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Jx_4:G  
1.6 特定设计的公式技术 9Rpj&0Is  
1.7 交互式绘图 =1D*K%  
2.光学薄膜理论基础 hd900LA}  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 8164SWB  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 W`KkuQ4cM  
3. 材料管理 drH!?0Dpg  
3.1 材料模型 Z`[j;=[  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ]l4\/E W6  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 >?5`FC  
3.4 基板光学常数的提取 oR~+s &c  
4. 光学薄膜设计优化方法 Mc.KLz&,FC  
4.1 参考波长与g 2- )Ml*  
4.2 四分之一规则 7+0hIKrFC  
4.3 导纳与导纳图 PUI.Un2C_  
4.4 斜入射光学导纳 R1U\/  
4.5 光学薄膜设计的进展 R,(^fM  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 "l!"gc87  
4.6.1 优化目标设置 .UJk0%1  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) i"r=b%;;  
4.6.3 膜层锁定和链接 SU*P@?:/}  
5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用 W1#3+  
5.1 减反射薄膜 #)XO,^s.  
5.2 分光膜 z*FlZLHY  
5.3 高反射膜 C~ >'pS6%5  
5.4 干涉截止滤光片 Q.nEY6B_  
5.5 窄带滤光片 lcih [M6z  
5.6 负滤光片 Dq\#:NnKvx  
5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 y};qo'dlt  
5.8 仿生蛾眼/复眼结构 UHXlBH@  
5.9 颜色膜 H94$Xi"Bd  
5.10 Vstack薄膜设计示例 RgEUTpX  
5.11 Stack应用范例说明 Odagaca  
6. 薄膜性能分析 seJc,2Ex  
6.1 电场分布 D4@=+  
6.2 公差与灵敏度分析 UF}fmDi  
6.3 反演工程 8z@A/$T  
6.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 p/@z4TCNX  
7. 真空技术 o#;w >-  
7.1 常用真空泵介绍 L&l> ?"_  
7.2 真空密封和检漏 ])e6\)  
8. 薄膜制备技术 A=BpB}b  
8.1 常见薄膜制备技术 lG q;kIQ  
9. 薄膜制备工艺 18a6i^7  
9.1 薄膜制备工艺因素 CvlAn7r,@  
9.2 薄膜均匀性修正技术 SJw0y[IL6(  
9.3 光学薄膜监控技术 fE7Kv_N-%  
10. 激光薄膜 2 !{P<   
10.1 薄膜的损伤问题 O#9Q+BD  
10.2 激光薄膜的制备流程 /bg8oB4  
10.3 激光薄膜的制备技术 lnTl"9F  
11. 光学薄膜特性测量 wp$SO^?-  
11.1 薄膜光谱测量 s*rtm  
11.2 薄膜光学常数测量 y![h  
11.3 薄膜应力测量 gJ2R(YMF  
11.4 薄膜损伤测量 \,~gA   
11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 _QCAV+K'  
S# SA:>8s  
有兴趣学习者请联系微信号18019382784
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