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cyqdesign 2026-08-31 20:16

先进光刻机曝光系统光学设计

先进光刻机是制造高端芯片的利器,只有少数国家掌握先进光刻设备的研制和高端芯片的制造。《先进光刻机曝光系统光学设计》遵循国际半导体协会光刻技术发展路线图,结合作者20余年从事先进光刻机曝光系统的研究,重点介绍光刻28nm~14nm~7nm~5nm技术节点相关的深紫外和极紫外光刻机曝光系统设计研制技术,主要包括以下内容:光刻机发展历程以及深紫外/极紫外光刻机曝光系统光学设计的发展历程;光刻机曝光系统光学设计基础;浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计基础、方法与系统设计;深紫外光刻机照明系统光学设计基础、方法与系统设计;极紫外光刻机匀倍率/变倍率物镜系统光学设计基础、方法与系统设计;极紫外光刻机匀倍率/变倍率照明系统光学设计基础、方法与系统设计。 } +}nrJv  

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M5ZH6X@5  
Qc3d<{7\~  
目录 <E4(KE  
前言 EL$DvJ~  
第1章 绪论 1 9?H$0xZV  
1.1 光刻机发展简介 1 a#=d{/ ab  
1.2 深紫外光刻机曝光系统光学设计 3 C P}fxDW  
1.2.1 深紫外光刻机物镜系统的光学设计 3 =G:Krc8w@  
1.2.2 深紫外光刻机照明系统的光学设计 7 b^$`2m-?@f  
1.3 极紫外光刻机曝光系统光学设计 11 {&n- @$?  
1.3.1 极紫外光刻机物镜系统的光学设计 12 %6320 x  
1.3.2 极紫外光刻机照明系统的光学设计 16 /e0B$UymFu  
参考文献 20 T;92M}\  
第2章 光刻机曝光系统光学设计基础 29 (p[#[CI9  
2.1 光学表面结构 29 %=UD~5!G0  
2.1.1 球面 29 fWmc$r5n](  
2.1.2 非球面 30 '#f<wf n  
2.1.3 自由*面 31 MW 7~=T  
2.2 光刻机物镜系统的光学设计基础 34 @KTuG ?.  
2.2.1 光刻机物镜系统的设计方法 35 tTy!o=  
2.2.2 光刻机物镜系统的优化方法 36 >K9Ia4I,  
2.2.3 成像光学系统像质评价方法 39 T/3LJGnY  
2.3 光刻机照明系统的光学设计基础 49 8OZj24*'DS  
2.3.1 光能及其计算 49 /y G34) aB  
2.3.2 照明系统基本组成 53 -wXeue},>  
参考文献 54 r E+B}O  
第3章 浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计 56 rkjnw@x\  
3.1 浸没式深紫外光刻机物镜系统设计基础 56 A3a//e  
3.1.1 浸没式深紫外光刻机物镜系统设计的主要性能 56 |#2WN-  
3.1.2 浸没式深紫外光刻机物镜系统的光学材料 57 8gP1]xD  
3.2 浸没式深紫外光刻机物镜系统分组设计方法 58 mKZzSd)p  
3.2.1 浸没式深紫外光刻机物镜系统分组方法 58 3J#LxYK  
3.2.2 光学元件增减与面型优化方法 59 7%Y`j/  
3.2.3 浸没式深紫外光刻机物镜系统初始结构设计方法 62  O`@Nl  
3.3 浸没式深紫外光刻机物镜系统设计 69 ^aSb~lce  
3.3.1 多维度参数优化策略 69 VvyRZMR  
3.3.2 公差分析方法 70 kkq1:\pZ]a  
3.3.3 NA1.35深紫外物镜系统优化设计 72 `j>5W<5q\  
参考文献 79 c*)T4n[e  
第4章 深紫外光刻机照明系统光学设计 81 efXnF*Z  
4.1 深紫外光刻机照明系统设计基础及方案 81 L]kBY2c  
4.1.1 深紫外光刻机照明系统的设计基础 81 k`:zQd^T  
4.1.2 深紫外光刻机照明系统的设计方案 83 m.K cTM%j  
4.2 深紫外光刻机照明系统双向设计方法 85 ^X96yj'?  
4.2.1 深紫外光刻机照明系统的匀光照明子系统设计 85 SboHo({5VA  
4.2.2 深紫外光刻机照明系统的光束整形子系统设计 86 |T|m5V'l  
4.2.3 深紫外光刻机照明系统的偏振照明子系统设计 94 c<_%KL&R  
4.3 深紫外光刻机照明系统设计 100 b(0<,r8  
4.3.1 NA1.35深紫外光刻机照明系统设计 100 r^~+ <"  
4.3.2 照明系统仿真分析 105 h^\vk!Q-d  
4.3.3 照明光源仿真分析 106 AM}2=Ip  
参考文献 109 ,&_H  
第5章 极紫外光刻机物镜系统光学设计 112 ?@rd,:'dE  
5.1 极紫外光刻机物镜系统设计基础 112 pp@ Owpb  
5.1.1 匀倍率极紫外光刻机物镜系统设计基础 112 hp~q!Q1=  
5.1.2 变倍率极紫外光刻机物镜系统设计基础 113 7_I83$p'  
5.2 极紫外光刻机物镜系统分组设计方法 115 7 9t E  
5.2.1 极紫外光刻机物镜系统分组方法 115 w5%Yi {  
5.2.2 匀倍率极紫外光刻机物镜系统初始结构设计方法 116 WQ9e~D"  
5.2.3 变倍率极紫外光刻机物镜系统初始结构设计方法 123 _9h$8(wjn  
5.3 极紫外光刻机物镜系统设计 130 8FuxN2  
5.3.1 极紫外光刻机物镜系统优化方法 130 d6J/)nl  
5.3.2 NA0.33匀倍率极紫外光刻机物镜系统设计 130 aD: #AmbJ  
5.3.3 NA0.55变倍率极紫外光刻机物镜系统设计 134 Ixa0;nxj  
参考文献 137 ;QBS0x\f@  
第6章 极紫外光刻机照明系统光学设计 139 4qid+ [B  
6.1 极紫外光刻机照明系统设计基础及方案 139 ]*=4>(F[  
6.1.1 极紫外光刻机照明系统设计基础 139 296}LW  
6.1.2 极紫外光刻机照明系统设计方案 140 wEjinP$2  
6.2 极紫外光刻机照明系统逆向设计方法 141 E#J})cPzw  
6.2.1 极紫外光刻机照明系统中继镜组设计 142  pQiC#4b  
6.2.2 极紫外光刻机照明系统双排复眼设计 151 a:cci?cb  
6.2.3 极紫外光刻机照明系统双排复眼对位匹配方法 158 ?9~^QRLT  
6.3 极紫外光刻机照明系统设计 163 pl]|yIZ  
6.3.1 极紫外光刻机照明系统光源 163 XO <0;9|  
6.3.2 匀倍率极紫外光刻机照明系统设计 164 ME)Tx3d  
6.3.3 变倍率极紫外光刻机照明系统设计 167 Lk(ESV;r  
参考文献 176 gQeQy  

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