先进光刻机曝光系统光学设计
先进光刻机是制造高端芯片的利器,只有少数国家掌握先进光刻设备的研制和高端芯片的制造。《先进光刻机曝光系统光学设计》遵循国际半导体协会光刻技术发展路线图,结合作者20余年从事先进光刻机曝光系统的研究,重点介绍光刻28nm~14nm~7nm~5nm技术节点相关的深紫外和极紫外光刻机曝光系统设计研制技术,主要包括以下内容:光刻机发展历程以及深紫外/极紫外光刻机曝光系统光学设计的发展历程;光刻机曝光系统光学设计基础;浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计基础、方法与系统设计;深紫外光刻机照明系统光学设计基础、方法与系统设计;极紫外光刻机匀倍率/变倍率物镜系统光学设计基础、方法与系统设计;极紫外光刻机匀倍率/变倍率照明系统光学设计基础、方法与系统设计。 } +}nrJv
[attachment=135900] M5ZH6X@5
Qc3d<{7\~ 目录 <E4(KE 前言 EL$DvJ~ 第1章 绪论 1 9?H$0xZV 1.1 光刻机发展简介 1 a#=d{/ab 1.2 深紫外光刻机曝光系统光学设计 3 C P}fxDW 1.2.1 深紫外光刻机物镜系统的光学设计 3 =G:Krc8w@ 1.2.2 深紫外光刻机照明系统的光学设计 7 b^$`2m-?@f 1.3 极紫外光刻机曝光系统光学设计 11 {&n- @$? 1.3.1 极紫外光刻机物镜系统的光学设计 12 %6320 x 1.3.2 极紫外光刻机照明系统的光学设计 16 /e0B$UymFu 参考文献 20 T;92M}\ 第2章 光刻机曝光系统光学设计基础 29 (p[#[CI9 2.1 光学表面结构 29 %=UD~5!G0 2.1.1 球面 29 fWmc$r5n]( 2.1.2 非球面 30 '#f<wfn 2.1.3 自由*面 31 MW7~=T 2.2 光刻机物镜系统的光学设计基础 34 @KTuG ?. 2.2.1 光刻机物镜系统的设计方法 35 tTy !o= 2.2.2 光刻机物镜系统的优化方法 36 >K9Ia4I, 2.2.3 成像光学系统像质评价方法 39 T/3LJGnY 2.3 光刻机照明系统的光学设计基础 49 8OZj24*'DS 2.3.1 光能及其计算 49 /yG34) aB 2.3.2 照明系统基本组成 53 -wXeue},> 参考文献 54 rE+B}O 第3章 浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计 56 rkjnw@x\ 3.1 浸没式深紫外光刻机物镜系统设计基础 56 A3a/ /e 3.1.1 浸没式深紫外光刻机物镜系统设计的主要性能 56 |#2WN- 3.1.2 浸没式深紫外光刻机物镜系统的光学材料 57 8gP1]xD 3.2 浸没式深紫外光刻机物镜系统分组设计方法 58 mKZzSd)p 3.2.1 浸没式深紫外光刻机物镜系统分组方法 58 3J#LxYK 3.2.2 光学元件增减与面型优化方法 59 7%Y`j/ 3.2.3 浸没式深紫外光刻机物镜系统初始结构设计方法 62 O`@Nl 3.3 浸没式深紫外光刻机物镜系统设计 69 ^aSb~lce 3.3.1 多维度参数优化策略 69 VvyRZMR 3.3.2 公差分析方法 70 kkq1:\pZ]a 3.3.3 NA1.35深紫外物镜系统优化设计 72 `j>5W<5q\ 参考文献 79 c*)T4n[e 第4章 深紫外光刻机照明系统光学设计 81 efXnF*Z 4.1 深紫外光刻机照明系统设计基础及方案 81 L]kBY2c 4.1.1 深紫外光刻机照明系统的设计基础 81 k`:zQd^T 4.1.2 深紫外光刻机照明系统的设计方案 83 m.K cTM%j 4.2 深紫外光刻机照明系统双向设计方法 85 ^X96yj'? 4.2.1 深紫外光刻机照明系统的匀光照明子系统设计 85 SboHo({5VA 4.2.2 深紫外光刻机照明系统的光束整形子系统设计 86 |T|m5V'l 4.2.3 深紫外光刻机照明系统的偏振照明子系统设计 94 c<_%KL&R 4.3 深紫外光刻机照明系统设计 100 b(0<,r8 4.3.1 NA1.35深紫外光刻机照明系统设计 100 r^~+<" 4.3.2 照明系统仿真分析 105 h^\vk!Q-d 4.3.3 照明光源仿真分析 106 AM}2=Ip 参考文献 109 ,&_H
第5章 极紫外光刻机物镜系统光学设计 112 ?@rd,:'dE 5.1 极紫外光刻机物镜系统设计基础 112 pp@
Owpb 5.1.1 匀倍率极紫外光刻机物镜系统设计基础 112 hp~q!Q1= 5.1.2 变倍率极紫外光刻机物镜系统设计基础 113 7_I83$p' 5.2 极紫外光刻机物镜系统分组设计方法 115 7 9tE 5.2.1 极紫外光刻机物镜系统分组方法 115 w5%Yi{ 5.2.2 匀倍率极紫外光刻机物镜系统初始结构设计方法 116 WQ9e~D" 5.2.3 变倍率极紫外光刻机物镜系统初始结构设计方法 123 _9h$8(wjn 5.3 极紫外光刻机物镜系统设计 130 8FuxN2 5.3.1 极紫外光刻机物镜系统优化方法 130 d6J/)nl 5.3.2 NA0.33匀倍率极紫外光刻机物镜系统设计 130 aD: #AmbJ 5.3.3 NA0.55变倍率极紫外光刻机物镜系统设计 134 Ixa0;nxj 参考文献 137 ;QBS0x\f@ 第6章 极紫外光刻机照明系统光学设计 139 4qid+ [B 6.1 极紫外光刻机照明系统设计基础及方案 139 ]*=4>(F[ 6.1.1 极紫外光刻机照明系统设计基础 139 296}LW
6.1.2 极紫外光刻机照明系统设计方案 140 wEjinP$2 6.2 极紫外光刻机照明系统逆向设计方法 141 E#J})cPzw 6.2.1 极紫外光刻机照明系统中继镜组设计 142 pQiC#4b 6.2.2 极紫外光刻机照明系统双排复眼设计 151 a:cci?cb 6.2.3 极紫外光刻机照明系统双排复眼对位匹配方法 158 ?9~^QRLT 6.3 极紫外光刻机照明系统设计 163 pl]|yIZ 6.3.1 极紫外光刻机照明系统光源 163 XO
<0;9| 6.3.2 匀倍率极紫外光刻机照明系统设计 164 ME)Tx3d 6.3.3 变倍率极紫外光刻机照明系统设计 167 Lk(ESV;r 参考文献 176 gQeQy
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