OptiBPM:创建一个简单的多模干涉(MMI)耦合器
主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: Z2.S:y. • 定义MMI耦合器的材料; kr=&x)Wy! • 定义布局设定; DXH"`1[- • 创建一个MMI耦合器; l+V#`S*q • 插入输入面; F~C9,`#Wf@ • 运行模拟; 6q8b>LG| • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 s .xJ},E9 L FncY(b 1. 定义MMI耦合器的材料 bVbh| AA 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: n>5/y
c"/q 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ *pOdM0AE BY&+fKae
图1.初始性能对话框 -$Ad#Eu]M 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” 9pPohR*#V QEb
^'y
图2.轮廓设计窗口 U>@st=" 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 *fIb|r B0&W wa: |+|q`SwJ
图3.电介质材料创建窗口 XoO#{7a 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: Hyj<Fqr!. − Name : Guide r^2>60q' − Refractive Index (Re) : 3.3 p^yuz ( − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 TSPFi0PP yH:gFEJ:x
图4.创建Guide材料 Kj+=?R~}S 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: kM>Bk\ − Name : Cladding ]'%Z&1 w − Refractive Index (Re) : 3.27 T*'?;u − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 7E}.P1 QUSyVp{$
图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 > 0kZ-M5 6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: Y#A0ud, − Name : Guide_Channel ;hcOD4or − 2D profile definition: Guide o2J-& − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 |;[%ZE" =D@+_7\?
图6.构建通道 x9NcIa9
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