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infotek 2026-08-24 11:23

OptiBPM:创建一个简单的多模干涉(MMI)耦合器

主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: Z2.S:y.  
• 定义MMI耦合器的材料; kr=&x)Wy!  
• 定义布局设定; DX H"`1[-  
• 创建一个MMI耦合器; l+V#`S*q  
• 插入输入面; F~C9,`#Wf@  
• 运行模拟; 6q8b>LG|  
• 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 s .xJ},E9  
L FncY(b  
1. 定义MMI耦合器的材料 bVbh| AA  
为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: n>5/y c"/q  
1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ *pOdM0AE  
BY&+fK ae  
图1.初始性能对话框
-$Ad#Eu]M  
2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” 9pPohR*#V  
QE b ^'y  
图2.轮廓设计窗口
U> @st="  
3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 *fIb|r  
B0&W wa:  
|+|q`SwJ  
图3.电介质材料创建窗口
XoO#{7a  
4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: Hyj<Fqr!.  
− Name : Guide r^2>60q'  
− Refractive Index (Re) : 3.3 p^yuz (  
− 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 TSPFi0PP  
yH:gFEJ:x  
图4.创建Guide材料
Kj+=?R~}S  
5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: kM>Bk \  
− Name : Cladding ]'%Z&1 w  
− Refractive Index (Re) : 3.27 T*'?;u  
− 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 7E}.P1  
QUSyVp{$  
      
图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 >0kZ-M5  
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: Y#A0ud,  
− Name : Guide_Channel ;hcOD4or  
− 2D profile definition: Guide o2J-&   
− 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 |;[%ZE"  
=D@+_7\?  
图6.构建通道
x9NcIa9  
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