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infotek 2026-08-19 11:44

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 td2bL4  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 iLFhm4.PO  
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场景 %W$?*Tm  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 N,`<:'  
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组件求解器 $ZE"o`=7  
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总结 )Y,>cg:z~  
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几何光学仿真 YPsuG -is  
通过光线追迹 V9kL\Ys  
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结果：光线追迹 2qUC@d<K  
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快速物理光学仿真 m.N/g,  
通过场追迹 u-E*_% y  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ws$!-t4<(  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -kd_gbnr3  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 u%=M4|7  
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总结 Yxt`Uvc(^h  
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文件信息 vxzOG?Xc:  
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