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infotek 2026-08-19 11:44

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 T]E$H, p  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 >#>YoA@S  
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场景 Q$RP2&  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 8SKDL[rN  
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系统构建块
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组件求解器 (S(=WG  
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总结 &os* @0h4  
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几何光学仿真 qnT:x{o  
通过光线追迹 LTJ|EXYA  
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结果:光线追迹 [c3hwogf:  
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快速物理光学仿真 [%bshaY:  
通过场追迹 XSZW9/I-(|  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 b},OCVT?  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 iaPY>EP1  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 uT;9xV%ch  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 bD49$N?>  
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总结 -vhgBru  
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文件信息 !&! sn"yD  
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