| 威武的兔子 |
2026-08-12 10:06 |
吉田邦夫与AJI树脂型WLO技术路线
前言 >E&mNp wXv\[zL` 晶圆级光学(WLO)两大主流路线:HOYA代表玻璃高温模压路线,另一支就是AJI树脂UV纳米模压路线,而吉田邦夫(Kunio Yoshida)正是这条路线最核心的发明人。 行业很多从业者听过AJI工艺,但很少将整套双面一体成型、防翘曲支架结构的专利脉络与吉田邦夫绑定;全网缺少系统性梳理,本文结合JP2008-276724母专利、中日同族专利与产业落地情况完整解析。 A ^YHtJ 一、吉田邦夫技术履历 z\Vu`Yz
- tH0=ysf
日本研发阶段:AJI株式会社 × 昭和电工联合研发 吉田邦夫早期任职アジ株式会社(AJI),与昭和电工协同开发UV树脂晶圆模压工艺。JP2008-276724 是该体系奠基母专利,专利权归属AJI、昭和电工,吉田邦夫为第一发明人。 这套专利奠定消费级摄像头、ToF传感器树脂基WLO量产工艺,也是全球最早规模化论证双面同步转印成型的专利组。 - 3+gp_7L
国内创业阶段:江苏核心技术负责人 离开AJI之后来华创业,持续深耕晶圆级微光学复制工艺。持续申请大量中国发明专利、实用新型专利,技术方向延续日本时期思路:
- lLy^@s
双面一体UV模压成型; - #!d@;=[\
晶圆外围一体化支撑支架抑制翘曲; -
9K*yds
大尺寸晶圆、多层堆叠透镜批量制造; - F0O"rN{
适配Ni电铸模具的高折杂化UV树脂成型体系。
%/17K2g 行业提示:公开网络、知乎极少专门文章介绍光电领域吉田邦夫,检索姓名极易被骨科、影视同名人物覆盖;圈内资料主要沉淀在专利库、光行天下论坛与行业线下研讨会。 eqK6`gHa6 Z `FqC 二、核心技术方案与重点专利解读 XkZ82w#b 1)母专利:JP2008-276724(造型方法以及造型装置) kYw k'\s Gma)8X# 传统工艺痛点 常规单面模压流程:先压一面→固化→翻面→再压另一面。两次成型引入二次对位误差;超薄树脂晶圆固化收缩引发翘曲、面型偏移;良率很难支撑多层堆叠WLO模组。 0*S2_&Q) kH
Y 吉田邦夫核心创新构思 上下两套独立镍电铸模具,双面同步/分步UV转印,单套工序在树脂坯体两面同时复刻透镜曲面。 ;EZ$8|
- dALJlRo"
减少一次翻面转移工序,消除二次对位偏心; - (,~gY=E+
两面树脂同步固化,应力分布更均衡; - &DC
o;Ij;
支持微透镜阵列、双面非球面WLO元件一体成型。 f)x^s$H 衍生布局:TW、中国大陆同族专利,覆盖成型装置、模具复制方法、脱模工艺。 ;W6P$@'zs 'ojI_%9< 2)标志性延伸专利:一体化支架构件防翘曲方案 4R5+"h: *k:Sg*neVq 代表公开专利:CN221476244U、CN115837764A(江苏敏而精密) 行业长期难题 高折射率UV杂化树脂固化收缩率高,6/8寸大尺寸晶圆成型后极易四周拱曲;翘曲直接造成后续切割、镀膜、堆叠装配失效。 /an$4?":~ ZSj^\JU 支架结构方案要点 在晶圆有效光学区域外围,一体成型连续环状支撑围堰(支架构件),与透镜阵列同片一体成型。 HMbF#!E
- OHixOI$O
成型阶段支撑整片晶圆,约束树脂自由形变; - A+d&aE}3V
平衡固化产生的面内应力,大幅降低全域翘曲量; - H~1&hF"d
切割工序再去除外围支架,保留中间有效光学芯片。 qiQS:0|_ 目前国内大量树脂WLO厂商改良防翘曲方案,底层思路均借鉴该专利架构,也是现阶段专利规避重点方向。 Z)cGe1?q "'
g*_ 3)配套工艺体系:Ni电铸模具+高折UV树脂 _w8iPL5: ]YcM45xg 吉田邦夫体系完整工艺链条: 光学母模 → 镍电铸复制工作模具 → 上下模具对位合模 → 注入液态高折UV树脂 → 双面UV曝光固化 → 脱模形成整片WLO晶圆 → 划片分割 早期与昭和电工共同匹配专用光学树脂,兼顾折射率、低收缩、模具脱模性,适配手机摄像头、3D传感微透镜量产。 1*aw~nY0 f8u m.Xnp6 三、AJI吉田树脂WLO路线 VS HOYA玻璃WLO路线对比 AyZL( p-QD(+@M 四、工艺路线优势与现存瓶颈 O+U9 p 优势 FL-yt
- @m14x}H
双面成型方案直击多层WLO最大痛点 多层堆叠晶圆镜头对偏心、面型一致性极其敏感,双面一体成型天然优于两次单面成型方案。 - V 4Y w"J
支架围堰结构有效解决大尺寸晶圆翘曲 在树脂材料收缩缺陷无法彻底根除前提下,通过结构设计进行应力补偿,落地可行性强。 - .0$$H"t
产业链门槛相对适中,便于国产化 不需要玻璃熔炼、高温模压整套重资产,国内近年多家企业沿着该技术路线进行开发。 48
DC Z3Le?cMt^ 瓶颈与挑战 gKK*`
L~
- (vHB`@x
专利壁垒 JP2008-276724家族、支架构件专利形成基础专利墙;国内厂商需要做工艺结构规避或开展专利许可谈判。 - }$-;P=k
材料物理上限 有机树脂CTE远高于玻璃,温度变化下焦距漂移问题限制高端车载、工业光学应用。 - {%!.aQ,
工艺控制门槛极高 想要发挥双面模压优势,对模具平行度、UV光照均匀性、树脂填充气泡控制、合模压力控制要求严苛;参数窗口窄,量产良率调试周期长。 :p^7XwX%w iYE:o{ 五、产业现状与未来趋势 !
Ff/RRo
- tjw4.L<r
消费电子领域:树脂WLO持续渗透低端摄像、距离传感器;高端旗舰依旧偏好玻璃方案; - G?\\k[#,&
AR/MR光波导配套微透镜、LiDAR准直微阵列成为树脂模压路线新赛道; - &sJZSrk|
吉田邦夫在国内持续迭代新一代工艺,重点优化超薄晶圆成型、多片晶圆堆叠一体化制造; - `em}vdY
行业分化:一部分企业直接参考AJI工艺路线,另一部分投入资源研发替代成型方案,绕开双面模压与支架结构专利保护范围。 J)R;NYl 结语 /$v0Rq9 吉田邦夫算不上大众熟知的光学名人,但在晶圆级树脂模压细分赛道属于奠基级工程师。他开创的AJI双面UV模压+应力支撑结构,定义了树脂基WLO一条可规模化落地的技术范式。 WLO行业长期并存玻璃与树脂两条路线,不存在绝对优劣;厂商选型核心依据温度工况、成本预算、光学指标要求。随着微光学需求爆发,这条源自日本、正在国内持续演化的工艺路线,依旧会长期影响国内晶圆级光学产业链发展。 ~5e)h_y
|
|