光谱成像技术国外发展现状与趋势
一、引言 ODu/B'*
光谱成像技术是一种融合了传统成像技术与光谱分析技术的先进光电探测手段,能够在获取目标空间信息的同时,捕获其在不同波段上的光谱响应特性。与仅记录红、绿、蓝三个通道的传统成像技术不同,光谱成像技术将光谱分辨率提升至纳米级别,通过数十至数百个连续窄波段收集物体的反射或发射光辐射信息,形成独特的“光谱指纹”,使得物质成分识别与定量分析成为可能。 &;ddnxFI
根据光谱分辨率和波段数量的不同,光谱成像技术可大致分为多光谱成像和高光谱成像两大类。多光谱成像通常覆盖3至15个较宽的离散波段,已广泛应用于农业监测、环境遥感和工业检测等领域;而高光谱成像则能够捕获数百个连续窄波段的光谱数据,在精细物质识别、化学组分分析和目标检测方面具有显著优势。近年来,高光谱成像技术正从专业分析工具向跨领域基础感知模态加速过渡,这一转变得益于光学器件、探测器技术和数据分析方法的全面进步。 8x1!15Wiz 尤为值得关注的是,光谱鉴别功能正逐步从外部光学系统向传感器像素层面迁移。“芯片级光谱仪”和“像素级光谱集成”成为新的技术制高点,正在重新定义高光谱传感器的尺寸、成本和功耗边界,为消费电子、便携医疗和边缘智能设备打开了全新的应用空间。这种“无光学元件”或“片上光学”的架构转变,通过纳米光子结构、新型半导体材料和计算重建算法的协同,将光谱分析能力从实验室级精密仪器压缩至芯片尺度。 BPkMw'a: 从市场格局来看,高光谱成像系统市场正经历强劲增长。据市场研究机构报告,全球高光谱成像系统市场规模预计将从2025年的279.8亿美元增长至2026年的320.2亿美元,复合年增长率达14.5%,到2030年有望达到528.4亿美元。以相机产品口径统计,全球高光谱成像市场2025年估值约2.593亿美元,预计2034年将增长至7.299亿美元。北美地区目前占据全球高光谱成像市场约33.2%的份额,引领全球技术发展方向。多光谱相机市场同样稳步扩大,2025年估值约24.6亿美元,预计2032年将达到48.1亿美元,复合年增长率约10.05%。 .K~V DUu 从产业链角度看,全球光谱成像市场的参与者涵盖探测器材料与芯片供应商、光学系统与相机制造商、系统集成商以及终端应用用户。近年来,行业并购和融资活动显著加速,市场竞争格局日趋活跃。推动市场增长的核心驱动力包括:国防与军事监视领域需求的持续攀升、遥感探测应用的不断拓展、光学传感器技术的迭代进步、精密农业的蓬勃发展、生命科学与医疗诊断领域的扩张,以及工业自动化和光学分选领域的日益广泛应用。 mdL T7 当前,高光谱成像技术正处于深刻变革期。传感器创新正在催生新的产品形态——紧凑型、低功耗的探测器和镜头组件使得机载、无人机载和手持式部署成为可能,而这些场景以往难以实现。与此同时,计算摄影和压缩感知技术正在从采集端减少数据量,使更多实时应用成为现实,同时降低下游数据处理需求。软件层面正在从实验室级工具向可规模化部署的操作平台演进,嵌入面向特定领域光谱库训练的机器学习模型,促进面向作物健康评估、材料识别等具体场景的垂直化解决方案不断涌现。 M{p6&eg 二、核心技术突破:从系统小型化到像素级光谱集成 h:Gs9]Lvtv 当前光谱成像技术的核心变革集中在两个层面:一是整机系统的小型化与成像方式的革新,二是传感芯片本身的光谱功能集成。两者相互促进,正在重塑整个技术范式。 ek)rsxf1A 2.1 传感器芯片层面的光谱集成 9'p| [?]v 将光谱分析能力从实验室级精密仪器压缩至芯片尺度,是高光谱成像技术走向广泛普及的核心突破口。当前,该领域正处于从“光学系统小型化”向“传感器像素级光谱集成”跨越的关键阶段——光谱鉴别功能不再依赖外部棱镜、光栅或滤光轮,而是通过纳米光子结构、新型半导体材料和计算重建算法的协同,直接嵌入传感器芯片的像素层面。主流技术路径包括重构式片上光谱仪、超构表面像素级集成、纳米光子滤波阵列、基于材料本征选择性的探测器方案,以及单像素压缩感知与事件相机融合等新型计算架构。 G:b6Wf 2.1.1 重构式片上光谱仪 vhOh3 重构式光谱仪是近年片上光谱芯片领域最具突破性的方向之一。其核心思想是摒弃传统光谱仪中用于空间分离波长的棱镜或光栅,转而采用一组响应特性各异的微型探测器,借助人工智能算法从编码信号中计算重建入射光谱。 ?5" >5 0 加州大学戴维斯分校(UC Davis)的AI增强光子捕获光谱芯片是该方向的标杆性成果。2026年初,UC Davis研究团队在Advanced Photonics上发表了一项突破性成果:一款仅0.4 mm²的AI增强光子捕获片上光谱仪。该芯片单片集成了16个经光子捕获表面纹理(photon-trapping surface textures, PTSTs)增强的硅光电二极管,每个探测器对入射光的响应特性均经过独特设计。光子捕获纳米结构通过散射机制显著延长了近红外(NIR)光子与硅材料的相互作用路径,将硅探测器的有效灵敏度从约950 nm扩展至1100 nm。 ~*EipxhstJ 然而,仅靠16个探测器的编码信号无法直接还原光谱——这需要借助机器学习。研究团队训练了一个全连接神经网络,学习探测器原始输出与真实光谱之间的复杂映射关系,实现了约8 nm的光谱分辨率,重建均方根误差低于0.05。更值得注意的是其噪声鲁棒性:在人为加入40 dB探测器噪声的条件下,系统仍能维持30 dB以上的信噪比,而传统光谱仪在同等条件下已完全失效。芯片还具有50 dB的动态范围、57 ps的超快时间响应和超过7000的光电二极管增益,为便携式实时高光谱传感在生物医学成像、环境监测等场景中的应用奠定了坚实基础。 FiQ&g*=| 北卡罗来纳州立大学的偏压可调串联有机光电探测器则采用了完全不同的技术路线。该团队开发了一种仅数平方毫米大小的单像素光谱仪,利用两个堆叠的光敏单元构成的串联结构,通过施加不同的低电压(约-0.8至0.2 V)来操纵探测器对不同波长的灵敏度。每个光敏单元具有独特的光谱吸收特性,两者的组合响应经校准后即可重建入射光谱。该设计覆盖400至1000纳米波长范围,峰值分辨率可达0.18纳米,工作电压不到1伏,无需任何附加光学元件,可如普通CCD像素般集成至探测器阵列,为手机级成像光谱仪的实现提供了新路径。 %GjG.11V,_ 硅光子散斑光谱仪则代表了另一类重要的重构式方案。2025年,香港科技大学(广州)团队展示了一种单次拍摄集成散斑光谱仪,通过无源硅光子芯片上级联非平衡马赫-曾德尔干涉仪与天线阵列产生的散斑图案,利用图像传感器的高像素数同时获取大量空间采样通道,实现了10 pm的光谱分辨率和200 nm的工作带宽。2026年,一种混合硅光子计算光谱仪进一步实现了皮米级重建分辨率,为芯片级高精度光谱分析开辟了新途径。 E*)A!2rlK 2.1.2 超构表面与CMOS图像传感器的像素级集成 53uptQ{ 超构表面(metasurface)技术正在成为高光谱传感器芯片集成的关键使能技术。通过在CMOS图像传感器上直接集成亚波长纳米结构阵列,超构表面可在像素层面实现光谱编码、偏振分析和波前传感等多维光学功能,彻底省去传统分立光学元件。 $!G|+OuTR Tunoptix的超构光学光谱传感平台是这一方向最具产业化前景的代表。这家总部位于西雅图的初创公司开发了一种全无源、全超构光学架构——将超构透镜和超构滤波器阵列直接集成至标准CMOS传感器上,每个光学通道采样不同的光谱波段,实现真正的快照式窄带光谱数据采集,无需扫描、滤光轮或马赛克拼接。该平台体积小于1 cm³,功耗低于500 mW,支持可见光至近红外(VNIR)范围内超过30个光谱通道、优于20 nm光谱分辨率和约720×480像素的有效空间分辨率,可实时运行。公司采用无晶圆厂制造模式,利用CMOS兼容工艺进行晶圆级制造,已引起消费电子领域一线OEM的浓厚兴趣。Tunoptix于2025年6月发布了基于计算超构光学平台的突破性进展,其超紧凑高光谱成像模组可集成至消费电子设备中,为手机级光谱成像打开了新的可寻址市场。该公司的超构光学成像技术将纳米工程透镜与光谱滤波器集成于紧凑硬件堆栈中,实现了从全彩成像向高光谱感知的能力拓展。 hRuiuGC 快照式超构表面高光谱图像分割系统展示了另一种创新思路。2026年在Chinese Optics Letters上发表的一项研究将超构表面与单色相机传感器芯片结合,目标场景的高光谱信息经超构表面编码后形成强度图案,由深度学习网络直接从编码测量中预测场景分割结果,跳过了传统的高光谱图像获取与重建步骤。该方案在土地覆盖分类场景中实现了超过99%的分割准确率,同时大幅简化了光学系统。 $]?pAqU\ 超构表面光谱偏振一体化传感器进一步拓展了多维度感知能力。2026年,研究团队将超构表面编码器集成在商用CMOS图像传感器像素阵列上,制作出芯片级集成传感器原型,整个传感器尺寸与普通成像芯片相当,无需任何移动部件或分立光学元件,即可实现单次拍摄下的多维信息获取。MetaSpectra+紧凑型相机则实现了快照式高动态范围/偏振与高光谱双模成像,利用超构表面-折射混合组件将入射光束分为多通道并独立控制各通道的色散、曝光和偏振。该相机在近全可见光谱范围内工作,实现了同类快照高光谱成像器中最短的总光路长度和最高的重建精度。 ){GJgk|P 在产业界,imec也在推进超构表面与新型探测器材料的融合。该机构在2025年IEDM会议上展示了在300 mm CMOS试验线上将超构表面与胶体量子点光电二极管(QDPD)集成的最新成果,利用超构表面来调控光谱响应而非改变光电二极管堆叠,从而大幅简化了不同波长应用的定制流程。 =z5=? 2.1.3 纳米光子滤波阵列与片上光谱滤波 _RcEfT
在CMOS图像传感器上直接沉积和图案化薄膜光谱滤波器,是实现紧凑型片上高光谱成像的另一条主流技术路线。 rMG[,:V “超像素”光谱滤波阵列是英国埃克塞特大学、诺丁汉大学和剑桥大学联合团队于2025年提出的创新概念。与传统的通用“带通”光谱滤波器不同,“超像素”是一种面向特定应用的紧凑型光谱滤波器阵列,兼容CMOS图像传感器的顶部集成。每个超像素滤波器元件通过精确调控多个亚像素法布里-珀罗谐振腔的高度,选择性地透过针对目标应用优化后的光谱成分。实验验证表明,超像素在分离光谱成分方面显著优于最优带通滤波器:光谱测量中解混矩阵条件数改善2.4倍(p=0.031),成像实验中条件数降低3.47倍(p=0.020)。该方案在微内窥镜、胶囊内镜、工业检测和机器视觉等紧凑型场景中展现了巨大潜力。 j\KOKvY) 全介质超构表面光谱滤波器阵列方面,基于Si₃N₄材料的微光谱仪设计同样引起了广泛关注。这类器件具有紧凑尺寸、轻重量、CMOS兼容性、低成本和低功耗的特点,非常适合移动和现场部署应用。CMOS兼容的亚波长纳米结构透射式结构色滤波器已实现10-30 nm光谱分辨率和约70%的效率,为高效、简化的多光谱滤波提供了新方案。 n\Is}Czl 在产业化方面,imec是该领域的全球领先者。其片上光谱成像方案利用薄膜光谱滤波器直接在图像传感器上沉积和图案化,无需精密外部光学元件,制造出的传感器如普通机器视觉相机一样使用便捷。imec提供两种核心传感器配置:快照式高光谱传感器(采用类似拜尔阵列的光谱滤波器像素镶嵌模式,支持视频速率光谱成像)和线扫描传感器(采用跨像素行的条纹滤波器图案,可实现推扫式高分辨率成像)。这些方案已在脊柱融合手术、阿尔茨海默病相关蛋白的眼部检测、工业与食品质量检测以及小卫星对地观测等场景中得到有效应用。 C,;<SV2# 在短波红外方面,imec还推出了首款SWIR高光谱相机,将CMOS光谱滤波器与InGaAs成像器集成,在保持CMOS技术紧凑低成本优势的同时获得了InGaAs的SWIR光谱覆盖能力(1000-1700 nm),可提供从32到100多个光谱波段的线扫描方案和4-16波段的快照马赛克方案。 \Yp"D7:Qi 2.1.4 基于材料本征选择性的探测器方案 q:up8-LAr 除了外部滤波结构,利用探测材料自身的光谱响应特性实现片上光谱鉴别,是一条更为根本的技术路径。 uu4!e{K 胶体量子点与CMOS集成是该方向的热点。imec在2025年IEDM会议上展示了将胶体量子点光电二极管(QDPD)集成到300 mm CMOS晶圆上的成果,通过量子点尺寸调控实现对特定红外波长的选择性吸收,结合超构表面在CMOS层面实现光谱响应的灵活定制,为经济高效的高分辨率SWIR成像平台奠定了基础。瑞士CSEM与荷兰QDI Systems合作开发了据称全球首款在CMOS平台上利用量子点直接将X射线转换为电信号的图像传感器,展示了量子点技术在宽光谱CMOS成像领域的潜力。 7y& |