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2026-04-30 15:31 |
基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术
!ACWv*pW 内容简介 ,f4mFL0~N Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 (c<Krc
h 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 >a;^=5E 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 -T4{PM U3+{!}gn
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 p0xd
c3 目录 an 3"y6.8 Preface 1 e'oM%G[ 内容简介 2 N;A#3Ter 目录 i HN\Zrb 1 引言 1 H V`{YuP 2 光学薄膜基础 2 ,*2%6t`N? 2.1 一般规则 2 s7CoUd2 2.2 正交入射规则 3 nBd!296 2.3 斜入射规则 6 9lA@ K[ 2.4 精确计算 7 j[XA"DZR< 2.5 相干性 8 ?gb"S, 2.6 参考文献 10 2roPZj 3 Essential Macleod的快速预览 10 3,bA&c3 4 Essential Macleod的特点 32 r3l}I6 4.1 容量和局限性 33 }ZEh^zdz8 4.2 程序在哪里? 33 ~(tZW 4.3 数据文件 35 8u$Krq 4.4 设计规则 35 `)F lb|da 4.5 材料数据库和资料库 37 2,O-/A;tW* 4.5.1材料损失 38 cWl)ZE<hM 4.5.1材料数据库和导入材料 39 z= -u89] 4.5.2 材料库 41 ^lT$D8 4.5.3导出材料数据 43 2B_6un];W 4.6 常用单位 43 x\XgQQ]- 4.7 插值和外推法 46 N:!XtYA< 4.8 材料数据的平滑 50 ]<q{0. 4.9 更多光学常数模型 54 V; 1r 4.10 文档的一般编辑规则 55 a}a_&rf~Z 4.11 撤销和重做 56 2#LcL
4.12 设计文档 57 >\K<q>* 4.10.1 公式 58 Qw^nN(K!> 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 |EaGKC(
4.10.3 沉积密度 59 -vI?b# 4.10.4 平行和楔形介质 60 Tk9*@kqv 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 bCk_ZA 4.10.4 性能 61 C8cB Lsa[J 4.10.5 保存设计和性能 64 j3VM!/ 4.10.6 默认设计 64 _> .TB\ 4.11 图表 64 cD8.rRyD 4.11.1 合并曲线图 67 fcb:LPk; 4.11.2 自适应绘制 68 &-+qB
>SK> 4.11.3 动态绘图 68 {o7ibw=E) 4.11.4 3D绘图 69 *}3e'0` 4.12 导入和导出 73 YL&$cT]1 4.12.1 剪贴板 73 T1;yw1/m5\ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 A\ze3fmV 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 a=gTGG"9 4.13 背景 77 BnqAv xX 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 C ^Tc9 4.15 生成Rugate 84 *#Hi W) 4.16 参考文献 91 gE JmMh 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 X#5dd.RR 5.1 Jobs 92 oo3ZYA 5.2 创建一个新Job(工作) 93 LLg ']9 5.3 输入材料 94 z7MJxjH 5.4 设计数据文件夹 95 p*W4^2(d 5.5 默认设计 95 WDKj)f9cy 6 细化和合成 97 N2;T\xx, 6.1 优化介绍 97 4XQ v 6.2 细化 (Refinement) 98 9M~EH?>+[ 6.3 合成 (Synthesis) 100 `8\pihww 6.4 目标和评价函数 101 b=-<4Vu*\ 6.4.1 目标输入 102 1[J&^@t[h6 6.4.2 目标 103 gPe*M =iF 6.4.3 特殊的评价函数 104 W+a>*#* 6.5 层锁定和连接 104 1QE-[| 6.6 细化技术 104 b0x9} 6.6.1 单纯形 105 (SoV2[| 6.6.1.1 单纯形参数 106 kX\t0'=] 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 gnNMuqt 6.6.2.1 Optimac参数 108 H]"Z_n_ 6.6.3 模拟退火算法 109 .Q?cNSWU 6.6.3.1 模拟退火参数 109 y .S0^ 6.6.4 共轭梯度 111 1]fqt[*) 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 sL~TV([6/ 6.6.5 拟牛顿法 112 %S$`cp 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ,y,NVF 6.6.6 针合成 113 HV&N(;@ 6.6.6.1 针合成参数 114 Mmbb}(< 6.6.7 差分进化 114 Ws4aCH 1 6.6.8非局部细化 115 9Q^>.^~^ 6.6.8.1非局部细化参数 115 E92dSLhs5 6.7 我应该使用哪种技术? 116 g{8>2OK$c 6.7.1 细化 116 X82sw>Y 6.7.2 合成 117 -&M9Yg|Se 6.8 参考文献 117 7&:gvhw 7 导纳图及其他工具 118 wz9V)_V* 7.1 简介 118 hBz~FB];& 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 _,NL;66=[ 7.2.1 四分之一波长规则 119 /t%IU 7.2.2 导纳图 120 9O?.0L 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 jbn{5af 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 P00d#6hPJ 7.5 斜入射导纳图 141 @?3u|m |Z 7.6 对称周期 141 a>.2Q<1 7.7 参考文献 142 p44d&9 8 典型的镀膜实例 143 "xa<Q%hk 8.1 单层抗反射薄膜 145 4bhm1Q 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 C
z4"[C`; 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 $oH?oD1 8.4 W-膜层 148 '>`?T}a, 8.5 V-膜层 149 Exc`>Y q
8.6 V-膜层高折射基底 150 -mO[;lO 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 (".`#909 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 T}$1<^NK 8.9 四层抗反射薄膜 153 5sM-E>8G^{ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 e~W35Y>A 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 g>_6O[;t% 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 O=MO M 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 pxM^|?Hxc 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 S$%T0~PR~ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 "T<Q#^m 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 c*1t<OAS~ 8.17 1/4波长堆栈 162 \Z
] <L 8.18 陷波滤波器 163 a_L&*%; 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 |UZ#2 8.20 褶皱 165 xQ* U9Wt;T 8.21 消偏振分光器1 169 Ii,e=RG> 8.22 消偏振分光器2 171 ch 4z{7 8.23 消偏振立体分光器 172 Jq l#z/z 8.24 消偏振截止滤光片 173 s59v*
/ 8.25 立体偏振分束器1 174 d@b"tb}R 8.26 立方偏振分束器2 177 FdKp@&O+1 8.27 相位延迟器 178 +%7yJmMw 8.28 红外截止器 179 62PtR`b> 8.29 21层长波带通滤波器 180 .*r?zDV 8.30 49层长波带通滤波器 181 LU?X|{z 8.31 55层短波带通滤波器 182 mF%>pj& | |