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剑雨剑芒	2026-04-20 15:15
镀膜新人问题第二弹 1.中频反应磁控溅射中Ar气和O2气的配比不同，会影响折射率和消光系数吗？ ^[XxE Lx 目前我知道O2气不足会有吸收，是因为镀膜的材料从SIO2变成SIO1.5这样，里面是SIO2与SIO混合体，那如果O2气过量的话，会形成SI2O3与SIO2这样的混合体吗？ W<TW6_*e

ouyuu	2026-04-21 18:20
Ar和O不是讲配比的，两个功能不一样。 w4jET> Ar是必须的，没有Ar你无法溅射出材料来。 !cw<C 做氧化物才需要用O，也不存在气体过多，多了就自己被抽走了。 [8.ufpZ 还是你抽真空能力太差了，所以没法充足够的气。

剑雨剑芒

2026-04-22 15:38

ouyuu:Ar和O不是讲配比的，两个功能不一样。 ?+GbPG~
Ar是必须的，没有Ar你无法溅射出材料来。 [6 wI22
做氧化物才需要用O，也不存在气体过多，多了就自己被抽走了。 ?1r@r
还是你抽真空能力太差了，所以没法充足够的气。 (2026-04-21 18:20) '0X!_w6W

抽真空能力太差，那抽气不就慢了吗？气充的不是更足了？

ouyuu

2026-04-28 18:02

射频源出来的Ar和O，都是有方向和速度的，这才是有用的。
用完以后那些随机布尔运动的气体分子就该抽走，留着就是阻挡那些射频离子。
真空度越差，说明留着没抽走的气体越多，你镀膜就越费劲。

就像建筑工地或者工厂，一堆不干活的人阻挡了干活的人的通道或者流水线，
反倒降低了工作效率，不是人越多活干的越快。

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