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剑雨剑芒 2026-03-29 22:11

新人镀膜问题求教

楼主是去年8月份接触光学镀膜行业的,从刚开始什么也不懂,到现在对镀膜设备和工艺有了一定的初步认识,年前在这里注册了账号,潜水看以往的帖子进行学习。 >M[rOu (d  
现在工作中遇到几个问题,想问下求助大家(使用磁控溅射,镀膜材料是NB2O5和SIO2) )d>"K`3  
1.我们生产AR有两种膜系,一个总膜厚在240nm左右,另一个总膜厚在260nm左右。都是7层。我们修组系数后产品打样测得离散数据和240nm n?YGX W/  
的膜系就是曲线趋势对的上的,而260nm膜系的产品打样就对不上,这是因为修组系数时镀的单层膜厚有关吗? 5\S)8j `8  
2.设备镀膜的氩气和氧气的最佳配比该如何找? $_S^Aw?  
3.我们真空计是成都睿宝的,电离规的玻璃规管在网上买到后货不对板,不是成都睿宝的,这个能用吗? $kZ,uvKN  
+S<2d.&~  
ouyuu 2026-04-01 19:18
对不上有可能是薄层(敏感层)的问题。 ]\+bx=  
薄层的折射率是个大问题,特别是你用离子源的情况下。 $QNfy.6Tn  
2是工艺和经验问题,这个自己试吧。 x|F6^d   
3不知道 rfXM*h  
剑雨剑芒 2026-04-01 19:37
ouyuu:对不上有可能是薄层(敏感层)的问题。 sFC1PdSk4T  
薄层的折射率是个大问题,特别是你用离子源的情况下。 43,- t_jV  
2是工艺和经验问题,这个自己试吧。 vQc>jmS+n  
3不知道 qW?^_  
 (2026-04-01 19:18)  T_5 E  
@#*B|lHE  
好的,感谢指导。
ouyuu 2026-04-03 19:16
剑雨剑芒:好的,感谢指导。 (2026-04-01 19:37)  D2>=^WP6+  
w`F}3zm  
刚刚发现你用的是磁控溅射。 :S~XE  
Ar不是反应气体,Ar是用来轰击靶材,让靶材的材料溅射出来。 =qI JXV  
O2是反应气体,是让靶材的材料发生氧化反应,变成氧化物。 n?kU  
这个没有什么最佳配比,如果有问题,应该是你抽真空系统需要保养了。(抽速慢了) J*a`qU   
+SUQRDF@i  
磁控溅射照理来讲膜厚还是比较好控制的,有问题不一定是膜厚控制的问题。 >"zSW?  
你们不同膜层的氧气氩气变化大吗?会不会是真空度变化或者是气流波动造成的?
剑雨剑芒 2026-04-06 09:26
ouyuu:刚刚发现你用的是磁控溅射。 ffuV$#  
Ar不是反应气体,Ar是用来轰击靶材,让靶材的材料溅射出来。 ?z Ms;  
O2是反应气体,是让靶材的材料发生氧化反应,变成氧化物。 Yx XDRb\kW  
这个没有什么最佳配比,如果有问题,应该是你抽真空系统需要保养了。(抽速慢了) mP3:Fc _G  
....... (2026-04-03 19:16)  4s0>QD$J  
Q0ev*MS9Z  
是的,镀硅和铌的气体比例是不一样的,刚开始生产时镀膜的气体比例在流量计上设置为 LT2mwJl  
硅  Ar 190   O2  110      铌   Ar 200  O2  80 X$PT-~!a  
但是我们这样配比镀出来的产品时不时有吸收,玻璃盖板摞在一起颜色发黑,550单波段测试透过率在93%或92%。然后更改为现在的 d~GT w:  
硅  Ar 190   O2  120      铌   Ar 200  O2  100 Ww)qBsi8  
现在做起来没有吸收了,但是感觉速度变慢了些。 >UR-37g{p  
最近了解到Ar充气多少影响分子的平均自由程从而影响镀膜速率,所以就想深入问下这方面的调试经验。
ouyuu 2026-04-07 23:08
应该说是充气多了,真空度差了,溅射出来材料的量就少了。 M7!&gFv8  
这个只能是做真空保养。或者你们调整一下氧气充气的出气口位置看看。 uop_bJ  
也许是因为出气口位置不好造成的充气不足(氧不够造成的吸收)。
ouyuu 2026-04-07 23:12
记录一下各材料镀膜时候的真空度,和之前的记录比较一下。看看是不是差异很大。 So0YvhZ+  
如果以前的镀膜记录还保留的话,看看以前的充气量和真空度,和现在的比较一下。
剑雨剑芒 2026-04-20 15:17
ouyuu:记录一下各材料镀膜时候的真空度,和之前的记录比较一下。看看是不是差异很大。 w&:h^u  
如果以前的镀膜记录还保留的话,看看以前的充气量和真空度,和现在的比较一下。 (2026-04-07 23:12)  -^\k+4;  
+apIp(E+  
我们设备镀膜时真空度大概在0.3到0.5pa左右。
ouyuu 2026-04-21 18:16
剑雨剑芒:我们设备镀膜时真空度大概在0.3到0.5pa左右。 (2026-04-20 15:17)  ?xUz{O0/  
YF&SH)Y7  
真空度太差了,一般镀膜应该-2左右,蒸镀要控制在1.5E-2Pa以下。真空度差的话射频容易打火
剑雨剑芒 2026-04-22 15:45
ouyuu:真空度太差了,一般镀膜应该-2左右,蒸镀要控制在1.5E-2Pa以下。真空度差的话射频容易打火 (2026-04-21 18:16)  c%uhQ 62  
O]{H2&k@  
我们设备设定的镀膜真空是0.008pa,到达该真空通Ar和O2后,真空就到了0.3-0.5pa。
ouyuu 2026-04-28 17:56
起镀真空有点高,但问题还是在抽速上。 5l(;+#3y/  
有时候泵的劣化很隐蔽,只看极限真空是没问题的。 8 LaZ5  
但是一加上负载,真空度就突突的往上跑。 /!AdX0dx  
这样其实不管对设备还是产品都不是好事。 lD C74g  
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