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剑雨剑芒 2026-03-29 22:11

新人镀膜问题求教

楼主是去年8月份接触光学镀膜行业的,从刚开始什么也不懂,到现在对镀膜设备和工艺有了一定的初步认识,年前在这里注册了账号,潜水看以往的帖子进行学习。 OI0tgkG  
现在工作中遇到几个问题,想问下求助大家(使用磁控溅射,镀膜材料是NB2O5和SIO2) !"dn!X  
1.我们生产AR有两种膜系,一个总膜厚在240nm左右,另一个总膜厚在260nm左右。都是7层。我们修组系数后产品打样测得离散数据和240nm c"<bq}L7S  
的膜系就是曲线趋势对的上的,而260nm膜系的产品打样就对不上,这是因为修组系数时镀的单层膜厚有关吗? UN,y /V  
2.设备镀膜的氩气和氧气的最佳配比该如何找? xQKD1#y  
3.我们真空计是成都睿宝的,电离规的玻璃规管在网上买到后货不对板,不是成都睿宝的,这个能用吗? ab5uZ0@  
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ouyuu 2026-04-01 19:18
对不上有可能是薄层(敏感层)的问题。 "q'9-lk  
薄层的折射率是个大问题,特别是你用离子源的情况下。 0'{`"QD\IW  
2是工艺和经验问题,这个自己试吧。 1zz.`.R2U  
3不知道 g;M\4o  
剑雨剑芒 2026-04-01 19:37
ouyuu:对不上有可能是薄层(敏感层)的问题。 lB\ "*K;  
薄层的折射率是个大问题,特别是你用离子源的情况下。 n},~2  
2是工艺和经验问题,这个自己试吧。 q5$z:'zE  
3不知道 by {G{M`X  
 (2026-04-01 19:18)  X-Sso9/q.  
4LU'E%vlC  
好的,感谢指导。
ouyuu 2026-04-03 19:16
剑雨剑芒:好的,感谢指导。 (2026-04-01 19:37)  ^zGgvFf>  
]lF'o&v]  
刚刚发现你用的是磁控溅射。 do{#y*B/g!  
Ar不是反应气体,Ar是用来轰击靶材,让靶材的材料溅射出来。 tg~&kaz  
O2是反应气体,是让靶材的材料发生氧化反应,变成氧化物。 xZ@H{):  
这个没有什么最佳配比,如果有问题,应该是你抽真空系统需要保养了。(抽速慢了) vi6EI wZG  
"b*.>QuZ  
磁控溅射照理来讲膜厚还是比较好控制的,有问题不一定是膜厚控制的问题。 n@BE*I<"  
你们不同膜层的氧气氩气变化大吗?会不会是真空度变化或者是气流波动造成的?
剑雨剑芒 2026-04-06 09:26
ouyuu:刚刚发现你用的是磁控溅射。 5]; 8  
Ar不是反应气体,Ar是用来轰击靶材,让靶材的材料溅射出来。 6kT l(+  
O2是反应气体,是让靶材的材料发生氧化反应,变成氧化物。 *^c4q|G.-  
这个没有什么最佳配比,如果有问题,应该是你抽真空系统需要保养了。(抽速慢了) j1YE_U  
....... (2026-04-03 19:16)  q) /;|h  
{L$b$u$7:  
是的,镀硅和铌的气体比例是不一样的,刚开始生产时镀膜的气体比例在流量计上设置为 wXZ.D}d  
硅  Ar 190   O2  110      铌   Ar 200  O2  80 M)EKS  
但是我们这样配比镀出来的产品时不时有吸收,玻璃盖板摞在一起颜色发黑,550单波段测试透过率在93%或92%。然后更改为现在的 :M|c,SQK  
硅  Ar 190   O2  120      铌   Ar 200  O2  100 8t}=?:B+{  
现在做起来没有吸收了,但是感觉速度变慢了些。 R_vZh|  
最近了解到Ar充气多少影响分子的平均自由程从而影响镀膜速率,所以就想深入问下这方面的调试经验。
ouyuu 2026-04-07 23:08
应该说是充气多了,真空度差了,溅射出来材料的量就少了。 r'&9'rir2  
这个只能是做真空保养。或者你们调整一下氧气充气的出气口位置看看。 UXQ{J5Ox+  
也许是因为出气口位置不好造成的充气不足(氧不够造成的吸收)。
ouyuu 2026-04-07 23:12
记录一下各材料镀膜时候的真空度,和之前的记录比较一下。看看是不是差异很大。 6{lWUr  
如果以前的镀膜记录还保留的话,看看以前的充气量和真空度,和现在的比较一下。
剑雨剑芒 2026-04-20 15:17
ouyuu:记录一下各材料镀膜时候的真空度,和之前的记录比较一下。看看是不是差异很大。 &2xYG{Z  
如果以前的镀膜记录还保留的话,看看以前的充气量和真空度,和现在的比较一下。 (2026-04-07 23:12)  p Hg8(ru|  
VpV w:Rh>  
我们设备镀膜时真空度大概在0.3到0.5pa左右。
ouyuu 2026-04-21 18:16
剑雨剑芒:我们设备镀膜时真空度大概在0.3到0.5pa左右。 (2026-04-20 15:17)  7J;.T%4 l  
hy]AH)?pR  
真空度太差了,一般镀膜应该-2左右,蒸镀要控制在1.5E-2Pa以下。真空度差的话射频容易打火
剑雨剑芒 2026-04-22 15:45
ouyuu:真空度太差了,一般镀膜应该-2左右,蒸镀要控制在1.5E-2Pa以下。真空度差的话射频容易打火 (2026-04-21 18:16)  W!(Q_B  
xV6j6k  
我们设备设定的镀膜真空是0.008pa,到达该真空通Ar和O2后,真空就到了0.3-0.5pa。
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