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2026-01-05 14:33 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
i@;a%$5 内容简介 U!`'Qw; Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 7xcYM 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 \ lKQ'_ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 GkO6r'MVE =0-qBodbl
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 D|BN_ai9 目录 -|T^ Preface 1 b$e JH 内容简介 2 ?=G H{
%E 目录 i ditzl(L 1 引言 1 (Zn\S*_@/ 2 光学薄膜基础 2 lu}[XN 2.1 一般规则 2 I"!{HnSG` 2.2 正交入射规则 3 GhT7:_r~ 2.3 斜入射规则 6 kO#`m] 2.4 精确计算 7 !K2[S
J 2.5 相干性 8 3$b(iI< " 2.6 参考文献 10 t5qAH++axN 3 Essential Macleod的快速预览 10 0T5>i 0/ 4 Essential Macleod的特点 32 q8lK6p\:W 4.1 容量和局限性 33 z~_\onC 4.2 程序在哪里? 33 b(VU{cf2d 4.3 数据文件 35 GwycSb1 4.4 设计规则 35
u0e#iX 4.5 材料数据库和资料库 37 I6fpXPP). 4.5.1材料损失 38 h.^DRR^S 4.5.1材料数据库和导入材料 39 WWLVy( 4.5.2 材料库 41 #+G2ZJxL| 4.5.3导出材料数据 43 n\YxRs7
hF 4.6 常用单位 43 ?uN(" I 4.7 插值和外推法 46 2I<T<hFW] 4.8 材料数据的平滑 50 >KPJ74R 4.9 更多光学常数模型 54 kA_3o)J 4.10 文档的一般编辑规则 55 Z^l!y5s/H 4.11 撤销和重做 56 &1{k^>oz 4.12 设计文档 57 $Da^z[8e 4.10.1 公式 58 @FV;5M:I 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 yd~fC:_ ] 4.10.3 沉积密度 59 {;E/l(HNI 4.10.4 平行和楔形介质 60 -(.7/G'Vk> 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 /z5lxS@# 4.10.4 性能 61 abnd U,s 4.10.5 保存设计和性能 64 OKVYpf 4.10.6 默认设计 64 *PEuaRDN 4.11 图表 64 %np#Bv-L 4.11.1 合并曲线图 67 ar|[D7Xrq\ 4.11.2 自适应绘制 68 \7/_+)0}' 4.11.3 动态绘图 68 ,LZ:y1z'V- 4.11.4 3D绘图 69 x,dv~QU 4.12 导入和导出 73 d@tr]v5 B 4.12.1 剪贴板 73 l'T0< 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 81cmG`G7 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ^Q>*f/.KN 4.13 背景 77 ArYF\7P 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Y ,yaB)&Ih 4.15 生成Rugate 84 pG6-.F; 4.16 参考文献 91 !&lPdEc@T 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 hhGpB$A 5.1 Jobs 92 j!\0Fyr 5.2 创建一个新Job(工作) 93 sCQup^\ 5.3 输入材料 94 %Z yPK,(" 5.4 设计数据文件夹 95 hH}/v0_ jb 5.5 默认设计 95 SZ{cno1` 6 细化和合成 97 17)M.(qmuP 6.1 优化介绍 97 lg>AWTW[ 6.2 细化 (Refinement) 98 M[u3]dN 6.3 合成 (Synthesis) 100 AFTed?( 6.4 目标和评价函数 101 "ru1 ;I
6.4.1 目标输入 102 _KVB~loT 6.4.2 目标 103 o(/ia3 6.4.3 特殊的评价函数 104 8
-;ZPhN& 6.5 层锁定和连接 104 r5!M;hU1j 6.6 细化技术 104 (H+[ ^(3d2 6.6.1 单纯形 105 B5HdC%8/} 6.6.1.1 单纯形参数 106 !h>$bm 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 8$U ZL 6.6.2.1 Optimac参数 108 ]a#]3(o]} 6.6.3 模拟退火算法 109 tcEf
~|3 6.6.3.1 模拟退火参数 109 7 afA'.= 6.6.4 共轭梯度 111 5,BkwAr+6[ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 sDm},=X} 6.6.5 拟牛顿法 112 XhAcC 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 IQ=|Kj9h 6.6.6 针合成 113 BJxmW's/ 6.6.6.1 针合成参数 114 r/sRXM:3cZ 6.6.7 差分进化 114 y~c[sW 6.6.8非局部细化 115 8;\tP29 6.6.8.1非局部细化参数 115 ( L\G!pP. 6.7 我应该使用哪种技术? 116 BON""yIC 6.7.1 细化 116 vC<kpf! 6.7.2 合成 117 EJaaW&>[ 6.8 参考文献 117 `AHNk7 t= 7 导纳图及其他工具 118 50bP&dj& 7.1 简介 118 efkie} 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 `Mn{bd 7.2.1 四分之一波长规则 119 X /,1] 7.2.2 导纳图 120 vKf;&`^qE 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
e=)*O 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 (Zn3-t* 7.5 斜入射导纳图 141 {R!TUQ5 7.6 对称周期 141 *Gh8nQbh 7.7 参考文献 142 V'f5-E0 8 典型的镀膜实例 143 B
m@oB2x) 8.1 单层抗反射薄膜 145 %802H%+ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 zHc 4e
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 rn[}{1I33Q 8.4 W-膜层 148 ?Gv!d 8.5 V-膜层 149 $_7d! S" 8.6 V-膜层高折射基底 150 K[a< 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 @1-GPmj- 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 d>b,aj( 8.9 四层抗反射薄膜 153 P}WhE 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 -5,y
1_M 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 >`?+FDOJ, 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 vua1iN1 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 p C2c(4 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 [xs)u3b 8.15十五层宽带抗反射膜 159 m>-^K 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 {S" 8.17 1/4波长堆栈 162 '"fU2M<. 8.18 陷波滤波器 163 ?]:EmP 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 awSS..g}L 8.20 褶皱 165 $s(4?^GP 8.21 消偏振分光器1 169 y7IbE 8.22 消偏振分光器2 171 iMeRQYW 8.23 消偏振立体分光器 172 ])ALAAIc- 8.24 消偏振截止滤光片 173 5nM9!A\D 8.25 立体偏振分束器1 174 ':2*+ 8.26 立方偏振分束器2 177 pT;-1c%: 8.27 相位延迟器 178 o`T< | |