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2026-01-05 14:33 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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G#M 内容简介 RbCPmiZcH Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 z?>D_NLX6 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 SaC d0. h 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ex+\nD>t4 <F'X<Bau
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 .P.z B}0= 目录 #Pw2Q Preface 1 mK[)mC
_8 内容简介 2 I6j$X 6u 目录 i p(PMZVV` 1 引言 1 3k|oK'l 2 光学薄膜基础 2 iS&l8@2a 2.1 一般规则 2 d cLA1sN, 2.2 正交入射规则 3 (
xXGSx 2.3 斜入射规则 6 ?I/qE='* 2.4 精确计算 7 Dw=gs{8D 2.5 相干性 8 hdnTXs@z 2.6 参考文献 10 {D?50Q 3 Essential Macleod的快速预览 10 :[\v 4 Essential Macleod的特点 32 1^_U;O:I 4.1 容量和局限性 33 |l&vkRrN 4.2 程序在哪里? 33 9Q(+ZG=JkV 4.3 数据文件 35 xfy1pS.[: 4.4 设计规则 35 fLDg~;3
4.5 材料数据库和资料库 37 CqHK %M 4.5.1材料损失 38 lrWV#`6!+ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 &j?#3Qt'_ 4.5.2 材料库 41 %YSpCI 4.5.3导出材料数据 43 @Ys!DScY, 4.6 常用单位 43 \%/#x V 4.7 插值和外推法 46 ]Pry>N3G5 4.8 材料数据的平滑 50 XW -2~?$ 4.9 更多光学常数模型 54 6An9S%:_ 4.10 文档的一般编辑规则 55 AX?fuDLs 4.11 撤销和重做 56 T<JwD[( 4.12 设计文档 57 cE`6uq7p 4.10.1 公式 58 %|^OOU} 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ]?Fi$3Lm 4.10.3 沉积密度 59 NZP.0coY 4.10.4 平行和楔形介质 60 /"
${$b{ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 u5 {JQO 4.10.4 性能 61 4(Ov1a> 4.10.5 保存设计和性能 64 K TsgJ\W 4.10.6 默认设计 64 %FS$zOsgGK 4.11 图表 64 '" X_B0k 4.11.1 合并曲线图 67 5Xl/L 4.11.2 自适应绘制 68 #6AFdNy 4.11.3 动态绘图 68 U\veOQ;mW 4.11.4 3D绘图 69 Tn eq6> 4.12 导入和导出 73 Xcrk;!IB? 4.12.1 剪贴板 73 f;&]:2.j 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 P6 ;'Sza 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 i^_#%L 4.13 背景 77 cTXri8K_ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /,MJq#@K 4.15 生成Rugate 84 zaFt*~@X 4.16 参考文献 91 jn%!AH 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 UK$ms~H 5.1 Jobs 92 %/c+`Wd/l$ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 6*qL[m.F[o 5.3 输入材料 94 JOb*-q|y 5.4 设计数据文件夹 95 ]c<qM_HWg 5.5 默认设计 95 `C_jP|[e 6 细化和合成 97 kM'"4[,nz 6.1 优化介绍 97 ?E9D Xg 6.2 细化 (Refinement) 98 N7b1.]< 6.3 合成 (Synthesis) 100 \":?xh_H 6.4 目标和评价函数 101 WpS1a440 6.4.1 目标输入 102 4EXB;[] 6.4.2 目标 103 ;>%~9j1C 6.4.3 特殊的评价函数 104 Bd^"=+c4 6.5 层锁定和连接 104 'S<%Xm 6.6 细化技术 104 j}BHj.YuP 6.6.1 单纯形 105 +&X%<S
W 6.6.1.1 单纯形参数 106 ]Ni;w]KE 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Nrah;i+H\o 6.6.2.1 Optimac参数 108 p1D[YeF4 6.6.3 模拟退火算法 109 (=16PYs 6.6.3.1 模拟退火参数 109 3;7q` 6.6.4 共轭梯度 111 \eGKkSy 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 `:wvh( 6.6.5 拟牛顿法 112 R7s|`\ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 [xfaj'j=@ 6.6.6 针合成 113 R#n%cXc| 6.6.6.1 针合成参数 114 'q>2t}KG 6.6.7 差分进化 114 ExSO|g]% 6.6.8非局部细化 115 Um)>2|rp} 6.6.8.1非局部细化参数 115 FG%j{_Ez 6.7 我应该使用哪种技术? 116 - ZW3 6.7.1 细化 116 (>=7ng^ 6.7.2 合成 117 _1*7Z=| 6.8 参考文献 117 [EY`am8[ 7 导纳图及其他工具 118 2 $ !D* < 7.1 简介 118 Z?NEO>h7 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 0@5E|< | |