ouyuu:一般是杂质或者膜质不均匀造成的。 zO#{qF+~; 杂质是膜料问题,膜质不均匀是工艺问题,另外Ti2O5本身在短波就有吸收。 ];BGJ5^j 充氧可以解决部分膜质不均匀的问题,最好是用射频离子源辅助镀膜。 S |SN3) 离子源能量不够容易造成发雾(散射),这是晶格尺寸造成的。 eeIaH > 调整温度可以改善,但是最简单的方法就是 .. (2025-12-18 20:48) eZDqW)x
bilong:[图片] "BB#[@ 我们这个新科隆设备也是这样,150度,射频离子源,钛前面有吸收,镀可见光高反,前面400-550都上不去 r,p6J7/lfS (2026-03-10 18:27) bDdJh}Vz
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 ro37H2^Ty 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 1W-t})!a 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 ld94ek 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) VS^%PM#:/
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 Pc? d@tm 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 <3HW!7Ad1 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 o'myo.k{ 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) :@_CQc*yB
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