ouyuu:一般是杂质或者膜质不均匀造成的。 @ M 杂质是膜料问题,膜质不均匀是工艺问题,另外Ti2O5本身在短波就有吸收。 di]TS9&9 充氧可以解决部分膜质不均匀的问题,最好是用射频离子源辅助镀膜。 mvt%3zCB! 离子源能量不够容易造成发雾(散射),这是晶格尺寸造成的。 4:Id8rzz 调整温度可以改善,但是最简单的方法就是 .. (2025-12-18 20:48) jZ> x5 W
bilong:[图片] XDohfa_ 我们这个新科隆设备也是这样,150度,射频离子源,钛前面有吸收,镀可见光高反,前面400-550都上不去 5L\&"[' (2026-03-10 18:27) HvzXAd
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 ?lML+ 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 YjH~8= = 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 "}V_.I*+ 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) Xv3pKf-K
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 +FAj30 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 UKQ"sC 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 xP!QV~$> 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) bMxK @$G~
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