ouyuu:一般是杂质或者膜质不均匀造成的。 KK, t !a 杂质是膜料问题,膜质不均匀是工艺问题,另外Ti2O5本身在短波就有吸收。 g1&>.V}! 充氧可以解决部分膜质不均匀的问题,最好是用射频离子源辅助镀膜。 v^3s?VD 离子源能量不够容易造成发雾(散射),这是晶格尺寸造成的。 f:KZP;/[c 调整温度可以改善,但是最简单的方法就是 .. (2025-12-18 20:48) Y4{/P1F
bilong:[图片] ?-JW2 E"uT 我们这个新科隆设备也是这样,150度,射频离子源,钛前面有吸收,镀可见光高反,前面400-550都上不去 8Y [4JXUK (2026-03-10 18:27) )v\ A8)[
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 ilZQ/hOBH 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 ru|*xNXKgC 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 ;zd.KaS 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) g ;XK3R
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 ^ > ?C 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 cob??|,\m 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 wWSE[S$V 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) D *IeG>%
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