首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2025-09-15 08:05

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 UG^?a  
#qiGOpTF.  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ba:mO$  
TS~Y\Cp  
b;~EJ  
场景 {C,1w  
anKb  
c?V*X-   
twJ|Jmd  
在VirtualLab Fusion中构建系统 NdXy% Q  
QB.*R?A  
系统构建块
%gne%9nn  
0x9F*i_  
Mh-*5Rx  
6{Cu~G{]N  
组件求解器 [/fwt!  
1X!f!0=g+  
}TAGr 0  
@e?[oojrM  
Ivl^,{4  
6GrMcI@hS  
系统构建块 CrwcYzrRWl  
J9$]]\52s.  
;o)`9<es!2  
n[cyK$"  
总结 zN8V~M;  
l_q>(FoqA  
Ppo^qb  
Pu\DYP: (  
几何光学仿真 (82\&dfy  
通过光线追迹 5 1CU@1Ie  
$e t :  
结果:光线追迹 dc@wf;o  
T~ q'y~9o  
R82Zr@_  
:+dWJNY:  
快速物理光学仿真 />2$ XwP  
通过场追迹 G4J6  
rEpKX  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 @ vYN7  
p7=^m>Z6  
'14l )1g.  
XL&eJ  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Fi3(glgd-  
*d,n2a#n5  
\z2hXT@D  
Y*X6lo  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 O@(.ei*HJ!  
u1|Y;*  
<~8f0+"  
.2SIU4[P  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 O/r<VT Op  
yI)fu^  
I:>d@e/;  
6;c{~$s~[  
总结 yar IR|  
`kT$Gx4x  
HE<%d  
查看本帖完整版本: [-- 通过高NA浸没显微镜进行聚焦 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计