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infotek 2025-09-15 08:05

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 _2fkb=2@  
BE&B}LfvfO  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 l=`L7| ^/d  
w)E@*h<Z  
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场景 I4rPHZ|  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 z!=P@b  
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系统构建块
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组件求解器 SEQ%'E5-'  
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系统构建块 ,p{`pma  
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总结 0?7XtC P<  
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几何光学仿真 _\5~>g_  
通过光线追迹 +5<k-0v  
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结果:光线追迹 G" b60RQ  
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快速物理光学仿真 /rB{[zk  
通过场追迹 Mro4`GL  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 4}v@C|.p  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 HCA{pR`  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 L/}iy}  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 l1_X(Z._V  
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总结 U SOKDDm  
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