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infotek 2025-09-15 08:05

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 mfUKHX5  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 xU:PhhS  
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场景 >2*6qx>V  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ZD iW72&Q  
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系统构建块
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组件求解器 'Sm/t/g"|  
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系统构建块 -uS7~Ww.a  
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总结 #<^/yoH7C6  
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几何光学仿真 ?3e!A9x  
通过光线追迹 9e|{z9z[l  
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结果:光线追迹 70I4-[/z[d  
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快速物理光学仿真 BBZ)H6TzL  
通过场追迹 w2RESpi  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 FlM.D u  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 r[i~4N=  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 p3'mJ3MA  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 OQX{<pQ6  
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总结 EZa{C}NQ$2  
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