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infotek 2025-09-15 08:05

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 ?^ `EI}g  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 >('Z9<|r:  
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场景 vkW]?::Cfd  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 .$"69[1H  
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几何光学仿真 \k*h& :$  
通过光线追迹 is}Y+^j.  
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快速物理光学仿真 F9 C3i  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 D``>1IA]  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ~3s\Q%   
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9U~sRj=D  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Blnc y  
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