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infotek 2025-09-15 08:05

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 $Wzv$4;  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 zl 0^EltiU  
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场景 n UCk0:{  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 s*/ G- lY  
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系统构建块
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组件求解器 3KFrVhB=  
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系统构建块 < Gy!i/  
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总结 4f[M$xU&h  
Oj lB 0  
0R5^p  
4U a~*58  
几何光学仿真 GlgORy=>  
通过光线追迹 vua1iN1  
0/00 W6r0  
结果:光线追迹 [xs)u3b  
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vQTQS[R=z  
C`~4q<W'  
快速物理光学仿真 ]V769B9  
通过场追迹 A"<)(M+kG  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 z'} =A  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 $h]Y<&('G  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 IU'!?XVo  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ;$tv8%_L[  
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