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infotek 2025-09-15 08:05

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 88 {1mA,v  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ZT6V/MD7T.  
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场景 wtSvJI~o)  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 h}h^L+4  
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系统构建块
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组件求解器 'G8 ?'u_)  
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总结 ePEe?o4;  
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几何光学仿真 s)k y/ce  
通过光线追迹 4z_n4=  
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结果:光线追迹 :H?f*aw  
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快速物理光学仿真 a8Uk[^5  
通过场追迹 tuxRVV8l  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >3PMnI  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Nqc p1J"  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Od{jt7<j#  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 fu R2S70d  
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总结 q]FBl}nwl%  
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