首页
->
登录
->
注册
->
回复主题
->
发表主题
光行天下
->
讯技光电&黉论教育
->
JCMSuite应用—衰减相移掩模
[点此返回论坛查看本帖完整版本]
[打印本页]
infotek
2025-08-26 08:32
JCMSuite应用—衰减相移掩模
在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示:
~pHuh#>
,M:[GuXD<
@NL37C
mmG]|Cl@
掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。
)3O#T$h
KE~.f(
由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。
8Zy*#[-
#*%?]B=
相位分布如下图所示:
0+[3>N y0
?a*w6,y.
8kC$Z )
.V\~#Ro$G
相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差:
,Vl2U"
q#1G4l.
查看本帖完整版本: [--
JCMSuite应用—衰减相移掩模
--] [--
top
--]
Copyright © 2005-2026
光行天下
蜀ICP备06003254号-1
网站统计