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infotek 2025-08-26 08:32

JCMSuite应用—衰减相移掩模

在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: RY\ 0dv>  
+9M";'\c  
.f|)od[  
Wr8}=\/  
掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 [Bj\h7 G  
z}Vg4\x&  
由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 c=re(  
r+tHVh  
相位分布如下图所示: 9 $^b^It  
O 2/_$i[F  
9&s>RJ  
J^zB 5W,)  
相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差: sVe<l mL  
WsT   
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