随便聊聊离子源

近几年国内兴起来很多镀膜机制造厂家，老牌的国外镀膜机厂家日渐衰微。
国外厂家以前值得夸耀的离子源系统和光控系统国内也基本攻克了，也就是稳定性上有点优势。

国内镀膜机上常见的离子源应该是霍尔源和射频源。
这两种源都利用了磁场--电子在磁场做圆周（螺旋）运动，
从而增加了电子在空间的行程，增加了和工作气体碰撞的几率。
不同的是霍尔源一般是永磁铁，磁场没有变化；
而射频源是震荡磁场，磁场会周期变化，电子也会周期振荡。
霍尔源一般没有栅极，所以离子的能量（电压）比较小，但是数量（电流）可以很大；
射频源有栅极，所以离子能量（电压）可以加的很高，但是数量（电流）有限制。
一般镀膜时候离子电压在1kv水平就够了；
离子能量增大到10kv水平，这个能量能把基材表面的颗粒打飞，一般用于离子溅射；
离子能量加大到几百万电子伏特时，能把离子直接打进基材里面，这个就用在离子注入机上。

射频源的难点在于栅网和射频匹配，
栅网受热会膨胀变形，而栅网之间通常离得很近，受热变形后就容易接触打火。
新的栅网还好说，随着栅网越用越薄，变形的几率就越来越大。
进口栅网一般是整块钼块掏制的，就是为了克服受热变形。
用钼板旋压则制作成本较低，但是变形量比掏制的要大很多。

射频匹配就是调整可变电容来匹配射频震荡回路，使得反射电流最小化。
一般只要接触良好，线圈不发生变形，LC震荡回路的匹配值只和真空度和气体有关，
离子源本体因为会要切换气体（一般是Ar和O2），所以必须自动匹配，
中和器只用Ar，所以匹配好了基本上不会变化。
如果发生反射很高的情况，要么就是接触产生问题了，要么就是线圈变形了，
或者就是哪里对地短路了。

quan6658	2025-08-16 13:54
那如果射频离子源报加速电流异常一般是什么原因造成的？栅网也没有发现有破损或掉渣，但是栅网中间部分会有局部出现与其它地方不一致颜色的扭曲线条，像个W i8A5m@,G

ouyuu	2025-08-23 17:57
是哪家的离子源，不同厂家的离子源加速极位置不一样。 )u[2TI1 有照片最好发一下，有可能是打火。 #H5]"w6I 栅网之间位置过近或者孔位偏差会造成打火。 OPKm^} >Z>Iz,LP 有可能是没装好，也有可能是本身栅网的问题。

囊中蓄乾坤	2025-08-27 17:12
学习了。之前有个一直反射电流高，后面就是换了那个电容才OK。今天看了这个好像明白了一点。谢谢分享。

quan6658	2025-08-30 16:40
ouyuu:是哪家的离子源，不同厂家的离子源加速极位置不一样。 4N#0w]_,>Y 有照片最好发一下，有可能是打火。 a>s v 栅网之间位置过近或者孔位偏差会造成打火。 a^sR?.+3 有可能是没装好，也有可能是本身栅网的问题。 (2025-08-23 17:57) c\^61T i2z7MY 没有拍照，网子已经打磨了

quan6658

2025-08-30 16:44

镀红外膜用霍尔源是比射频源更好吗？我们用霍尔源镀红外膜料，怕膜料氧化，离子源充气都是氩气，结果气体分配片消耗好大，感觉气体分配片的金属都镀到膜里面去了，气体分配片用不了40小时就穿孔了，这个该怎么去设置气体？是不是还是要充一些氧或者改用特殊材质的气体分配片，现在用的气体分配片是不锈钢的

ouyuu

2025-09-03 01:30

quan6658:镀红外膜用霍尔源是比射频源更好吗？我们用霍尔源镀红外膜料，怕膜料氧化，离子源充气都是氩气，结果气体分配片消耗好大，感觉气体分配片的金属都镀到膜里面去了，气体分配片用不了40小时就穿孔了，这个该怎么去设置气体？是不是还是要充一些氧或者改用特殊材质的气体分配片，现在 .. (2025-08-30 16:44) W<9GwMU

射频源因为离子速度高（加速电压高），所以对折射率的提高比较大，
也就是说折射率的稳定性来讲，射频源不如霍尔源。（因为霍尔源提高不多）
红外膜因为厚度大，如果没有直控的话，确实霍尔源要比射频源更容易控制。
因为折射率来讲霍尔源更稳定。

红外膜料是硫化锌吗？硫化锌只能用氩气。
气体分配片你可以选用一些高熔点的金属做，不过成本会很高。
比如说钨、钼、石墨……

quan6658

2025-09-09 14:54

ouyuu:射频源因为离子速度高（加速电压高），所以对折射率的提高比较大， d3 N %V.w
也就是说折射率的稳定性来讲，射频源不如霍尔源。（因为霍尔源提高不多） |]B]0J#_
红外膜因为厚度大，如果没有直控的话，确实霍尔源要比射频源更容易控制。 =]Ek12.
因为折射率来讲霍尔源更稳定。 ~#j`+
....... (2025-09-03 01:30) w$t2Hd

谢谢版主解答

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