随便聊聊离子源

近几年国内兴起来很多镀膜机制造厂家，老牌的国外镀膜机厂家日渐衰微。
国外厂家以前值得夸耀的离子源系统和光控系统国内也基本攻克了，也就是稳定性上有点优势。

国内镀膜机上常见的离子源应该是霍尔源和射频源。
这两种源都利用了磁场--电子在磁场做圆周（螺旋）运动，
从而增加了电子在空间的行程，增加了和工作气体碰撞的几率。
不同的是霍尔源一般是永磁铁，磁场没有变化；
而射频源是震荡磁场，磁场会周期变化，电子也会周期振荡。
霍尔源一般没有栅极，所以离子的能量（电压）比较小，但是数量（电流）可以很大；
射频源有栅极，所以离子能量（电压）可以加的很高，但是数量（电流）有限制。
一般镀膜时候离子电压在1kv水平就够了；
离子能量增大到10kv水平，这个能量能把基材表面的颗粒打飞，一般用于离子溅射；
离子能量加大到几百万电子伏特时，能把离子直接打进基材里面，这个就用在离子注入机上。

射频源的难点在于栅网和射频匹配，
栅网受热会膨胀变形，而栅网之间通常离得很近，受热变形后就容易接触打火。
新的栅网还好说，随着栅网越用越薄，变形的几率就越来越大。
进口栅网一般是整块钼块掏制的，就是为了克服受热变形。
用钼板旋压则制作成本较低，但是变形量比掏制的要大很多。

射频匹配就是调整可变电容来匹配射频震荡回路，使得反射电流最小化。
一般只要接触良好，线圈不发生变形，LC震荡回路的匹配值只和真空度和气体有关，
离子源本体因为会要切换气体（一般是Ar和O2），所以必须自动匹配，
中和器只用Ar，所以匹配好了基本上不会变化。
如果发生反射很高的情况，要么就是接触产生问题了，要么就是线圈变形了，
或者就是哪里对地短路了。

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