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infotek 2025-06-11 08:04

元件内部场分析仪:FMM

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元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 LUB${0BrA  
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元件内部场分析仪:FMM &xRo^iV?  
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元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 ;AO#xv+#  
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评估模式的选择 >B]'fUt5a  
  
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为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 RuII!}*  
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评价区域的选择 okbQ<{9  
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元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 wF((  
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不同光栅结构的场分布 I f\fLhM  
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任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: ^#-nE7  
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光栅结构的采样 ` ,SiA-3*  
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虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 ,^uEYT}j  
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分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 Q%xC}||1s"  
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光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 V4_=<W  
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输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) /5u<78GW1  
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对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 .ev?"!Vpp9  
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输出数据的采样:二维周期光栅 Q)IKOt;N]  
8P|D13- Q  
当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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