| gobetter |
2007-07-02 11:14 |
第二届光电子探测与成像技术及应用国际学术会议暨展览会
第二届光电子探测与成像技术及应用国际学术会议暨展览会 X(/fE?%; UY9*)pEE .pPuBJL]< 会议及展览时间:2007年9月9日—2007年9月12日 8F>9CO:&N z&H.fs L 会议及展览地点: 中国.北京理工大学中心教学楼 nZi&`HjQ Zocuc"j 组织机构: #EUT"^:d wA$?e} 主办单位: @cIYS%iZ kAp#6->(q 中国兵工学会 -Wa<}Tz Ry}4MEq] 北京理工大学 _5S0A0 BTwc(oL 国际光学工程学会(SPIE) &v0]{)PO g8E5"jpXx3 协办单位: M 0}r)@ fUf1G{4 北方夜视技术股份有限公司 I N3-ZNx cr -5t4<jK 北京威斯顿亚太科技有限公司 ! xM=7Q
k W3[>IH"+ 日本滨松光子学株式会社 lfb+ )s >dK0&+A 中国宇航学会光学专业委员会 xkFa TI8\qIW 中国光学学会光电专业委员会 ">=E p+ix HgW!Q(* 北京市光学学会 9j^rFG!n %|+aI? 承办单位: ^|oI^"IQ= )6%*=- 中国兵工学会光学专业委员会 #f(tzPD X,+a 6F 北京理工大学信息科学技术学院 e%pohHI +fY@q,` 论文集出版单位:国际光学工程学会(SPIE) DXD+,y\= 8>j&) @q 展览承办单位:北京高博特广告有限公司 f9UDH8X GKEOjaE 一、会议及展览主旨 Cm8h
b mI<s f?. 1. 为国内外光电子探测与成像的专家、学者、企业提供一次技术展示 与研讨的机会。 "4xo,JUf I/upiq y 2.为国内外企业搭建一个相互了解的桥梁! %h0BA.r 0J[B3JO@M 二、参会人员 kK4+K74B 3d;J"e+? 本次会议将汇集世界各国共500名在光电行业作出卓越成果的专家、学者、企业高层发言。为参展商提供一个与国际光 PUD8 z2Wblh"_ 电著名人士面对面交流 lGK7XAx, 4sSw7` 的机会! 2sgp$r ^& *;]S` 三、 会展观众 fzVN;h 9Bpb? 1.大会主席与500名参会人员将到场参观。参展商可以借此交流技术、商讨合作。 WF~x`w&\ :''Swi<H 2.大会将组织企业买家到场参观,为参展商带来大量的销售机会。 \kKd:C{ Qt\:A!'jw 3. 组织各大中院校的师生到场参观,提高参展商的知名度和美誉度,建立良好的企业形象。 D&K9!z"] Ok)f5")N % 四、参展范围: (bsywM GMZ6 dK 1.光电子成像:像管(像增强器与高速摄影变像管);光子计数器件与系统; 摄像器件与系统; 电子光学,微通道板、 1Hhr6T^) #a@ jt 光阴极、荧光屏;微 L Y4bn)Qf cGo_qR/B(> 光成像系统。 -#;ZZ\fdj _IEbRVpb 2.光电子探测:光电探测器材料; 光电探测器;非致冷探测器;探测器性能检测与评价;红外成像与探测系统。 h8M_Uk HD{u#~8{ 3.图像处理:像质评价与改善;模式识别,图像融合与超分辨力;多维图像处理技术;三维图像获取与处理。 Z$c&Y>@) 7s%1?$B 4.光电系统设计、制造与检测:新型光学系统设计与优化;微光学与二元光学及其应用;先进光学制造与检测技术;非 Q~Nq5[ bUy!hS;s 球面和自由曲面元件制 +-TEB H_S"4ISS_ 造检测技术; 光学薄膜。 /W
f.Gt9[ RWu<
dY#ym 5.相关技术与应用:太赫兹技术; 激光探测与成像;极紫外和X射线探测与成像;光电探测系统成像与评价;光电探测 {C?$osrr jp}.W 系统应用。 w(S&X"~ uk WL3 6.激光材料、激光器及激光应用、红外材料、技术及其应用、光电显示及照明、光学元件、仪器、材料、光通讯技术及 c3rj
:QK6I Hsov0 应用。 sAA;d !.iFU+?V 五、参展费用: kuLur)^ o*d (; 标准展位2米×2米:5000元/单元;(包括咨询桌一张,椅子两把,展板,中英文双语楣板字,射灯两个,20V插座一个 &\5bo=5V FncP,F$8
) j5n"LC+oz {Z!t:'x8 光地展位20000元/16平米;(16平米起租,场地内不含任何设施,特装费自理) #/9Y}2G|] pcOKC 0b. 参会费用:1200元/人,外宾:450美元/人 ['>r tV A=ez,87 参展联系:北京高博特广告有限公司 ??#EG{{ Yc)Dx3 联系人:孙柏山(先生) 13641190351 hWn-[w/l_ Z3Ww@&bU | |