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2007-07-02 11:14 |
第二届光电子探测与成像技术及应用国际学术会议暨展览会
第二届光电子探测与成像技术及应用国际学术会议暨展览会 jM[]Uh hZtJ LY 2)T.Ci cx 会议及展览时间:2007年9月9日—2007年9月12日 C^ 1;r9 i%#
<Hi7 会议及展览地点: 中国.北京理工大学中心教学楼 =z4kK_?F, d>hLnz1O 组织机构: cyXnZs ?| PzH#tG&.j 主办单位: lG R6S h(gpqSN 中国兵工学会 $.KDnl^ wvz_)bN~A 北京理工大学 @QbTO'UzK` O m5+j:YM 国际光学工程学会(SPIE) \9%RY]TK3 eUEO~M2&U{ 协办单位: ?bw1zYP ((
{4)5} 北方夜视技术股份有限公司 &Ef_p-e-P Bs;.oK5!n@ 北京威斯顿亚太科技有限公司 Zp_vv@s AfX lV-v 日本滨松光子学株式会社 LgJUMR8vUO dW9Ci"~v 中国宇航学会光学专业委员会 dS)c~:&+ 'eg;)e:`b+ 中国光学学会光电专业委员会 L9^h.Y7 aqoxj[V^3L 北京市光学学会 BkJNu_{m? @Rs3i;"W 承办单位: g3kF&+2i XHYVcwmDz- 中国兵工学会光学专业委员会 I3" GGp3L [*z`p;n2D 北京理工大学信息科学技术学院 &vV_,$ jQi)pVT^ 论文集出版单位:国际光学工程学会(SPIE) BiI`oCX zOT(>1' 展览承办单位:北京高博特广告有限公司 ~]C m X~>2iL 一、会议及展览主旨 -=VGXd jCxg)D7W 1. 为国内外光电子探测与成像的专家、学者、企业提供一次技术展示 与研讨的机会。 Pj7n_&*/ 'G8.)eTA' 2.为国内外企业搭建一个相互了解的桥梁! gFAtIx4 ~spfQV~ 二、参会人员 zMbz_22* ;6/dFOZn 本次会议将汇集世界各国共500名在光电行业作出卓越成果的专家、学者、企业高层发言。为参展商提供一个与国际光 L0EF
CQ7 rFU|oDF 电著名人士面对面交流 AA~6r[*~ 2P ic 4Z 的机会! 6R';[um?q d!#qBn$*[ 三、 会展观众 x$;kA}gy rBrJTF:. 1.大会主席与500名参会人员将到场参观。参展商可以借此交流技术、商讨合作。 L_QJS2
s2;b-0 2.大会将组织企业买家到场参观,为参展商带来大量的销售机会。 =.yKl*WV{ "?(N 3. 组织各大中院校的师生到场参观,提高参展商的知名度和美誉度,建立良好的企业形象。 MrFi0G7u ;=F]{w]$+ 四、参展范围: ZhYOz 5,u'p8}. 1.光电子成像:像管(像增强器与高速摄影变像管);光子计数器件与系统; 摄像器件与系统; 电子光学,微通道板、 >uVr;,=y _NkbB"+L 光阴极、荧光屏;微 XfYhLE w//L2. 光成像系统。 #t?tt,nc} ^Uq"hT(41 2.光电子探测:光电探测器材料; 光电探测器;非致冷探测器;探测器性能检测与评价;红外成像与探测系统。 .7v
.DR> UCL aCt - 3.图像处理:像质评价与改善;模式识别,图像融合与超分辨力;多维图像处理技术;三维图像获取与处理。 8}<4f|? oRQJ YH 4.光电系统设计、制造与检测:新型光学系统设计与优化;微光学与二元光学及其应用;先进光学制造与检测技术;非 @WfX{485 GMJ</xG 球面和自由曲面元件制 7-`iI(N< TaTs-]4 造检测技术; 光学薄膜。 \aB>Q"pS +c-?1j 5.相关技术与应用:太赫兹技术; 激光探测与成像;极紫外和X射线探测与成像;光电探测系统成像与评价;光电探测 "*N=aHsj A0`#n|(Ad! 系统应用。 Z+]Uw /`vn/X^?^ 6.激光材料、激光器及激光应用、红外材料、技术及其应用、光电显示及照明、光学元件、仪器、材料、光通讯技术及 _pe_w{V-b6 w0!4@ 应用。 b$k|D)_| VdetY\ 五、参展费用: <Zn-P YH^h?s 标准展位2米×2米:5000元/单元;(包括咨询桌一张,椅子两把,展板,中英文双语楣板字,射灯两个,20V插座一个 Tye[iJ +8~C&K: ) eSlZAdK -`< | |