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2007-06-01 16:59 |
光学设计中的名词解释
角放大率 GqD!W8+ 近轴像空间主光线的角度与近轴物空间主光线角度之比。角度的计算考虑近轴的入瞳和出瞳位置。 $Ex 9 变迹法 _kY[8e5 变迹法指的是光学系统的入瞳照明的均匀程度。在缺省的情况下入瞳总是均匀照明的。但在需要得时候,入瞳必须有必要采用非均匀照明。为此,支持入瞳变迹法,这样使得入瞳上的光能量的振幅可为变量。ZEMAX支持三种入瞳变迹法:均匀分布,高斯分布和正切分布。对每一种振幅分布(除均匀分布),变迹因子决定了光能量振幅对入瞳变化比例。参见“系统菜单”中变迹类型和变迹因子的讨论。 `0G.Y ZEMAX也支持用户自定义变迹,而且用户自定义变迹可置于任何一个表面。表面变迹的作用不同于入瞳变迹,原因在于表面不一定位于入瞳。关于表面变迹的更多信息,参见“表面类型”一章中的“用户自定义表面”。 qfH~h g 后焦长度 tDLk ZCP ZEMAX定义后焦长度如下:最后一个玻璃面到与无穷远物体共轭的近轴像面的Z轴方向上的距离。如果光学系统中没有玻璃面,则后焦长度定义为第一个面到与无穷远物体共轭的近轴像面的Z轴距离。 c+i`Zd.m< 基面 \NQ)Po@z 基面这一术语(有时也称为基点)源于那些特定的共轭位置,在这些位置上物面与像面有确定的放大率。 6ewOZ,"j"4 基面包含主面(其上的横向放大率为1),反基面(其上的横向放大率为-1),节点平面(其上的角放大律为1),反节点平面(其上的角放大律为-1),焦平面(对像空间焦平面而言放大率为0,对物空间焦平面而言放大率为∞) tD0>(41K 除焦平面以外,其他基面都是相互共轭的,也就是说像空间的主平面和物空间的主平面共轭,其它依此类推。如果像空间和物空间的折射率相等,节点平面和主平面重合。 ?nSp?m; ZEMAX列出了像面到不同的像空间平面的距离,同时也列出了第一个面到不同的物空间平面的距离。 tfKeo|DM" 主光线 I~]mX; 如果光学系统没有渐晕并且没有像差,主光线就被定义为通过特殊场点的光线,它通过入瞳中心,到像平面上。请注意,在没有渐晕和像差的情况下,任何通过入瞳中心的光线也将通过孔径光阑和出瞳的中心。 FR6I+@ oX~ 考虑渐晕因子时,主光线被认为是通过渐晕瞳中心的光线,这意味着主光线不一定通过光阑的中心。 g*c\'~f; 如果存在入瞳像差(事实上的确存在入瞳像差),那么主光线可能通过近轴入瞳的中心(如果没有使用光线瞄准),或者光阑的中心(如果使用光线瞄准),但在通常情况下,主光线既不通过近轴入瞳的中心,也不通过光阑的中心。 F#bo4'&>@ 如果有渐晕因子使得入瞳偏轴,那么主光线将通过渐晕入瞳(如果不使用光线瞄准),或者渐晕光阑表面(使用光线瞄准)。 @SG="L 通常的约定是主光线通过渐晕入瞳的中心,而Principal Pay通过非渐晕光阑。ZEMAX从不使用Principal Pay,大多数计算使用的是主光线或者centroid(质心光线)。注意,使用质心光线作为参考是一种较高级的做法,因为这种计算方法是基于实际照明像面的光线的和效应,而不是任意选择一条“特殊”光线作为计算依据。 KJJb^6P48W 坐标轴 Y& | |