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infotek 2025-03-26 15:58

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 5B@+$D[0?3  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ]Z@- r  
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场景 3xh~xE  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 !,PG!Gnl  
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系统构建块
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组件求解器 EV z>#GC  
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总结 &[}b HX /  
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几何光学仿真 {A2(a7vV  
通过光线追迹 Dx/BxqG6}_  
 PW x9CT  
结果:光线追迹 u1xCn\  
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快速物理光学仿真 +Fp8cT=1  
通过场追迹 SZW`|ajH  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9^,MC&eb  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 YD_hg#=n  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 D]\of#%T  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 (`\ DDJ[  
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总结 $ (/=Wn  
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