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infotek 2025-03-26 15:58

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 tJff+n>  
6 4?Pfir6  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Sbp  
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场景 X2i*iW<  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 M|ms$1x  
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系统构建块
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HF]EU!OT  
组件求解器 J`W-]3S#  
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系统构建块 u %'y_C3  
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r?\|f:M3  
GYd]5`ri  
总结 _r]nJEF5  
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O"\nR:\  
`YU=~xQ  
几何光学仿真 3^XVQS***  
通过光线追迹 |gW    
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结果:光线追迹 alc]  
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9^au$KoU  
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快速物理光学仿真 BB63x Ex  
通过场追迹 Ge^Qar  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 &Xv1[nByU  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 :@/"abv  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 iV!@bC,  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 f TO+ZTRqf  
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总结 iDw.i"b  
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