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infotek 2025-03-26 15:58

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 r+k g$+%b  
F+ %l= fs  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 S,x';"  
tl; b~k  
(H8JV1J  
场景 DTlId~Dyq  
SBI *[  
J7Mbv2D  
;!A=YXB  
在VirtualLab Fusion中构建系统 ~@DdN5  
V8#NXU g<!  
系统构建块
6AdC  
&["e1ki  
qOy0QZ#0  
/0o#V-E)  
组件求解器 Y,Lx6kU  
W{c Z7$d  
X'U~g$"(+  
fejC ,H4I  
~1{ppc+  
3l"8_zLP  
系统构建块 a7685Y  
2;(+]Ad<  
bz}-[W+  
I1 Otu~%d  
总结  md,KRE  
wr5v-_7r,  
[8~P Pc^  
T.jCF~%7F  
几何光学仿真 Nv^b yWqu  
通过光线追迹 `?O0)  
^qzH(~g{M  
结果:光线追迹 u-_1)'  
rzs-c ?  
&B ]1 VZUp  
yO}5.  
快速物理光学仿真 x[0O*ty-*<  
通过场追迹 A$]s{`  
91]sO%3  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]T'7+5w  
}=}wLm#&1  
i4]oE&G  
g+5c"Yk+u~  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 2v2XU\u{t  
$rlrR'[H  
kIX1u<M~  
bAbR0)  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 x|O^#X(,  
.`Q^8|$-K  
RWGf]V]6  
/M+Du,  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 T@Y, 7ccpd  
 vP=68muD  
b+|3nc!  
@Ns[qn;9  
总结 8XG';K_  
^5.XQ 0n  
6JDaZh"=K  
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