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infotek 2025-03-26 15:58

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 (^]3l%Ed  
ViUx^e\  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 =6=l.qyYK  
mqY=N~/O  
%UG|R:  
场景 ziv+*Qn_b4  
bzZ7L-yD  
Ty*+?#`  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 V5 Gy|X  
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系统构建块
w,X J8+B  
}}Gkipp  
(R9"0WeF  
m &[(xVM  
组件求解器 zXx A"  
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IU"8.(;o  
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系统构建块 QHtN_Q_F  
sGa "  
$-\%%n0>6  
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总结 %Siw>  
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几何光学仿真 x$pz(Q&v  
通过光线追迹 |Vp ?  
.fK~IKA  
结果:光线追迹 T`c:16I  
"i!W(}x+  
<<9|*Tz  
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快速物理光学仿真 _&]Gw, ~/i  
通过场追迹 KSU hB  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 G+m[W  
q~{O^,4S  
WJ\,Y} J  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 X& XD2o"rt  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {H 3wL  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 `J;g~#/k  
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