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infotek 2025-01-22 08:07

二维周期光栅结构(菱形)光波导的应用

摘要 FD8N"p  
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如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导系统,结合微结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、偏振和衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形光栅结构组成。 vo#UtN:q  
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建模任务:专利WO2018/178626 pi ,eIm  
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任务描述 UNkCL4N  
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光波导元件 o!!yd8~*r  
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使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 x*Y@Q?`>5W  
4'LB7}WG  
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-Q U^c2  
光波导结构 H `(exa:w  
I:d[Q s  
使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 :.45u}[  
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|K|h+fgG6*  
a@0BBihz  
光栅#1:一维倾斜周期光栅 aM$W*- Y  
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几何布局展示了2个光栅: x4/M}%h!;B  
Y>&Ew*Y  
b/Xbs0q  
•光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅  BouTcC  
•光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交) .({smN,B  
Ey4z.s'-l  
*>+,(1Fz  
= hN !;7G  
光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 B0ndcB-  
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使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。 "|HDGA5  
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Q;D0<Bv  
Jzp#bgq}|  
可用参数: 6}KZp~s  
•周期:400纳米 EVNY*&p  
•z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm kGN+rHo   
•填充系数(非平行情况下底部或顶部):50% bk\yCt06y;  
•倾斜角度:40º 5efpeu  
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Bk+{RN(w  
@_LN3zP  
总结—元件 G7CG~:3h+  
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H~E(JLcU  
具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。 Ogp"u b8  
i}~SDY  
A<B=f<N3gV  
E.U_W  
可用参数: UDL RCS8i  
•周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米) :Pv*, qHE  
•调制深度:100nm c-Pw]Ju  
•填充系数:65% ?]4>rl}  
•菱形网格的角度:30° >|Cw\^  
STJJU]H  
>X51$wBL  
ZZyDG9a>7  
总结——元件 Vy|6E#U  
YQS5P#  
%~QO8q_7  
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L =8+_0  
O%ug@& S{  
结果:系统中的光线 {Ions~cO)  
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|> _!eS\=<  
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结果  <Tot|R;  
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结果:场追迹 I=!rbF;Z  
gp-T"l  
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UG<79"\i  
VirtualLab Fusion技术 C -?!S  
 PTS]7  
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