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infotek 2025-01-22 08:07

二维周期光栅结构(菱形)光波导的应用

摘要 |_A35"v  
OU[Sm7B  
如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导系统,结合微结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、偏振和衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形光栅结构组成。 xo*a9H?@  
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建模任务:专利WO2018/178626 ]_ _M*  
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任务描述 v<c8qg  
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光波导元件 phNv^R+  
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使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 *v&g>Ni  
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光波导结构 NTn-4iJy  
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使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 5ecqJ  
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w+JDu_9+A]  
光栅#1:一维倾斜周期光栅 jbG #__#_  
N (43+  
Z*oGVr g  
几何布局展示了2个光栅: 3n,F5?! m  
X09& S4  
a|OX4  
•光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅 YUc&X^O  
•光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交) ? 1_*ct=g9  
3vMfms  
Y(-+>>j_  
U/TF,JUI  
光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 QYg2'`(  
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Xp%JPI {  
使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。 Bf8 #&]O  
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可用参数: ] @IzJz"R  
•周期:400纳米 Y>IEB,w  
•z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm &'i>5Y  
•填充系数(非平行情况下底部或顶部):50% &t`l,]PQ=6  
•倾斜角度:40º @C?RbTHy  
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uNLA/hL+n  
@ UX'(W  
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总结—元件 yV_aza  
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具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。 f BukrPsV  
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EdLbVrN,  
k WF, *@.B  
可用参数: >12phLu  
•周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米) )]?sCNb  
•调制深度:100nm L%Me wU0TZ  
•填充系数:65% QYDSE  
•菱形网格的角度:30° h>q& X4-  
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8L^5bJ  
总结——元件 l jQru ^(u  
h# B%'9r  
G D$o |l]\  
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Nxp 7/Nn3  
~4<xTP\*  
结果:系统中的光线 5PqL#Eu`!  
1=}+NK!  
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结果 GU([A@;  
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结果:场追迹 9'Le}`Gf  
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VirtualLab Fusion技术 Op0n.\>  
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