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infotek 2025-01-07 07:55

元件内部场分析仪:FMM

摘要 }#u.Of`6"  
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元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 Hwz.5hV"  
u<VR;p:y  
元件内部场分析仪:FMM 4"om;+\  
St1Ny,$yU  
Qj1q x;S  
元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 eK=W'cNu  
\E(Negt7  
评估模式的选择 |61W-9;  
  
>/r^l)`9_f  
%4=r .9  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 UJ/=RBfkJ  
;?{N=x8  
评价区域的选择 oMb&a0-7u  
   ]4uY<9VL  
qZV.~F+  
q =\3jd  
元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 ^$N}[1   
0r=KY@D  
不同光栅结构的场分布 !OCb^y  
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任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: G1=/G  
T{USzMj  
z]twh&^1L  
光栅结构的采样 wNfWHaH" m  
fn~Jc~[G|  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 {:63% j  
tL#]G?0d  
`y^tCJ2u*  
N!{waPbPi  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 6T qs6*  
*_ U=KpZF  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 J7RO*.O&Iq  
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<`f~Z|/-_(  
输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) )B!64'|M  
-4=\uvYh  
7 {n>0@_  
对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 @ptE&m  
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输出数据的采样:二维周期光栅 .H33C@  
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当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
>.76<fni  
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