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infotek 2024-12-18 14:34

衍射级次偏振态的研究

摘要 YTc X4cC  
XA&Vtgu  
光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 [IF5Iv\b  
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任务说明 00?_10x)  
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简要介绍衍射效率与偏振理论 m44"qp  
某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 &%@b;)]J  
如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: M@k8;_5  
A &d67,&B  
其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 [9wuaw"~[Z  
如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: $ ]ew<j  
4jOq.j  
因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为。  b6`_;Z  
r%craf  
光栅结构参数
U?bQBHIC  
研究了一种矩形光栅结构。 ~HFqAOr  
为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Bb,l.w  
根据上述参数选择以下光栅参数: [tKH'}/s=  
光栅周期:250 nm 0tL#-47  
填充因子:0.5 I%^Bl:M  
光栅高度:200 nm \jkMnS6FvL  
材料n_1:熔融石英(来自目录) Jv,*rQH  
材料n_2:二氧化钛(来自目录) o9<)rUy  
` XvuyH  
.T2P%Jn.  
S%^*h{9u"  
偏振态分析 qG]G0|f  
现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 X,] E {  
如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 5~,/VV  
为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 c'wxCqnE   
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模拟光栅的偏振态 0r=KY@D  
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瑞利系数现在提供了偏振态的信息: &y} ]^wB  
在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 \y7kb  
对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。  dcd9AW=  
对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 !_No\O  
QY^v*+lr\  
Passilly等人更深入的光栅案例。 7;8#iS/  
Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 9'My /A0  
因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ;8~tt I  
7)i6L'r  
R7 WGc[  
WZ A8D0[  
光栅结构参数 7m<;"e)  
在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Ag82tDL[u  
由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 yP~O C|Z  
由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 b9%G"?~Zz  
但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 RT~6#Caf  
vNA~EV02  
.H33C@  
光栅#1——参数 # ~I.F4  
假设侧壁倾斜为线性。 a,YU)v^  
忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 #cAX9LV  
为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ~ Pm[Ud  
光栅周期:250 nm YQ`m;<  
光栅高度:660 nm t0"2Si  
填充因子:0.75(底部) h{Zd, 9H  
侧壁角度:±6° ng-rvr  
n_1:1.46 VGVb3@  
n_2:2.08 D-S"?aO-  
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H!81Pq~  
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光栅#1——结果  &$ x1^  
这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 t*Xo@KA  
与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 m35$4  
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|/M^q{h&7s  
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光栅#2——参数 -Z<V? SFOK  
假设光栅为矩形。 q Q/<\6Sl  
忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 'k1vV  
矩形光栅足以表示这种光栅结构。 *$Tz g!/  
光栅周期:250 nm i\yp(tE%^  
光栅高度:490 nm TEEt]R-y  
填充因子:0.5 LV6BSQyQ  
n_1:1.46 ^*@D%U  
n_2:2.08 9N*!C{VW  
z<~yns`Y.  
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光栅#2——结果 f8 vWN  
这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 SbX#$; ks~  
与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 62Q`&n6  
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