hyperlith光刻软件
hyperlith光刻功能 %t([ 极紫外光刻 (EUV) :5L9tNr{_ 严格的 OPC 和源优化 Be68 Fu0 嵌入式多层镜面缺陷任意缺陷几何形状 exiCy1[+ 可检测性 CSN]k)\N( 印刷适性 N32!*TsWs 离轴阴影效应、HV 偏差(包括非常量散射系数)吸收器堆栈分析(EM-Stack)吸收器轮廓(侧壁和拐角圆化吸收体缺陷EUV 的 OPC(小面积)多层镜面结构 (PSM) Sy6Y3 ~7 双重图案 O'Lgb9 光刻蚀刻 光刻蚀刻 j,K]TJ 光刻冻结 光刻蚀刻 iN %kF'&9 侧壁间隔物 po}Jwx! 晶圆形貌效应 21O!CvX 非平面光阻 O3bo3Cm$ 首次接触时的潜在特征 <T>C}DGw 相移掩模版 f\nF2rlu L%# #U'e3 交替 PSM:移位和不移位开场之间的强度不平衡 il(dVW 相位缺陷 v/
dSz/<] 湿法蚀刻/双沟槽 u7=`u/ 无铬相光刻 QmvhmsDL 衰减相移掩模版 >)YaWcI 脱保护收缩的 NTD gI~Ru8 SEM 诱导收缩 t|0Zpp; EUV 和 DUV 的随机效应 ,]gYy00w0s PEB 扩散效应 t4R=$
km 表面抑制 ypM0}pdvTp 温度效应 lEL&tZ} 侧壁分析 IP~*_R"bM 内外角偏差分析 ^vS+xq|4" 拉回 tY-{uHW&h 最高亏损 \Bg;}\8X =B@owx 薄膜堆叠分析 v@_b"w_TY
UIc )]k% BARC 优化 ak 94"<p 多层镜反射率 `rzgC \ 抵抗厚度效应
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