hyperlith光刻软件

hyperlith光刻功能 Q\pTyNAYn  
极紫外光刻 (EUV)   B0_[bQoc1  
严格的 OPC 和源优化 6}Se$XMl  
嵌入式多层镜面缺陷任意缺陷几何形状 -dCM eC  
可检测性 Q&zEa0^rG6  
印刷适性 Q9-o$4#R[  
离轴阴影效应、HV 偏差（包括非常量散射系数）吸收器堆栈分析（EM-Stack）吸收器轮廓（侧壁和拐角圆化吸收体缺陷EUV 的 OPC（小面积）多层镜面结构 (PSM) ^hG Y,\K9  
双重图案   aR3R,6ec  
光刻蚀刻 光刻蚀刻 I9sx*'  
光刻冻结 光刻蚀刻 2E V M*^A  
侧壁间隔物 K4]42#
  
晶圆形貌效应 ikr|P&e#u  
非平面光阻 8db J'  
首次接触时的潜在特征   X6+2~'*t  
相移掩模版 W
D wW`  
jwm2ZJ
W  
交替 PSM：移位和不移位开场之间的强度不平衡 t7A '  
相位缺陷 _R&}CP  
湿法蚀刻/双沟槽 80PlbUBb!  
无铬相光刻 ]:lqbg[J  
衰减相移掩模版  3kAmRU  
脱保护收缩的 NTD >d.o1<  
SEM 诱导收缩 G#V}9l
8Q  
EUV 和 DUV 的随机效应
-J

L  
PEB 扩散效应 ]_cBd)3P}  
表面抑制 ?vHow$  
温度效应 x"hZOgFZ  
侧壁分析 I6bekOvP  
内外角偏差分析 %Pr PCT  
拉回 "qL4D4  
最高亏损 4nC`DJ;V  
(
K5w0  
薄膜堆叠分析 -7GF2 @  
q3+G  
BARC 优化 nZ;h&N-_-  
多层镜反射率 )XB
31^  
抵抗厚度效应