hyperlith光刻软件

hyperlith光刻功能 ?mU\ N0o  
极紫外光刻 (EUV)   SO3cY#i z"  
严格的 OPC 和源优化 ,Kw5Ro`I:  
嵌入式多层镜面缺陷任意缺陷几何形状 .,M;hu
Rg  
可检测性 JDA]t&D!v  
印刷适性 G6Nb{m  
离轴阴影效应、HV 偏差（包括非常量散射系数）吸收器堆栈分析（EM-Stack）吸收器轮廓（侧壁和拐角圆化吸收体缺陷EUV 的 OPC（小面积）多层镜面结构 (PSM) qjAh6Q/E`
 
双重图案   gu<V(M\  
光刻蚀刻 光刻蚀刻 %i"}x/CD[  
光刻冻结 光刻蚀刻 [7.agI@=  
侧壁间隔物 Ly>OLI0x_  
晶圆形貌效应 |dk[cX>  
非平面光阻 qfrNi1\9-  
首次接触时的潜在特征   /2
XW  
相移掩模版 :gf;}  
6D/tK|  
交替 PSM：移位和不移位开场之间的强度不平衡 k>5O`Y:  
相位缺陷 "SR5wr   
湿法蚀刻/双沟槽 Qqq <e  
无铬相光刻 V!&P(YO:  
衰减相移掩模版 >1ZJ{se  
脱保护收缩的 NTD * t!r@k  
SEM 诱导收缩 4pPI'd&/7  
EUV 和 DUV 的随机效应 X;!~<~@Y  
PEB 扩散效应 !` 2
6\@1  
表面抑制 =~jAoOC@  
温度效应 5I' d PNf  
侧壁分析 6(KmA-!b(O  
内外角偏差分析 i_
QcC  
拉回 J@]k%h  
最高亏损 eW50s`bKY  
re`t ]gzb  
薄膜堆叠分析 CW`
!}yu%  
CT*,<l-D  
BARC 优化 hs(W;tR@W  
多层镜反射率 g_z/{1$  
抵抗厚度效应