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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
8hA=$}y&x 内容简介 ' qVa/GJ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 f ebh1rUX 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 1MSu])
W 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 jgIzB1H vRs5-T
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 c^k.
<EA 目录 )T_#X! Preface 1 1=.?KAXR 内容简介 2 ,:{+
H 目录 i z$b!J$A1 1 引言 1 ]vErF=[U, 2 光学薄膜基础 2 9m!fW|4 2.1 一般规则 2 v,B\+q/ 2.2 正交入射规则 3 8m0sEV> 2.3 斜入射规则 6 B:.rp.1 2.4 精确计算 7 s9>!^MzBK 2.5 相干性 8 VV0$L=mo 2.6 参考文献 10 S\(_"xJPp 3 Essential Macleod的快速预览 10 mws.) 4 Essential Macleod的特点 32 h='=uj8o5 4.1 容量和局限性 33 3\7$)p+c 4.2 程序在哪里? 33 xcA:Q`c.{ 4.3 数据文件 35 a/fYD2uNo 4.4 设计规则 35 1doqznO 4.5 材料数据库和资料库 37 VCO/s9AL 4.5.1材料损失 38 A\Gw+l<h, 4.5.1材料数据库和导入材料 39 N5DS-gv 4.5.2 材料库 41 N%+M+zEJ 4.5.3导出材料数据 43 <ZEA&:p 4.6 常用单位 43 2hP8ZfvIR 4.7 插值和外推法 46 d\M
!o*U 4.8 材料数据的平滑 50 t,_[nu(~8% 4.9 更多光学常数模型 54 %b9M\ 4.10 文档的一般编辑规则 55 ,?+yu6eLb 4.11 撤销和重做 56 3}+
\&[ 4.12 设计文档 57 D.?gV_ 4.10.1 公式 58 .MlE1n' 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 S y~ 1U 4.10.3 沉积密度 59 75f.^4/% 4.10.4 平行和楔形介质 60 FReK 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 clNP9{ 4.10.4 性能 61 ?|\Lm3%J 4.10.5 保存设计和性能 64 b8&9pLl 4.10.6 默认设计 64 dQ]j
r. 4.11 图表 64 7Z_iQ1 4.11.1 合并曲线图 67 O/Vue 4.11.2 自适应绘制 68 ~4 ab\hq 4.11.3 动态绘图 68 ~m7+^c@, 4.11.4 3D绘图 69 `Ec+i 4.12 导入和导出 73 _1ins;c52 4.12.1 剪贴板 73 "5Mo%cUp 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ||f4f3R' 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 $.Ni'U 4.13 背景 77 O9Aooe4W= 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 <3KrhhH 4.15 生成Rugate 84 zPe . 4.16 参考文献 91 ln5On_Wm 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 5|Qr"c$p 5.1 Jobs 92 J']W7!p 5.2 创建一个新Job(工作) 93 e]QkZg2?Yn 5.3 输入材料 94 .kVga+la? 5.4 设计数据文件夹 95 Dp8(L ]6 5.5 默认设计 95 gE1" .qC 6 细化和合成 97 R[QE:#hT 6.1 优化介绍 97 .JE7vPv%! 6.2 细化 (Refinement) 98 JLhp25{x 6.3 合成 (Synthesis) 100 ]+AI: 6.4 目标和评价函数 101 >qCT#TY 6.4.1 目标输入 102 SDkN 6.4.2 目标 103 4.8,&{w<m 6.4.3 特殊的评价函数 104 dU,/!|.K 6.5 层锁定和连接 104 LPC7Bdjz 6.6 细化技术 104 n2E2V<# 6.6.1 单纯形 105 dx^3(#B 6.6.1.1 单纯形参数 106 +] #>6/2q 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 o9/P/PZ\X 6.6.2.1 Optimac参数 108 kHO\#fF< 6.6.3 模拟退火算法 109 -}%zus5 6.6.3.1 模拟退火参数 109 wZ^/- 6.6.4 共轭梯度 111 N|DY)W 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ;$Y?j8g 6.6.5 拟牛顿法 112 (H$eXW7 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 )~6974 6.6.6 针合成 113 NoMC*",b> 6.6.6.1 针合成参数 114 x\*5A,w{c] 6.6.7 差分进化 114 7Ny>W(8 6.6.8非局部细化 115 ?@~FT1"6G 6.6.8.1非局部细化参数 115 {PU[MHZF 6.7 我应该使用哪种技术? 116 |^ qW
6.7.1 细化 116 0t) IWD 6.7.2 合成 117 X_h+\
7N> 6.8 参考文献 117 L@/+u+j0 7 导纳图及其他工具 118 /<mc~S7 7.1 简介 118 &c]x;#-y 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 nJ,56}
7.2.1 四分之一波长规则 119 e"vEh 7.2.2 导纳图 120 $z<CkMP!U7 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 H Q2-20 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 4ngiad6bR 7.5 斜入射导纳图 141 #8PjYB 7.6 对称周期 141 t*COzE 7.7 参考文献 142 RKe19l_V 8 典型的镀膜实例 143 /:S.("Unv 8.1 单层抗反射薄膜 145 .8"o&%$`V 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 (k[<>$hL* 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 |Oo
WGVc 8.4 W-膜层 148 rTi.k 8.5 V-膜层 149 4EOu)# 8.6 V-膜层高折射基底 150 PgVM>_nHk 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Iv{}U\ u 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 C. Sb4i* 8.9 四层抗反射薄膜 153 8}U/fQ~ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 7B'0(70 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 j#-74{Y$
J 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 n44j]+P 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 pD){K 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 lY6U $*9c 8.15十五层宽带抗反射膜 159 5~\W!|j/ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 2+|[e_ 8.17 1/4波长堆栈 162 ;N)qNiJY 8.18 陷波滤波器 163 0hPm,H*Y] 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 5bgx;z9 8.20 褶皱 165 n|(Y?`( 8.21 消偏振分光器1 169 _3)~{dQ+ 8.22 消偏振分光器2 171 A0'Yfuie 8.23 消偏振立体分光器 172 _N<8!(|w 8.24 消偏振截止滤光片 173 ^f4qs 8.25 立体偏振分束器1 174 vwP83b0ov" 8.26 立方偏振分束器2 177 akaQ6DIdG 8.27 相位延迟器 178 HSTtDTo 8.28 红外截止器 179 k&9
b&-=fk 8.29 21层长波带通滤波器 180 yM>c**9 8.30 49层长波带通滤波器 181 $PNR? 8.31 55层短波带通滤波器 182 :
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