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speos 2024-12-02 14:28

hyperlith光刻软件

极紫外光刻 (EUV) PHe~{"|d?  
ovo?lE-a0  
严格的 OPC 和源优化 XcJ'm{=   
嵌入式多层镜面缺陷任意缺陷几何形状 Ivd[U`=Q  
可检测性 ` $QzTv   
印刷适性 5JXzfc9rL  
离轴阴影效应、HV 偏差(包括非常量散射系数)吸收器堆栈分析(EM-Stack)吸收器轮廓(侧壁和拐角圆化吸收体缺陷EUV 的 OPC(小面积)多层镜面结构 (PSM) c_D,MW\IC  
\'}/&PCkr  
双重图案 "63zc 1  
?%8})^Dd>4  
光刻蚀刻 光刻蚀刻 softfjl&l  
光刻冻结 光刻蚀刻 SevfxR  
侧壁间隔物 )Rm 'YmO  
晶圆形貌效应 K~fDv  i  
非平面光阻 4N%2w(,+8  
首次接触时的潜在特征 h0Sy'] 3m  
zBrWm_R5T  
相移掩模版 2F*Dkv  
ZmR[5 mv@  
交替 PSM:移位和不移位开场之间的强度不平衡 jl 30\M7  
相位缺陷  5Xy^I^J  
湿法蚀刻/双沟槽 +QCU]Fozk  
无铬相光刻 ~ (l2%(3G  
衰减相移掩模版 % 0y3/W  
脱保护收缩的 NTD |GVGny<  
SEM 诱导收缩 ?Uy*6YS  
EUV 和 DUV 的随机效应 2y .-4?e  
PEB 扩散效应 .SKNIct M  
表面抑制 ]y)R C-N  
温度效应 YiQeI|{oN  
侧壁分析 kp<}  
内外角偏差分析 ;?HZ,"^I  
拉回 }77=<N br  
最高亏损 C^8)IN=$  
\4`saM /x  
薄膜堆叠分析 JK^B+.  
0[$Mo3c+'  
BARC 优化 6{Cu~G{]N  
多层镜反射率 >w]k3MC  
抵抗厚度效应
vurtne_000 2024-12-03 08:29
是直播带货,
ka2012 2024-12-03 22:35
广告吧,没听说这个软件。
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