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speos 2024-12-02 14:28

hyperlith光刻软件

极紫外光刻 (EUV) @)FXG~C*  
vCrWA-q#  
严格的 OPC 和源优化 NWq [22X |  
嵌入式多层镜面缺陷任意缺陷几何形状 o>!~*b';g,  
可检测性 O>{t}6o  
印刷适性 dRarNW  
离轴阴影效应、HV 偏差(包括非常量散射系数)吸收器堆栈分析(EM-Stack)吸收器轮廓(侧壁和拐角圆化吸收体缺陷EUV 的 OPC(小面积)多层镜面结构 (PSM) [K^q: 3R  
Nc^b8& 2J  
双重图案 *8(t y%5F0  
X]f#w  
光刻蚀刻 光刻蚀刻 rSzXa4m(  
光刻冻结 光刻蚀刻 ~=aI2(b  
侧壁间隔物 QyBK*uNdV  
晶圆形貌效应 $(!D/bvJ  
非平面光阻 wHDF TIDI  
首次接触时的潜在特征 e=NQY8?  
Z2Y583D  
相移掩模版 <CdG[Ih  
omDi<-  
交替 PSM:移位和不移位开场之间的强度不平衡 o Q!g!xz  
相位缺陷 xHR+((  
湿法蚀刻/双沟槽  \1c`)  
无铬相光刻 i(TDJ@}  
衰减相移掩模版 1]zyME  
脱保护收缩的 NTD oBGstt@  
SEM 诱导收缩 CuGOjQ-k~  
EUV 和 DUV 的随机效应 :7AauoI  
PEB 扩散效应 qhHRR/p  
表面抑制 67hPQ/S1  
温度效应 "#"Fp&Z7  
侧壁分析 =.3P)gY)  
内外角偏差分析 LKwUpu!  
拉回 smQpIB;  
最高亏损 ;Bc<u[G  
t+Q|l&|0  
薄膜堆叠分析 R,b O{2O  
Eo3Aak o  
BARC 优化 "Y J;-$rb  
多层镜反射率 3qwYicq,  
抵抗厚度效应
vurtne_000 2024-12-03 08:29
是直播带货,
ka2012 2024-12-03 22:35
广告吧,没听说这个软件。
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