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2024-10-16 14:11 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
6$fYt&1 内容简介
!R-z% Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 P^`duZ{T 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 xVL5'y1g B 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 !2UOC P bI)u/
讯技科技股份有限公司 6r:?;j~l
3@Z#.FV~C[ 目录 r|e-<t4.9L Preface 1 dC\ZjZZ 内容简介 2 9+s.w25R 目录 i D?yG+%&9 1 引言 1 hI?sOR! 2 光学薄膜基础 2 cRd0S*QN2 2.1 一般规则 2 jn >d*9u 2.2 正交入射规则 3 $;M:TpX 2.3 斜入射规则 6 mGUO6>g 2.4 精确计算 7 @yXfBML?] 2.5 相干性 8 <<](XgR( 2.6 参考文献 10 U7uKRv9 3 Essential Macleod的快速预览 10 B+C);WQ, 4 Essential Macleod的特点 32 Uy
? 4.1 容量和局限性 33 )*; zW!H 4.2 程序在哪里? 33 g.c8FP+ 4.3 数据文件 35 ;$Y4xM`=m 4.4 设计规则 35 0;4t&v7 4.5 材料数据库和资料库 37 #_Z$2L"U 4.5.1材料损失 38 Uw,2}yR 4.5.1材料数据库和导入材料 39 OouPj@r 4.5.2 材料库 41 b^D$jY 4.5.3导出材料数据 43 R8rfM?"W 4.6 常用单位 43 x3qW0K8 4.7 插值和外推法 46 /!^&;$A' 4.8 材料数据的平滑 50 oI)GKA_Ng7 4.9 更多光学常数模型 54 Yt|6
X:l 4.10 文档的一般编辑规则 55 [V'QrcCF 4.11 撤销和重做 56 +dA ,P\ 4.12 设计文档 57 SS`qJZ|w
4.10.1 公式 58 [aI]y=v 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 E9?phD 4.10.3 沉积密度 59 ?(*t@
{k 4.10.4 平行和楔形介质 60 h~{aGo 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 H$G0`LP0/a 4.10.4 性能 61 DvvT?K 4.10.5 保存设计和性能 64 ) ri}nL. 4.10.6 默认设计 64 ?4H i- 4.11 图表 64 2I*;A5$N1 4.11.1 合并曲线图 67
Bs?7:kN( 4.11.2 自适应绘制 68 /Q~gU< 4.11.3 动态绘图 68 &Tl
0Pf 4.11.4 3D绘图 69 zIP6\u 4.12 导入和导出 73 ` PYJ^I0 4.12.1 剪贴板 73 WTImRXK4 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ,`ZYvF^% 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 % QKZT=} 4.13 背景 77 N3u((y/ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 []a[v%PkG 4.15 生成Rugate 84 ynA|}X 4.16 参考文献 91 G$ _yy: 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 dnV[ P 5.1 Jobs 92 DJgTA]$& 5.2 创建一个新Job(工作) 93 @?YRuwp L 5.3 输入材料 94 V& C/Z}\ 5.4 设计数据文件夹 95 M33_ja +L 5.5 默认设计 95 }$bF
5& 6 细化和合成 97 J|&JD? 6.1 优化介绍 97 dt2$`X18 6.2 细化 (Refinement) 98 Vp>|hj po 6.3 合成 (Synthesis) 100 x\Z'2?u} 6.4 目标和评价函数 101 \GHiLs,! 6.4.1 目标输入 102 `,Ph/oM 6.4.2 目标 103 a'!zG cT 6.4.3 特殊的评价函数 104 :1Q!$ m 6.5 层锁定和连接 104 YZ%Hu) 6.6 细化技术 104 f4L`.~b'hb 6.6.1 单纯形 105 a33TPoj 6.6.1.1 单纯形参数 106 s}N#n( 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 } :Z#}8 6.6.2.1 Optimac参数 108 SPp#f~%m 6.6.3 模拟退火算法 109 F<!)4>2@ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 NJNJjdD> 6.6.4 共轭梯度 111 k?2k'2dy 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Bdj%hyW 6.6.5 拟牛顿法 112 7"8hC 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ` AY_2>7 6.6.6 针合成 113
ss5m/i7 6.6.6.1 针合成参数 114 -WYAN:s 6.6.7 差分进化 114 @xB*KyUW 6.6.8非局部细化 115 yRo-EP 6.6.8.1非局部细化参数 115 E*jP8 7g 6.7 我应该使用哪种技术? 116 JwJ7=P=c 6.7.1 细化 116 d6W SL;$ 6.7.2 合成 117 3> Y6) 6.8 参考文献 117 V{<xff 7 导纳图及其他工具 118 EY \H=@A 7.1 简介 118 b, :QT~g= 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 <n(*Xak{a 7.2.1 四分之一波长规则 119 _1U1(^) 7.2.2 导纳图 120 ?wO-cnl 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 nxr!`^Mne 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ;pnD0bH 7.5 斜入射导纳图 141 8>7&E- 7.6 对称周期 141 /{|fyKo\? 7.7 参考文献 142 Zfyo-Wk 8 典型的镀膜实例 143 L:9F:/G 8.1 单层抗反射薄膜 145 H/Llj.-jg 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 < P`u} 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 K# Jk _"W 8.4 W-膜层 148 _)\c&.p]f 8.5 V-膜层 149 ;& | |