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2024-10-16 14:11 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
Z0KA4O$eL 内容简介 } d6^ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 jRc#>;dN 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 p10->BBg 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ^`THV *1Q?~
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=j-{Mxb3 目录 6yqp<D0SP) Preface 1 <LY+"
Y 内容简介 2 {rQ`#?J}^? 目录 i >{Djx 1 引言 1 iDr0_y*t 2 光学薄膜基础 2 `N+ P, 2.1 一般规则 2 Vv]mME@ 2.2 正交入射规则 3 1)y}.y5S 2.3 斜入射规则 6 /2 (F 2.4 精确计算 7 SbY i|V,H 2.5 相干性 8 A\>qoR!Y 2.6 参考文献 10 aoN[mV' 3 Essential Macleod的快速预览 10 }J1#UH_E 4 Essential Macleod的特点 32 t)h3G M 4.1 容量和局限性 33 ::6@mFL R 4.2 程序在哪里? 33 D@e:Fu1\R 4.3 数据文件 35 ifUgj8i_ 4.4 设计规则 35 .E(Ucnz/ 4.5 材料数据库和资料库 37 "PPwJ/L( 4.5.1材料损失 38 Sj\8$QIXC 4.5.1材料数据库和导入材料 39 zQ~nS 4.5.2 材料库 41 t"Rn#V\c." 4.5.3导出材料数据 43 3c)xNXq m 4.6 常用单位 43 CAfG3;
4.7 插值和外推法 46 GmFNL/x8-v 4.8 材料数据的平滑 50 ! WNr09` 4.9 更多光学常数模型 54 E@p9vf-> 4.10 文档的一般编辑规则 55 u56cT/J1 4.11 撤销和重做 56 sy;~(rpg 4.12 设计文档 57 |yr}g-m 4.10.1 公式 58 >K3Lww)Ln 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 =x>KA*O1 4.10.3 沉积密度 59 '0+-Hit? 4.10.4 平行和楔形介质 60 ;IyQqP#,< 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 p)`JVq,H/B 4.10.4 性能 61 A#}IbcZ|b 4.10.5 保存设计和性能 64 =>9`qcNW_ 4.10.6 默认设计 64 gU:jx 4.11 图表 64 Onao'sjY 4.11.1 合并曲线图 67 U:H*b{`TU 4.11.2 自适应绘制 68 "\30YO>\ 4.11.3 动态绘图 68 HjrCX>v 4.11.4 3D绘图 69 bLg1Dd7Q 4.12 导入和导出 73 x(A.^Yz 4.12.1 剪贴板 73 k#
/_Zd 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ?o2L 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 EG,RlmcPp 4.13 背景 77 ]`%cTdpLj 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 9kcAMk1K 4.15 生成Rugate 84 &W1c#]q@r 4.16 参考文献 91 n,`&f~tap 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 @<_4Nb 5.1 Jobs 92 W1 E((2 5.2 创建一个新Job(工作) 93 z'
@F@k6 5.3 输入材料 94 =73wngw 5.4 设计数据文件夹 95 yA~W|q(/V 5.5 默认设计 95 Tw$la kw 6 细化和合成 97 Vx'_fb?wap 6.1 优化介绍 97 Y`%:hvy~ 6.2 细化 (Refinement) 98 /p~gm\5Z 6.3 合成 (Synthesis) 100 1Ypru<.)W 6.4 目标和评价函数 101 E=7~\7TE 6.4.1 目标输入 102 "!2Fy-Y 6.4.2 目标 103 Xr-eDUEi 6.4.3 特殊的评价函数 104 KdUmetx1 6.5 层锁定和连接 104 mhL,:UE 6.6 细化技术 104 P7Kp*He) 6.6.1 单纯形 105 Jjv,
)@yo 6.6.1.1 单纯形参数 106 bUt?VR}P( 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 tT'+3 6.6.2.1 Optimac参数 108 +`zM^'^$ 6.6.3 模拟退火算法 109 Pn0V{SJOJ% 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ]*?qaIdqu 6.6.4 共轭梯度 111 M '[.ay 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 D3$}S{Yw1 6.6.5 拟牛顿法 112 VB\oK\F5z 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 F4@``20| 6.6.6 针合成 113 42mdak}\ 6.6.6.1 针合成参数 114 `8EHhN; 6.6.7 差分进化 114 Ga"t4[=I 6.6.8非局部细化 115 jT%k{"+>+? 6.6.8.1非局部细化参数 115 L]cZPfI6 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ;kY'DKL( 6.7.1 细化 116 )=#QTiJ 6.7.2 合成 117 vn7<>k>dx 6.8 参考文献 117 S
7RB`I5 7 导纳图及其他工具 118 zmF_-Q`c 7.1 简介 118 !>TH#sU$ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 !q mnMY$ 7.2.1 四分之一波长规则 119 "9aiin 7.2.2 导纳图 120 D3N\$ D 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 gq!|0 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 7EO/T,{a 7.5 斜入射导纳图 141 Vv#|%^0 7.6 对称周期 141 ND77(I$3s 7.7 参考文献 142 })%WL;~ 8 典型的镀膜实例 143 %Sf%XNtu 8.1 单层抗反射薄膜 145 {dTtYL$'" 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 u?r=;:N|y 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 lku}I4 8.4 W-膜层 148 r&U | |