| infotek | 2024-10-14 08:59 |
线下课程——薄膜设计与镀膜工艺（12月4~6日）上海课程编号CS240016 时间地点 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司 授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天 AM 9:00-PM 16:00 授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问 课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐) 特邀专家介绍  易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 课程简介 随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。  课程大纲 1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍软件 1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图 2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响3. 材料管理 3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取 3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取 4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考波长与g 4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图 4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展 4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置 4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接 5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜 5.2 分光膜5.3 高反射膜 5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片 5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜 5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明 6. 薄膜性能分析6.1 电场分布 6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程 6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真7. 真空技术 7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏 8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术 9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素 9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术 10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题 10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术 11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜光谱测量 11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量 11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析  对此课程感兴趣可以扫码加微联系[attachment=130403]
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