微澜光学“一种具有光学间隔层的成像薄膜制备方法”专利公布

近日，据国家知识产权局信息显示，微澜光学（苏州）有限公司申请一项名为“一种具有光学间隔层的成像薄膜制备方法”的专利，公开号 CN 118746868 A，申请日期为2024年8月。 nFe<w  
专利摘要显示，本申请揭示一种具有光学间隔层的成像薄膜制备方法，包括：准备一光学间隔层，其中，所述光学间隔层至少包括一辅助层，且所述辅助层能阻止380nm以下光波长的光线透过；在所述光学间隔层的两个相对表面分别设置第一光学层以及第二光学层；使用I线光波长的光线对第一光学层以及第二光学层进行曝光；对曝光后的第一光学层以及第二光学层进行后处理，使得所述第一光学层形成聚焦层，所述第二光学层形成图文层。本申请将承载体设置为具有阻止波长在380nm以下的光线通过，或在承载体上设置辅助层达到上述效果，这样可以在光学间隔的两侧同时进行曝光，其中一侧的光不影响另一侧光学层，这样只需对光学间隔层两侧掩膜版对位，这样在生产过程中对位的误差极小。 g\:[ 55;8