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2024-09-19 14:10 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
0@0w+&*"@ 内容简介 gT{Q#C2Baw Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 FW;?s+Uyx 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 >{n,L6_t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 HQ_Ok` 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 XAKs0*J> _#E0g'3 目录 5J.bD)yrP Preface 1 IVnHf_PzF 内容简介 2 (62"8iD6 目录 i |)DGkOtd 1 引言 1 RZ?jJm$ 2 光学薄膜基础 2 G^|:N[>B 2.1 一般规则 2 Pl06:g2I 2.2 正交入射规则 3 wc@X.Q[ 2.3 斜入射规则 6 pZ{+c 2.4 精确计算 7 s-!ArB, 2.5 相干性 8 ea2ayT 2.6 参考文献 10 w$iX.2|9%u 3 Essential Macleod的快速预览 10 )gUR@V>e2 4 Essential Macleod的特点 32 j?\Qh 4.1 容量和局限性 33 ./Zk`-OBT 4.2 程序在哪里? 33 l~q\3UKlt 4.3 数据文件 35 nsC3 4.4 设计规则 35 OX0%C.K)hZ 4.5 材料数据库和资料库 37 K:[F%e 4.5.1材料损失 38 ]L.O8 4.5.1材料数据库和导入材料 39 @CL{D:d 4.5.2 材料库 41 !X#OOqPr= 4.5.3导出材料数据 43 [#vH'y 4.6 常用单位 43 a$OE0zn` 4.7 插值和外推法 46 A2Ed0|B y 4.8 材料数据的平滑 50 9d659iC 4.9 更多光学常数模型 54 Xza(k 4.10 文档的一般编辑规则 55 13=AW 4.11 撤销和重做 56 *I.f1lz%* 4.12 设计文档 57 s
WvBv 4.10.1 公式 58 '3fu 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 N/2T[s_& 4.10.3 沉积密度 59 ;7V%#- 4.10.4 平行和楔形介质 60 `5.'_3 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Z]Cq3~l 4.10.4 性能 61 `p-cSxR_ 4.10.5 保存设计和性能 64 5r|,CQ7o 4.10.6 默认设计 64 B%b4v 4.11 图表 64 L|xbR#v 4.11.1 合并曲线图 67 }@+0/W?\. 4.11.2 自适应绘制 68 :U%W% 4.11.3 动态绘图 68 $k%2J9O 4.11.4 3D绘图 69 'G4ICtHQ 4.12 导入和导出 73 X`>i&I] 4.12.1 剪贴板 73 xJ8M6O8 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 n
M*%o- 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 `(V3:F("@ 4.13 背景 77 PiIpnoM 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 S`0(*A[W* 4.15 生成Rugate 84 )9`qG:b' 4.16 参考文献 91 9}<ile7^ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 +gtbcF@rx 5.1 Jobs 92 Id .nu/ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 zKJ#`OhT 5.3 输入材料 94 NP3y+s 5.4 设计数据文件夹 95 v MH 5.5 默认设计 95 b9HtR -iR; 6 细化和合成 97 WlC:l 6.1 优化介绍 97 om z 6.2 细化 (Refinement) 98 w``ST 6.3 合成 (Synthesis) 100 X51: 6.4 目标和评价函数 101 k"zv~`i' 6.4.1 目标输入 102 c9u`!'g`i 6.4.2 目标 103 >W+%8e 6.4.3 特殊的评价函数 104 qiD@'Va\ 6.5 层锁定和连接 104 mnX2a 6.6 细化技术 104 @,7GaK\ 6.6.1 单纯形 105 #a,PZDaE 6.6.1.1 单纯形参数 106 k(G^z 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 f+)L#>Gl? 6.6.2.1 Optimac参数 108 #'szP\ 6.6.3 模拟退火算法 109 xr Jg\to{i 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ,m|h<faZL 6.6.4 共轭梯度 111 {Gk1vcq 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 T_5H&;a 6.6.5 拟牛顿法 112 '4Bm;&6M 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 eJX9_6m- 6.6.6 针合成 113 uh>; 8 6.6.6.1 针合成参数 114 /%1ON9o> 6.6.7 差分进化 114 Vv=. -&' 6.6.8非局部细化 115 sBg.u 6.6.8.1非局部细化参数 115 xdt-
;w| 6.7 我应该使用哪种技术? 116 :{l_FY436 6.7.1 细化 116 z,p~z*4 6.7.2 合成 117 A]oV"`f 6.8 参考文献 117 `mJ6K&t$< 7 导纳图及其他工具 118 []1C$.5DD 7.1 简介 118 6 V=9M: 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 D'DfJwA 7.2.1 四分之一波长规则 119 bwMm#f
7.2.2 导纳图 120 .[OUI 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 U$A]8NZ$S 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Z=o2H Bm7 7.5 斜入射导纳图 141 (iX+{a%" 7.6 对称周期 141 qfm|@v|De5 7.7 参考文献 142 y?? XIsF 8 典型的镀膜实例 143 =X:Y,? 8.1 单层抗反射薄膜 145 dcN22A3 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 f46t9dxp$ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 xfe+n$~ c 8.4 W-膜层 148 &B1Wt | |