首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> H4冲氧不稳,应该怎么排除? [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

bilong 2024-09-16 11:07

H4冲氧不稳,应该怎么排除?

我们有台镀膜机H4电子枪充氧量用的压控,设计充到1.0-2,但每一锅都不太稳定,有时候充到7.5-3,有时候充到8.3-3,也有能充到1.0-2的,H4是手动熔的,一般就镀普通AR,导致分光变来变去,稳定不住 ,请教大佬们,这种情况是药里面杂质多还是压控控制系统有问题?应该怎么排除?
renlgj 2024-09-16 15:37
坐等分析
yzhuang 2024-09-20 09:09
控制软件PID参数调整一下,一般是可以恒压的,当然,如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 Uqy/~n-v<  
度魔银 2024-09-20 09:54
1.手动融料重复性不好 K>b4(^lf  
2镀膜机真空度是否有漏气现象 5C^@w  
3.充氧控制改固定参数  5sN6&'[  
4.真空计污染导致真空不准确
bilong 2024-09-20 16:10
yzhuang:控制软件PID参数调整一下,一般是可以恒压的,当然,如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 OE9,D:t v  
 (2024-09-20 09:09)  {uoF5|O6K  
aekke//y  
感谢回复,我们这个只能设定数值,PID调不了
bilong 2024-09-20 16:12
度魔银:1.手动融料重复性不好 A@)Q-V8*9s  
2镀膜机真空度是否有漏气现象 9n{Y6I x:  
3.充氧控制改固定参数 Hy&Z0W'l  
4.真空计污染导致真空不准确 (2024-09-20 09:54)  YRX^fZ-b  
?{J1Uw<  
感谢回复,我们先定量充氧试试
ouyuu 2024-10-22 22:50
真空计和冲氧口的位置和距离很重要,如果压力周期性波动的话,就调整真空计位置。 k1f<(@*`  
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 Af]zv~uM  
真空计一般是用电压信号,要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 {L%JDJ  
另外要排除信号干扰,如果真空信号受干扰了,那么肯定无法稳定的进行控制。 fJc(  
最后一个应该就是压控仪本身的问题,比如PID参数过大导致调节缓慢。 ;'8P/a$  
bilong 2024-10-23 10:02
ouyuu:真空计和冲氧口的位置和距离很重要,如果压力周期性波动的话,就调整真空计位置。 K $- *  
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 L{%L*z9J  
真空计一般是用电压信号,要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 m 1; Htw  
另外要排除信号干扰,如果真空信号受干扰了,那么肯定无法稳定的进行控制。 O|8@cO  
最后一个应 .. (2024-10-22 22:50)  Rh^@1{yr  
PljPhAce  
感谢大佬解惑,充氧口是固定的,真空计玻璃规的位置我们每次换没注意位置,才知道这个也会影响真空数据,我们现在定量充氧40,分光比原来稳定了很多,但每层H4充氧后的真空度都有差异
renlgj 2024-10-26 12:47
学习中成长
查看本帖完整版本: [-- H4冲氧不稳,应该怎么排除? --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计