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bilong 2024-09-16 11:07

H4冲氧不稳,应该怎么排除?

我们有台镀膜机H4电子枪充氧量用的压控,设计充到1.0-2,但每一锅都不太稳定,有时候充到7.5-3,有时候充到8.3-3,也有能充到1.0-2的,H4是手动熔的,一般就镀普通AR,导致分光变来变去,稳定不住 ,请教大佬们,这种情况是药里面杂质多还是压控控制系统有问题?应该怎么排除?
renlgj 2024-09-16 15:37
坐等分析
yzhuang 2024-09-20 09:09
控制软件PID参数调整一下,一般是可以恒压的,当然,如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 *Uw#  
度魔银 2024-09-20 09:54
1.手动融料重复性不好 E/Gs',Y  
2镀膜机真空度是否有漏气现象 mjr{L{H=?+  
3.充氧控制改固定参数 U3R`mHr0  
4.真空计污染导致真空不准确
bilong 2024-09-20 16:10
yzhuang:控制软件PID参数调整一下,一般是可以恒压的,当然,如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 ,OFr]74\  
 (2024-09-20 09:09)  !suiqP1\*  
H {Wpf9_ K  
感谢回复,我们这个只能设定数值,PID调不了
bilong 2024-09-20 16:12
度魔银:1.手动融料重复性不好  jmNj#R@t  
2镀膜机真空度是否有漏气现象 ;5_S  
3.充氧控制改固定参数 'a[|}nJ3  
4.真空计污染导致真空不准确 (2024-09-20 09:54)  uk/+ i`=  
>mltE$|  
感谢回复,我们先定量充氧试试
ouyuu 2024-10-22 22:50
真空计和冲氧口的位置和距离很重要,如果压力周期性波动的话,就调整真空计位置。 #al^Uqd  
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 pU'sADC  
真空计一般是用电压信号,要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 *<j@+Ch  
另外要排除信号干扰,如果真空信号受干扰了,那么肯定无法稳定的进行控制。 JNl+UH:.  
最后一个应该就是压控仪本身的问题,比如PID参数过大导致调节缓慢。 ;MI<J>s  
bilong 2024-10-23 10:02
ouyuu:真空计和冲氧口的位置和距离很重要,如果压力周期性波动的话,就调整真空计位置。 NR@Tj]`k  
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 !m2k0|9  
真空计一般是用电压信号,要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 /GaR&  
另外要排除信号干扰,如果真空信号受干扰了,那么肯定无法稳定的进行控制。 es]m 6A  
最后一个应 .. (2024-10-22 22:50)  xGA0] _  
Qd?P[xm  
感谢大佬解惑,充氧口是固定的,真空计玻璃规的位置我们每次换没注意位置,才知道这个也会影响真空数据,我们现在定量充氧40,分光比原来稳定了很多,但每层H4充氧后的真空度都有差异
renlgj 2024-10-26 12:47
学习中成长
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