H4冲氧不稳-光学薄膜设计,工艺与设备-光行天下-最大的光电技术社区-光学,光电,光机技术及其软件运用交流社区!

首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题

光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> H4冲氧不稳 [点此返回论坛查看本帖完整版本]

[打印本页]

bilong	2024-09-15 15:32
H4冲氧不稳我们有台镀膜机H4电子枪充氧量用的压控，设计充到1.0-2，但每一锅都不太稳定，有时候充到7.5-3，有时候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手动熔的，一般就镀普通AR,导致分光变来变去，稳定不住，请教大佬们，这种情况是药里面杂质多还是压控控制系统有问题？应该怎么排除

度魔银	2024-09-20 10:01
1.手动融料重复性不好 #f0J.)M 2镀膜机真空度是否有漏气现象 )cJ9YKKy 3.充氧控制改固定参数 L9M0vkgri 4.真空计污染导致真空不准确

bilong	2024-09-20 16:07
度魔银:1.手动融料重复性不好 @px2/x 2镀膜机真空度是否有漏气现象 %ub\+~ 3.充氧控制改固定参数 }TE4)vXs 4.真空计污染导致真空不准确 (2024-09-20 10:01) 'qel3Fs" LgFF+z 好的，我们朝这几个方向试试，检测过不漏气，定量充氧真空度会不会差异很大

查看本帖完整版本: [-- H4冲氧不稳 --] [-- top --]