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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
20UqJM8Ot 内容简介 i s L{9^ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2'wr={>W 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 2yln7[a 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 %M{k.FE( ohrw\<xsu
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 z wL3,!t 目录 >[ ug
zJ Preface 1 a`H\-G 内容简介 2 N%9h~G 目录 i `,wcQ 1 引言 1 _i3i HR? 2 光学薄膜基础 2 ~{L.f94N 2.1 一般规则 2 yjEI/9_ 2.2 正交入射规则 3 fokwW}>B[f 2.3 斜入射规则 6 K8?zgRG3~N 2.4 精确计算 7 x*.Ye5Jb 2.5 相干性 8 *Ph]F$ZP 2.6 参考文献 10 E:
9o;JU 3 Essential Macleod的快速预览 10 of9q"h 4 Essential Macleod的特点 32 ,>;!%Ui/p 4.1 容量和局限性 33 F:%^&%\ 4.2 程序在哪里? 33 3p=vz' 4.3 数据文件 35 "JkZJ# 4.4 设计规则 35 u]HS(B,ht 4.5 材料数据库和资料库 37 7zD- ?% 4.5.1材料损失 38 Zta$R,[9h 4.5.1材料数据库和导入材料 39 z!fdx|PUX 4.5.2 材料库 41 x6LjcRS| 4.5.3导出材料数据 43 ||uZ bP@ 4.6 常用单位 43 o2DtCU-A 4.7 插值和外推法 46 RfKc{V 4.8 材料数据的平滑 50 !#q{Z>H` 4.9 更多光学常数模型 54 $[,l-[-+ 4.10 文档的一般编辑规则 55 }wG,BB %N 4.11 撤销和重做 56 2Ok?@ZdjA{ 4.12 设计文档 57 eY
T8$ 4.10.1 公式 58 W.^Ei\w/t 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Qh\YR\O 4.10.3 沉积密度 59 )S^z+3p 4.10.4 平行和楔形介质 60 sf`PV}a1 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 /I`3dWL 4.10.4 性能 61 b\?3--q 4.10.5 保存设计和性能 64 T?>E{1pS 4.10.6 默认设计 64 [4p=X=B 4.11 图表 64 L?!$EPr 4.11.1 合并曲线图 67 Y;} 2'" 4.11.2 自适应绘制 68 ~z5@V5z 4.11.3 动态绘图 68 c4\C[$ 4.11.4 3D绘图 69 34SA~5 4.12 导入和导出 73 `\!X}xiWd 4.12.1 剪贴板 73 dLZjB(0eO 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 lX"b N=E?! 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 O}QFq14<+ 4.13 背景 77 ?w*yW;V` 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 i3\~Qj;1 4.15 生成Rugate 84 r@iASITX 4.16 参考文献 91 x=.tiM {# 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 7F9;Su3. 5.1 Jobs 92 \m f*ge\ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 NvQ%J+ 5.3 输入材料 94 Txo@U 5.4 设计数据文件夹 95 (3VGaUlx 5.5 默认设计 95 1Y#HcW& 6 细化和合成 97 u_LY\'n 6.1 优化介绍 97 Gg|M+M?+ 6.2 细化 (Refinement) 98 "}@i+oS 6.3 合成 (Synthesis) 100 A[`G^$ 6.4 目标和评价函数 101 ZHCr2^w6
6.4.1 目标输入 102 .5.8;/
/ 6.4.2 目标 103 gz;&u) 6.4.3 特殊的评价函数 104 4O(@'#LLz 6.5 层锁定和连接 104 %hc'dZ 6.6 细化技术 104 4=xq:Tf 6.6.1 单纯形 105 L]I3P|y_ 6.6.1.1 单纯形参数 106 ?g3 ]~;# 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ]9*;;4Mg 6.6.2.1 Optimac参数 108 qaG# ; 6.6.3 模拟退火算法 109 U]1(&MgV 6.6.3.1 模拟退火参数 109 JB^Q\;$ 6.6.4 共轭梯度 111 E"#Xc@ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 'tm$q/& 6.6.5 拟牛顿法 112 *"cD.)]#2 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
K'aWCscM 6.6.6 针合成 113 .wy$-sG81 6.6.6.1 针合成参数 114 2+.18"rvi 6.6.7 差分进化 114 vc8?I."? 6.6.8非局部细化 115 ~zF2`. 6.6.8.1非局部细化参数 115 f@@s1gdb 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ? gSSli[ 6.7.1 细化 116 -Wc~B3E| 6.7.2 合成 117 (?3[3w~ 6.8 参考文献 117 FRZs[\I|iT 7 导纳图及其他工具 118 02\JzBU 7.1 简介 118 _dU8'H 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 d"ZU y!a 7.2.1 四分之一波长规则 119 nWJ:=JQ i" 7.2.2 导纳图 120 zE|Wn3_sd 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 f<<rTE6 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 R J~%0 7.5 斜入射导纳图 141 +7U 7.6 对称周期 141 <x0H@?f7 7.7 参考文献 142 /(?@mnq_ 8 典型的镀膜实例 143 +th%enRB 8.1 单层抗反射薄膜 145 e;VIL 2| 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 {Dr@HP/x=s 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ?D|\]0 eN 8.4 W-膜层 148 ]|U-y645 8.5 V-膜层 149 .A6lj).: 8.6 V-膜层高折射基底 150 9o0!m Cq 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 KrcgIB8X 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 TWd;EnNM 8.9 四层抗反射薄膜 153 E4i0i!<z 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 C$9z 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 yz\c5 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 bMKL1+y( 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 !bU\zH 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 W^\d^) 8.15十五层宽带抗反射膜 159 Q@-ovuxi 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 gSt`% 8.17 1/4波长堆栈 162 G7@O`N8' 8.18 陷波滤波器 163 0F:1\9f5 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 z42F,4Gk 8.20 褶皱 165 feX^~gM 8.21 消偏振分光器1 169 +4qU> 8.22 消偏振分光器2 171 Q_p[kK H 8.23 消偏振立体分光器 172 hs+kr?Pg` 8.24 消偏振截止滤光片 173 .*YD&( 8.25 立体偏振分束器1 174 :+rUBYWx 8.26 立方偏振分束器2 177 PdeBDFWD 8.27 相位延迟器 178 ',I0ih#Ls 8.28 红外截止器 179 Vj?DA5W`' 8.29 21层长波带通滤波器 180 r0]4=6U 8.30 49层长波带通滤波器 181 (% _n!ip^ 8.31 55层短波带通滤波器 182 bh p5< | |