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infotek 2024-08-22 07:58

衍射级次偏振状态的研究

摘要 BO9Z "|"  
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光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 ,F-tvSc\Q  
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d#b{4zF"  
概述 n]$vCP  
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y\S7oD(OR  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 )Xh_q3=  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 c\]L  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 .gPsJ?b  
,X$Avdc2  
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*g,?13Q_  
衍射级次的效率和偏振
3=<iGX"z  
`-/l$A} U  
Y(:OfC?  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 xBZ9|2Y s  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 (Dar6>!  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 DdQf %W8u  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 h#n8mtt&i  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 eB\r/B]  
GY",AL8f  
\=@r1[d  
光栅结构参数 Qr<%rU^{.  
V%0.%/<#5  
={b ]  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 Vd/S81/  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 (En\odbvt  
•因此,选择以下光栅参数: `HS4(2+C  
- 光栅周期:250 nm ~4>Xi* B  
- 填充系数:0.5 -oZ a c  
- 光栅高度:200 nm } g*-Ty  
- 材料n1:熔融石英 O7dFz)$  
- 材料n2:TiO2(来自目录) `HM3YC  
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0o<q Eo^  
偏振状态分析 r;XQ i  
&CL|q+-  
).]m@g:ew  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 C^%zV>o  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 uTU4Fn\$L  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 O|>1~^w  
{a3kn\6H0  
pq[mM!;#v  
V{h@nhq  
产生的极化状态 R2$U K  
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Jrk^J6aa  
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其他例子 P*PL6UQ  
z/YMl3$l~  
N4To#Q1w  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 nF'xV44"  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 (J*w./  
gFT~\3j p=  
MA+-2pMc|7  
<!9fJFE  
光栅结构参数 M?B(<j1Ri  
%]ayW$4  
,w%oSlOu  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 z/KZ[qH\  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 be:phS4vz  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 YC]YX H  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 aEDN]O95?  
Tq84Fn!HJ>  
:Nz?<3R0\  
光栅#1 #Q3PzDfj  
VK'T[5e  
rh`.$/^  
r%l%yCH  
>Mn>P!  
•仅考虑此光栅。 5!ubY 6Ph  
•假设侧壁表现出线性斜率。 %%~}Lw  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 _?s %MNaX  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 *kQCW#y0  
atf%7}2  
)_v\{N  
假设光栅参数: A,gx5!J  
•光栅周期:250 nm 5Vi]~dZu7  
•光栅高度:660 nm QP%kL*=8  
•填充系数:0.75(底部) |WAD $3  
•侧壁角度:±6° ch>Vv"G>  
•n1:1.46 ~g1, !Wl  
•n2:2.08 _~[?> cF%  
(.1 rtj  
光栅#1结果 "W@XP+POAY  
o}=.  
8rwYNb.P  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 wm=RD98  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ( f,J_  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
qon{ g  
i~)N QmH<  
Vd +Q:L  
ESMG<vW&f  
光栅#2 ^IGyuj0]jG  
:,kU#eZ$-  
}t|Plz  
\E@s_fQ]  
T|@#w%c''  
•同样,只考虑此光栅。 (a `FS,M  
•假设光栅有一个矩形的形状。 9k:W1wgH1  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 @8nLQh^  
假设光栅参数: >+ ]R4  
•光栅周期:250 nm B:-U`CHHQ  
•光栅高度:490 nm ]jc_=I6)  
•填充因子:0.5 &Vt2be*  
•n1:1.46 :)p)=c8%  
•n2:2.08
3Q"F(uE v^  
4;C*Fa  
光栅#2结果 )'5<6Q.]  
*KK[(o}^J-  
7]|zkjgI  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 >?5xDbRj  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 a}KK{Vqo`  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 hr$Sa  
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