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2024-08-22 07:58 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 BO9Z"|" ?&GMp[ 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 ,F-tvSc\Q l.34h
d#b{4zF" 概述 n]$vCP [y{ag{ y\S7oD(OR •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 )Xh_q3= •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 c\]L •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 .gPsJ?b ,X$Avdc2
zgRP!q<9tt *g,?13Q_ 衍射级次的效率和偏振 3=<iGX"z `-/l$A}
U Y(:OfC? •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 xBZ9|2Y s •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 (Dar6>! •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 DdQf%W8u •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 h#n8mtt&i •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 eB\r/B]
GY",AL8f \=@r1[d 光栅结构参数 Qr<%rU^{. V%0.%/<#5 ={b
]
•此处探讨的是矩形光栅结构。 Vd/S81/ •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 (En\odbvt •因此,选择以下光栅参数: `HS4(2+C - 光栅周期:250 nm ~4>Xi*
B - 填充系数:0.5 -oZac - 光栅高度:200 nm }g*-Ty - 材料n1:熔融石英 O7d Fz)$ - 材料n2:TiO2(来自目录) `HM3YC ) ]%9Tgn
fD~!t 8J 0o<qEo^ 偏振状态分析 r;XQ i &CL|q+- ).]m@g:ew •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 C^%zV>o •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 uTU4Fn\$L •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 O|>1~^w {a3kn\6H0
pq[mM!;#v V{h@nhq 产生的极化状态 R2$ U K FqTkUWd,#
Jrk^J6aa
BY0|exW |%}s$*s 其他例子 P*PL6UQ z/YMl3$l~ N4To#Q1w •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 nF'xV44" •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 (J*w./ gFT~\3jp=
MA+-2pMc|7 <!9fJFE 光栅结构参数 M?B(<j1Ri %]ayW$4 ,w%oSlOu •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 z/KZ[qH\ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 be:phS4vz •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 YC]YX H •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 aEDN]O95?
Tq84Fn!HJ> :Nz?<3R0\ 光栅#1 #Q3PzDfj VK'T[5e
rh`.$/^ r%l%yCH >Mn>P! •仅考虑此光栅。 5!ubY
6Ph •假设侧壁表现出线性斜率。 %%~}Lw •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 _?s %MNaX •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 *kQCW#y0 atf%7}2 )_v\{N 假设光栅参数: A,gx5!J •光栅周期:250 nm 5Vi]~dZu7 •光栅高度:660 nm QP%kL*=8 •填充系数:0.75(底部) |WAD $3 •侧壁角度:±6° ch>Vv"G> •n1:1.46 ~g1, !Wl •n2:2.08 _~[?>cF% (.1 rtj 光栅#1结果 "W@XP+POAY o}=. 8rwYNb.P •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 wm=RD98 •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 (
f,J_ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 qon{
g i~)NQmH<
Vd+Q:L ESMG<vW&f 光栅#2 ^IGyuj0]jG :,kU#eZ$-
}t|Plz \E@s_fQ] T|@#w%c'' •同样,只考虑此光栅。 (a
`FS,M •假设光栅有一个矩形的形状。 9k:W1wgH1 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 @8nLQh^ 假设光栅参数: >+
]R4 •光栅周期:250 nm B:-U`CHHQ •光栅高度:490 nm ]jc_=I6) •填充因子:0.5 &Vt2be* •n1:1.46 :)p)=c8% •n2:2.08 3Q"F(uE v^
4;C*Fa 光栅#2结果 )'5<6Q.] *KK[(o}^J- 7]|zkjgI •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 >?5xDbRj •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 a}KK{Vqo` •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 hr$Sa ZBX
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