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2024-08-22 07:58 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 8%7%[WC# zFq%[ X 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 \Fz9O-jb4 W[8Kia-OD
r%PWv0z_c 概述 1ML L 2tq2 I\.|\^ •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 fg^25g'_ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 $jN.yNm0 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 LTWkHyx _uQ]I^ 'D
^c\O,*: }%_|k^t 衍射级次的效率和偏振 NKO"'
Sa= tiOv X.fVbePxUU •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 kamQZzPe
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 GJ,&$@8) •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 rOSov"7 •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Y !<m8\ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 KZppQ0
cE]z Tu?! 4[gmA 光栅结构参数 D\Ak-$kJ^ b#6S8C+@ ipv5JD[ •此处探讨的是矩形光栅结构。 UM7@c7B? •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 o<Zlm)"%1 •因此,选择以下光栅参数: ]01`r/->\ - 光栅周期:250 nm 6@N,'a8r - 填充系数:0.5 pbVL|\oB} - 光栅高度:200 nm @{y'_fw - 材料n1:熔融石英 / Q1*Vh4 - 材料n2:TiO2(来自目录) TA[%eMvA ?xj8a3F
OyTK,i<n cbJgeif 偏振状态分析 "V|Rq]_+% S<nF>JRJa F!vrvlD`s •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 .WF"vUp •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 P7drUiX •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 yYCS-rF> V! Wy[u
C]L)nCOBX )CFJXc: 产生的极化状态 4Q|>k)H z=D5*
Af|h*V4Xu
{T4_Xn -I z$1RD)TQB 其他例子 ,?GwA@~$k:
t ed:] J6Ilg@}\ •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 k1B
](@xt •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Wmbc
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j\uZo.Ot+ b<a3Ue% 光栅结构参数 4:V
+>Jt 6r~9$IM r^ ,_m,s'< •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 K?l|1jez(# •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 tV++QC7@L •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 7U [C=NL •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 (qAF2&
5Q10Ohh Pp?P9s{ 光栅#1 \]x`f3F q`e0%^U
aCU[9Xr? 7'wpPXdY1 iA[T'+.Y •仅考虑此光栅。 4phCn5 •假设侧壁表现出线性斜率。 c^|8qvS$ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 neEqw+#Z •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 h[(YH ;Y ]5'*^rz ^ |.; N_i 假设光栅参数: K'&,]r# •光栅周期:250 nm +k=*AQt^8 •光栅高度:660 nm tY_=[6?Zu •填充系数:0.75(底部) TXB!Y!RG# •侧壁角度:±6° (u?s@/e:`/ •n1:1.46 HS=w9:, •n2:2.08 /M5.Z~|/ o#FctM'Z 光栅#1结果 ,88B@a S1r{2s&
*RY}e •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 RY5e%/bg~U •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 K E\>T: •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 {tVA(&\< l&H-<Z.8m
dwn|1%D {JWixbA 光栅#2 C?. ;3 h l<_v3/3
RlfI]uCDM L'y0$ c:${qY:! •同样,只考虑此光栅。 W@}@5,}f> •假设光栅有一个矩形的形状。 thPAD+u.3 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 -IIrrY
O 假设光栅参数: |mhKD#: •光栅周期:250 nm XzAXcxC6G •光栅高度:490 nm ceg\lE:8 •填充因子:0.5 ~Dg:siw •n1:1.46 eHx {[J? •n2:2.08 )+FnwW @G&oUhS 光栅#2结果 T:j41`g%s I>MLI=[Kg A7QT4h&6 •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 u9_?c
G- •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 7gtaI3 •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 R1*&rjB NiG&Lw*8
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