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2024-08-22 07:58 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 ]I/* J^ fK(:vwh 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 r4 5}o })mD{c/
F!I9)PSj 概述 J7EWaXGbz -c0*
J1M9), •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 $LU|wW •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 (Cti,g~ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 )`|`PB RcR-sbR
NN:zQ_RT kyYU 1gfh 衍射级次的效率和偏振 Xk/:a}-l S?'L%%Vo #MMp0 •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 :$X dR:f}} •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 Ka)aBU9 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 *r~6R •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 7<8'7<X •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 1]8Hpd
b?M. 0{"H `09[25? 光栅结构参数 cI7a TLC"s 8JMxA2tZhG cqb6] •此处探讨的是矩形光栅结构。 "KC3+:tm •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 h^{aG ]) •因此,选择以下光栅参数: #H8QX5b) - 光栅周期:250 nm $['`H)z - 填充系数:0.5 .lz=MUR - 光栅高度:200 nm 7=wQ#bq"1P - 材料n1:熔融石英 gV5mERKs - 材料n2:TiO2(来自目录) !.q#X^@>L _|{pO7x]oG
-)ri,v{:c S~g" 偏振状态分析 QNcl 6UPGE",u yaI jXv •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ,mD$h?g •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 :`@W`V?6- •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Bq,Pk5b TPZ^hL>ao
; ?,'jI*1 iNn?G C> 产生的极化状态 ;O .;i,#Z U!lWP#m
,;=is.h9
?/Aql_?3 T(kG"dz 其他例子 (Y?}'? M!PK3 Ei@al>.\ •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 mO0#xY_z •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 WD7T&i Y$ZDJNz
o-AAx#@ aQ1n1OBr 光栅结构参数 Aacj? A6Wtzt2i z8PV&o •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ixF •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 8U-<Q> •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 \mwxV!!b$ •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 &!8u4*K5j
g$Nsu:L w 1O) 光栅#1 SYv5{bff = B o[aiT
P76QHBbl %e=UYBj" g\?7M1~ •仅考虑此光栅。 Biy$p6 •假设侧壁表现出线性斜率。 s|Zv>Qt •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ].
^e[v6 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 TUR2|J@n [PU0!W; Io)@u~yz 假设光栅参数: F:2V; •光栅周期:250 nm gG46hO-M%x •光栅高度:660 nm myWa>Mvb •填充系数:0.75(底部) {(`xA,El •侧壁角度:±6° =q*j". < •n1:1.46 9jt+PII •n2:2.08 )u5+<OG}= 'Y-Y
By : 光栅#1结果 _O>8jH!# Vg?
1&8> 6y)NH 8l7 •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 'sTMUPg` •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 @EB2I+[ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 8|\?imOp\[ ^y&sKO
lhx]r}@'MC \MFjb IL 光栅#2 p3{ 3[fDx THDyb9_g
$r=tOD4; ."JtR
A;C)#Q/ •同样,只考虑此光栅。 8Ir
= @ •假设光栅有一个矩形的形状。 zvnR'\A_ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ir3EA'_>N 假设光栅参数: Kh2!c+Mw •光栅周期:250 nm 97L#3L6t •光栅高度:490 nm p v*n.U6 •填充因子:0.5 ju?D=n@i •n1:1.46 6.gk6 •n2:2.08 'nh^'i&0. ~5b^Gvb? 光栅#2结果 \L{V|}"X DS1_hbk %w3"B,k'9D •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 uu+)r •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 xnD"LK •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 z;ko ) O4A{GO^q
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