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2024-08-22 07:58 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 L AAHEv ~|xA4u5LG 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 @A^;jk H-f X(9
um>6z_" 概述 2JcjZn 8k1Dj1@0z %m$Sp47 •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ;)^`3` •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 {
W{]L: •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 =k`Cr0aPF i3'9>"`
pYZ6e_j1~ gz#i.- 衍射级次的效率和偏振 `W/>XZl+t @eIJ]p qfRH5)k •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 $F+ L Ds •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 eu|;eP-+d •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 =`s!; •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 74k dsgQf •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 G.d TvLv
dNL(G%Qj+" en*GM}<V 光栅结构参数 #O}
,`[< ly_HWuFJ3 9=h'9Wo •此处探讨的是矩形光栅结构。 OL,TFLn4 •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 A='N=^Pm •因此,选择以下光栅参数: \k!{uRy' - 光栅周期:250 nm iq( E'`d - 填充系数:0.5 J!pygn O - 光栅高度:200 nm Tl[!=S - 材料n1:熔融石英
.Blf5b - 材料n2:TiO2(来自目录) Y^}Z> Rww{:R
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LF T1Z;r*} 偏振状态分析 8sTp`}54J \Vy Z usK*s$ns •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 z Q`jP$2 •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ]<rkxgMW> •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 MWpQ^dL_ $ig0j`
]J$eDbaEjT BB*f4z$Y% 产生的极化状态 ?6un4EVL{ yt=3sq
ADP%QTdqFJ
J1I ;Jgql( k_5L4c:" 其他例子 v>Yb/{A GyIT{M}KV ^l=!JP=M= •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 e2t-4}
ww •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 =Og)q$AL ;HJLs2bP
e .2ib?8 #_J@-f7^ 光栅结构参数 ^O<&f D XJ` ]ga LO khjHR •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ,t9^j3Ixg •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 _c*=4y •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 [nc4{0 aT' •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 G{ sOR
0y;*Cfi9 )d1_Wm#B 光栅#1 dzsmIV+ 4c$ zKqz
%g$V\zmU hp*/#D ^~@U] •仅考虑此光栅。 Gh}LlX!w •假设侧壁表现出线性斜率。 o(
RG-$ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 O[s{ Gk'> •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 W<$Z=(_v ;8*`{F[ d + / &?3 假设光栅参数: wF,UE_ •光栅周期:250 nm L[H5NUG! •光栅高度:660 nm h[1MtmNw •填充系数:0.75(底部) ujaGNg?, •侧壁角度:±6° jR22t`4 •n1:1.46 Q}K#'Og •n2:2.08 5b/|!{ 8a="/J 光栅#1结果 ~\.w^*$#Y 8x8uo 9:,\gw>F •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 e8]\U/ •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Mjfx~I27 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 ang~< ?^$MRa:D
YW`,v6 ~ !
3I2 光栅#2 7,|c }YMy6eW4
m~Bl*`~M P%=#^T&`} sqJSSNt •同样,只考虑此光栅。 mc_ch$r! •假设光栅有一个矩形的形状。 lR[qqFR •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 YZ7|K< 假设光栅参数: < hO
/jB •光栅周期:250 nm #hf
ak •光栅高度:490 nm Y$Y_fjd_ •填充因子:0.5 Zh*u(rO •n1:1.46 !{)tSipd •n2:2.08 }!/$M\w {R61cD,n 光栅#2结果 T2 Y,U { r'uGWW"w s]mY*@a% •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 eDJfU •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 )\be2^p •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 \ZhfgE8{% |-
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