培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月16日-18日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 ]IF
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课程大纲 i sK_t*
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第一天 B7'rbc'
• 光学和光线追迹的入门概念 %R?B=W7 ;Q
• ASAP 简介 l g0 'qH8
• ASAP 数据输入
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• 单透镜辐射计示例 "c+j2f'f
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 #\P\(+0K
• 几何规范和通用几何设置 _%r +?I
• 光学特性 <R;t>~8x
• 光源设置 S*aMUV&
• 光线追迹 ejF GeR
• 系统分析与评价 1\t# *N
• 光线分裂和接收属性 ro fGD9f
• ASAP 宏语言 6H ]rO3[8
• 散射模型和重点采样 }q$ 6^y
• 光线路径 K3Sa6"U
第二天 bU3P; a(
散射杂散光： L- '{
• 杂散光术语 _VjfjA<c8
• 杂散光的成因和影响 R 5"5Z?'
• 杂散光分析和评价方法 1QA{NAnu&
• ASAP杂散光分析流程、步骤 +VSq [P
• 关键和照明表面 YK {E=<:
• 重点采样位置和大小计算 `d ,v
• 杂散光PST计算 *ku}.n
• 光学表面粗糙、污染和微粒 tz^2?wO
• 表面黑化处理 :cE6- Fv
鬼像： Y^Y1re+}
• 鬼像的来源 z+5ZUS2~&
• ASAP膜层 ,P>xpfdK
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 n)<S5P?
第三天 If*+yr|
衍射和红外杂散光： @$*L U:[
• 孔径衍射 q,Nhfo(
• 衍射光学元件的杂散光 u4KP;_,m
• 红外系统杂散光特征 [X &VxTxr
• 红外热辐射 IG(1h+5 R(
• 自发辐射杂散光 &i5MRw_]]
• 红外冷反射 S|K#lL
杂散光工程： \@8.BCWK
• 杂散光的控制方法 ahUc ;S:v#
• 散射测量 #Fwf]{J
• 杂散光工程流程总结和答疑 2=%R>&]*
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培训说明 3UNmUDl[~
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； a W9_[#z5
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； JVe!(L 4H
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 |=rb#z&
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培训详情 GF/!@N
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培训时间：2024年10月16日-18日 ;%<R>gDWv
培训地点：湖北·武汉 &_o.:SL|
主办单位：武汉墨光科技有限公司 ls ,;ozU
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 GE!fh1[[u
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； "Nh} _j O
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； l\DcXgD
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提供服务性发票，项目“培训费”。 XIRvIwO
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com c?t,,\o(}
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