培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月16日-18日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 8r / ]Q
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课程大纲 %j=dKd>
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第一天 g[Ah>
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• 光学和光线追迹的入门概念 BZEY^G
• ASAP 简介 @PuJre4!;L
• ASAP 数据输入 $s.:wc^
• 单透镜辐射计示例 dluNA(Xc-
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 Y2vzK;
• 几何规范和通用几何设置 ;R Z@t6^
• 光学特性 /Ik_U?$*
• 光源设置 XyJ*>;q
• 光线追迹 &W fs6g
• 系统分析与评价 x3T)/'(
• 光线分裂和接收属性 wx pD{P
• ASAP 宏语言 :gDIGBK,
• 散射模型和重点采样 5%(J +d
• 光线路径 VaQ>g*(I
第二天 gbwKT`N*
散射杂散光： `x$d8(1J`#
• 杂散光术语 ,WA 7Kp9
• 杂散光的成因和影响 <ro0}%-z>M
• 杂散光分析和评价方法 1i#uKKwE
• ASAP杂散光分析流程、步骤 l5Z=aW Q
• 关键和照明表面 3 1KMn
• 重点采样位置和大小计算 Q6Y1Jr">X
• 杂散光PST计算 g 'c4&Do
• 光学表面粗糙、污染和微粒 F6h3M~uR
• 表面黑化处理 \k0%7i[nZ/
鬼像： "C.'_H!Ex
• 鬼像的来源 m9Gyjr'L
• ASAP膜层 ^DXERt&3
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 pl
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第三天 G U~?S'{
衍射和红外杂散光： (f5 !36mz
• 孔径衍射 OP]=MZP|
• 衍射光学元件的杂散光 rmpJG |(
• 红外系统杂散光特征 ?l`DkUo*j
• 红外热辐射 QKc3Q5)@j
• 自发辐射杂散光 |xQ G
• 红外冷反射 f'F:U^
杂散光工程： D /:~# )
• 杂散光的控制方法
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• 散射测量 UoPd>q4Uj
• 杂散光工程流程总结和答疑 "UKX~}8T
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培训说明 4Cke(G
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； ir qlU
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； kNUbH!PO
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 xB]~%nC [O
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培训详情 G Bu&2}
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培训时间：2024年10月16日-18日 Hq$AF
培训地点：湖北·武汉 jIK *psaV
主办单位：武汉墨光科技有限公司 Y fk[mo
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 ' [I_Iu#,
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； P[ n` X
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； G ^p>fy~
提供服务性发票，项目“培训费”。 K6@ QZc5.!
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com Ge@./SGT
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