培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启!
武汉墨光将于2024年10月16日-18日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间,时间缩短,课程凝练,培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。
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课程大纲 qh;ahX~
/Y("Q#Ueq 第一天 HIP6L,$ • 光学和光线追迹的入门概念 *Q=ER • ASAP 简介 E,,)?^ g • ASAP 数据输入 T% J;~| • 单透镜辐射计示例 iD=VNf • ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 7(B|NYq • 几何规范和通用几何设置 s"b()JP • 光学特性 .ky(( • 光源设置 [*ylC,w • 光线追迹 ^Nl)ocHv! • 系统分析与评价 Dpp3]en. • 光线分裂和接收属性 a=bP • ASAP 宏语言 J+IQvOn_| • 散射模型和重点采样 7:x%^J+ • 光线路径 p.,o@GcL~ 第二天 |5|^[v 散射杂散光: e<s56<3j • 杂散光术语 BH _y0[y • 杂散光的成因和影响 9{bG @g • 杂散光分析和评价方法 j&n][=PL • ASAP杂散光分析流程、步骤 :|/bEP]p/ • 关键和照明表面 :Z|lGH
= • 重点采样位置和大小计算 7Yp;B:5@ • 杂散光PST计算 tX)l$oRPr • 光学表面粗糙、污染和微粒 ^znj J\ • 表面黑化处理 "4N%I 鬼像: /rp.H'hC • 鬼像的来源 c]:sk[u • ASAP膜层 v%c r • ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 g
_fvbVX 第三天 C
9IKX 衍射和红外杂散光: F?=(4Pyvu • 孔径衍射 /5M@>A^?' • 衍射光学元件的杂散光 Z'c{4b`N • 红外系统杂散光特征 Zj;2> • 红外热辐射 ?d`?Ss;v • 自发辐射杂散光 yIC.JmD* • 红外冷反射 `M?C( 杂散光工程: gIrVrAV# • 杂散光的控制方法 (XYYbP • 散射测量 (,$ H!qKy • 杂散光工程流程总结和答疑 n\k6UD Am3^3> O8+e: K[D }m NP[L LQ4GQqS* WtF
培训说明 ZM"J5}h
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F,{M!dL • 为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速; ^L}fj$
• 培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材; cQDn_Sjhi • 学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书。 hl}@ha4'
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培训详情 V#jFjObTN
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\eD#s 培训时间:2024年10月16日-18日 .um]1_= \ 培训地点:湖北·武汉 \M^L'Mkj 主办单位:武汉墨光科技有限公司 w6>'n
} 培训讲师:武汉墨光资深光学设计工程师 \[&`PD 培训费用:按2800元/人的标准进行收费; oeKI9p13\ 团体(3人及以上)报名享八五折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; #mY*H^jI]~ 提供服务性发票,项目“培训费”。 '9cShe 报名方式:电话:13396044940 邮箱:market@asdoptics.com 'c[4-m3bg Z\8TpwD2
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