培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月16日-18日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 w+*rbJ
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课程大纲 id :
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第一天 dJnKa]X
• 光学和光线追迹的入门概念 RfD#/G3|
• ASAP 简介 o&@ y^<UQ
• ASAP 数据输入 VWK/(>TP
• 单透镜辐射计示例 rKslgZhQ
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 wA/!A$v(
• 几何规范和通用几何设置 !]A/ID0K
• 光学特性 V( 0Y
• 光源设置 g4Dck4^! 4
• 光线追迹 GeB&S!F
• 系统分析与评价 PHI c7*_
• 光线分裂和接收属性 n Xb_\ 9E
• ASAP 宏语言 <b _K*]Z
• 散射模型和重点采样 Q{uO/6
• 光线路径 iiJT%Zq`#
第二天 l$c/!V[3
散射杂散光： # .(f7~
• 杂散光术语 +,ar`:x &a
• 杂散光的成因和影响 vShB26b
• 杂散光分析和评价方法 Bd=K40Z:
• ASAP杂散光分析流程、步骤 h;r^9g
• 关键和照明表面 \v c&V8
• 重点采样位置和大小计算 *)^ ZUk
• 杂散光PST计算 g +gcH
• 光学表面粗糙、污染和微粒 %Y'/_
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• 表面黑化处理 Ev [?5 R
鬼像： Lwf[*n d
• 鬼像的来源 5?
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• ASAP膜层 l,b,U/3R.
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 Nr,I`x\N
第三天 P~:^bU^F7
衍射和红外杂散光： s Iaehe'B
• 孔径衍射 T>#~ .4A0
• 衍射光学元件的杂散光 rZ-< Ryg
• 红外系统杂散光特征 <GQ=PrT|/
• 红外热辐射 $qZ6i
• 自发辐射杂散光 06.8 m;{N
• 红外冷反射 OT|0_d?b D
杂散光工程： pMViq0
• 杂散光的控制方法 '4u/ g
• 散射测量 @RuMo"j s
• 杂散光工程流程总结和答疑 i-4L{T\K
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培训说明 ]S9Z 5l0
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； &%/T4$'+Y+
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； |<o qT+?i
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 ?/sn"~"
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培训详情 OuWRLcJ!
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培训时间：2024年10月16日-18日 [GI2%uA0
培训地点：湖北·武汉 0xCe6{86
主办单位：武汉墨光科技有限公司 xc`O \z_)
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 BAi0w{
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； PX/^*
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； {o*$ |4q4
提供服务性发票，项目“培训费”。 yqtHlz%
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com B^R44j]3"
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