培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启!
武汉墨光将于2024年10月16日-18日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间,时间缩短,课程凝练,培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 -Izg&u & KIY_EE$? p[VCt" j ~HI0<;r=eL
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课程大纲 p;Ok.cXVp
g#3x)97Z 第一天 ?iO^b.'I# • 光学和光线追迹的入门概念 4GejT(U • ASAP 简介 I}0- • ASAP 数据输入 %a^!~qV • 单透镜辐射计示例 Z$K%@q,10+ • ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ]b=A/*z • 几何规范和通用几何设置 JJOs
L!@ • 光学特性 9>, \QrrH • 光源设置 RXvcy< • 光线追迹 UiN ^x • 系统分析与评价 {73DnC~N • 光线分裂和接收属性 N5]68Fu'({ • ASAP 宏语言 8>+eGz| • 散射模型和重点采样 0vNM#@ • 光线路径 >'g60 R[ 第二天 Qn cS& 散射杂散光: o"CqVRR • 杂散光术语 4[j) $!l` • 杂散光的成因和影响 gz:c_HJ • 杂散光分析和评价方法 )p](*Z^ • ASAP杂散光分析流程、步骤 ;G&O"S><]c • 关键和照明表面 UM^hF% • 重点采样位置和大小计算 ?Ir6*ZyY • 杂散光PST计算 r|$g((g • 光学表面粗糙、污染和微粒 YWd(xm"4 • 表面黑化处理 3CL:VwoW 鬼像: \05C'z3] • 鬼像的来源 aa3YtNpP • ASAP膜层 7cSvAX0Z. • ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 2!`Z3>Oa 第三天 sAj$U^Gp 衍射和红外杂散光: 49>yIuG • 孔径衍射 p`C5jfI • 衍射光学元件的杂散光 du TSU9 • 红外系统杂散光特征 ,
>6X_XJQ • 红外热辐射 RT9|E80 • 自发辐射杂散光 \EqO;A%< • 红外冷反射 D^4V"rq 杂散光工程:
MQI= • 杂散光的控制方法 zy5bDL - • 散射测量 ba.OjK@ • 杂散光工程流程总结和答疑 KJ
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培训说明 Xp@OIn
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$xwF;:) • 为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速; .4-S|]/d, • 培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材; 83|/sWrvh • 学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书。 !ym5'h
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培训详情 (yVI<Os{a
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;* Jd#O 培训时间:2024年10月16日-18日 AUd}) UR 培训地点:湖北·武汉 C8-q<t#SF 主办单位:武汉墨光科技有限公司 pgarGaeq 培训讲师:武汉墨光资深光学设计工程师 #YV;Gp(2h 培训费用:按2800元/人的标准进行收费; ?z.`rD$}(n 团体(3人及以上)报名享八五折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; "5FeP; 提供服务性发票,项目“培训费”。 GQQ6 t 报名方式:电话:13396044940 邮箱:market@asdoptics.com {w(N9Va,( B;$5*3D+
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