培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月16日-18日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 :~ s"]*y
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课程大纲 daY0;,>
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第一天 b`wT*&
• 光学和光线追迹的入门概念 * *A JFc
• ASAP 简介 =PU@'O G
• ASAP 数据输入 ( 3 ,7
• 单透镜辐射计示例 [)Ia Xa
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ;J?fK69%
• 几何规范和通用几何设置 ")boY/ P/w
• 光学特性 Wb FCj0
• 光源设置 v&sp;%I6 =
• 光线追迹 9~,!+#
• 系统分析与评价 F 0m[ls$
• 光线分裂和接收属性 rI)&.5^
• ASAP 宏语言 yl <=_Q
• 散射模型和重点采样 'o_ RC{k2"
• 光线路径 ^wIP`dn
第二天 Q1h v2*/U
散射杂散光： VuBi_v6
• 杂散光术语 Kd#64NSi$A
• 杂散光的成因和影响 v@X [0J_8
• 杂散光分析和评价方法 yYC\a7Al4
• ASAP杂散光分析流程、步骤 #.j:P#
• 关键和照明表面 $~ EY:
• 重点采样位置和大小计算 I
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• 杂散光PST计算 ht:L
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• 光学表面粗糙、污染和微粒 ;? o"{mbb
• 表面黑化处理 F7p`zf@O]
鬼像： a(U/70j
• 鬼像的来源 fQU_A
• ASAP膜层 d[(%5pw~zL
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 wS2N,X/Y
第三天 +w?1<Z
衍射和红外杂散光： 7
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• 孔径衍射 BD ,3JDqT
• 衍射光学元件的杂散光 Z${@;lgP
• 红外系统杂散光特征 .|ZnU]~T
• 红外热辐射 ,"5p= JX`
• 自发辐射杂散光 KrECAc
• 红外冷反射 =2wy;@ f
杂散光工程： Zfr?(y+3
• 杂散光的控制方法 "%t !+E>nr
• 散射测量 /Hc0~D4|x
• 杂散光工程流程总结和答疑 [ h
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培训说明 #KSB%
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； @}N;C ..Y$
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； ]| =#FFz
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 1<9m^9_ro
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培训详情 b+}*@xhl
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培训时间：2024年10月16日-18日 [+y /qx79
培训地点：湖北·武汉 'uOp?g' 7
主办单位：武汉墨光科技有限公司 D#9W [6
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 0r\hX6 k
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； WxLILh
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； fx4X!(w!B
提供服务性发票，项目“培训费”。 ]pA}h. R#-
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com Ec]cCLB
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