一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏及其制备方法

根据国家知识产权局公告，四川长虹新获得一项发明专利授权，专利名为“一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏及其制备方法”，专利申请号为 CN202211279501.9，授权日为 2024年7月26日。 *hLQ  
专利摘要：本发明公开了一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏及其制备方法，包括依次设置的菲涅尔基材层、菲涅尔功能层、菲涅尔光学微结构层和菲涅尔反射层，菲涅尔基材层 A 面的表面粗糙度在 50nm～200nm 范围内；菲涅尔功能层内设有不同粒径和不同表面粗糙度的光学粒子；菲涅尔光学微结构层由若干个光学微结构成排设置而成，且若干个光学微结构的节距从下至上逐渐缩小；菲涅尔光学微结构层与菲涅尔反射层相嵌合。本发明利用激光相干性及光学粒子扩散理论分析，降低菲涅尔基材层表面的粗糙度、增加不同功能之间折射率插值，有效提高菲涅尔光学屏增益、降低菲涅尔散斑对比度；通过底角 θ 与节距 D 的搭配，大幅度提高光能量利用率。 k^"bLf(4