培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 2 g\O /oz
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课程大纲 ~:L5Ar<
4.Q [Tu
第一天 1N_T/I8_F
• 光学和光线追迹的入门概念 ^7uXpqQBr
• ASAP 简介 w&@zJ [
• ASAP 数据输入 e*}*3kw)T
• 单透镜辐射计示例 XuWX@cK
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 [+d ~H e
• 几何规范和通用几何设置 !</U"P:L
• 光学特性 Y<IuwS
• 光源设置 g:O/~L0Xb
• 光线追迹 tPa ( H;
• 系统分析与评价 o|u4C { j
• 光线分裂和接收属性 &zd@cr 1
• ASAP 宏语言 ^W(ue]j }o
• 散射模型和重点采样 a~ RY 8s
• 光线路径 9@ 4]t6h[
第二天 p$G3<Z&7
散射杂散光： NT2XG& $W>
• 杂散光术语 k`o8(zPb
• 杂散光的成因和影响 VDro(?p8Z
• 杂散光分析和评价方法 =;GmLi3A
• ASAP杂散光分析流程、步骤 rb}fP
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• 关键和照明表面 ^rs{1S
• 重点采样位置和大小计算 ZeY|J H1
• 杂散光PST计算 E,F^!4 rJ$
• 光学表面粗糙、污染和微粒 MQDLC7Y.p5
• 表面黑化处理 qRgFVX+vc
鬼像： ' 4 It>50b
• 鬼像的来源 >0[:uu,'>
• ASAP膜层 7NT0]j(w-
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 3-E-\5I
第三天 KWeE!f 7G
衍射和红外杂散光： AFM+`{Cq
• 孔径衍射 IhBQ1,&J
• 衍射光学元件的杂散光 j D*<M/4
• 红外系统杂散光特征 :ssj7wl :
• 红外热辐射 $0x+b!_l@
• 自发辐射杂散光 w#hg_RK(Jr
• 红外冷反射 J5{
杂散光工程： V;g) P
• 杂散光的控制方法 ).`v&-cK4E
• 散射测量 lxCAZa\
• 杂散光工程流程总结和答疑 l]~9BPsR
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培训说明 6&5D4
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； =L@CZ"
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 Yyar{$he
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培训详情 qdy(C^(fa
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培训时间：2024年10月14日-16日 *5 9 |
培训地点：湖北·武汉 VwR ZgL
主办单位：武汉墨光科技有限公司 &SPY'GQ!
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 glc<(V
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； mn=b& {')e
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； M%la@2SK=
提供服务性发票，项目“培训费”。 g \q4-
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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