培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启!
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间,时间缩短,课程凝练,培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 PO]c&}/ }(w9[(K
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课程大纲 !<4 =@
H>|*D~RdT 第一天 '/<f'R^ • 光学和光线追迹的入门概念 *nV*WUS3 • ASAP 简介 'a=QCO
0 • ASAP 数据输入 ::p(ViYG • 单透镜辐射计示例 &h;J_Ps • ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 70T{tB • 几何规范和通用几何设置 PsyXt5Dk • 光学特性 ?0'db • 光源设置 aQL$?, • 光线追迹 $/$ 5{< • 系统分析与评价 CdTE~O<) • 光线分裂和接收属性 -zH` 9>J5| • ASAP 宏语言 h0zv@,u • 散射模型和重点采样 0GMov]W?i • 光线路径 y"Jma`Vjq 第二天 g I@I.=y 散射杂散光: p JM&R<i: • 杂散光术语 2D'$ • 杂散光的成因和影响 'zfj`aqc • 杂散光分析和评价方法 a>BPK"K2 • ASAP杂散光分析流程、步骤 ^,6c9Dxy • 关键和照明表面 B1(T-pr • 重点采样位置和大小计算 Ec l/2 • 杂散光PST计算 \EQCR[7qu7 • 光学表面粗糙、污染和微粒 05Y4=7,! • 表面黑化处理 lD@`xq.M; 鬼像: L IRdWGQ4 • 鬼像的来源 ) 0|X];sD • ASAP膜层 O
<"\G!y~ • ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 9<-7AN}Z 第三天 ]seOc],4 衍射和红外杂散光: %p8#pt\$7 • 孔径衍射 [^eQGv[S • 衍射光学元件的杂散光 G^qt@,n$; • 红外系统杂散光特征 4ZrRgx2MD • 红外热辐射 T<K/bzB3z • 自发辐射杂散光 ]r(s02 • 红外冷反射 )^LiALh 杂散光工程: ]T1\gv1~ • 杂散光的控制方法 UA(&_-C\ • 散射测量 LV`tnt's • 杂散光工程流程总结和答疑 s1%th"e
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培训说明 4)NbQ[ gfly?)V nF • 为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速;• 培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材; (u-eL#@ • 学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书。 agp7zw=N #(G"ya
培训详情 o&:'MwU Fu[<zA^ 培训时间:2024年10月14日-16日 /uJ(W 培训地点:湖北·武汉 }5]7lGR 主办单位:武汉墨光科技有限公司 r74'
_y 培训讲师:武汉墨光资深光学设计工程师 Fb\ E39 培训费用:按2800元/人的标准进行收费; 4{CeV7 团体(3人及以上)报名享八五折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; K2!GpGZu 提供服务性发票,项目“培训费”。 %ZM"c 报名方式:电话:13396044940 邮箱:market@asdoptics.com
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