培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 5"57F88Y1
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课程大纲 U'" #jT
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第一天 lJFy(^KQG,
• 光学和光线追迹的入门概念 vJ&D>Vh4e
• ASAP 简介 3h.,7,T
• ASAP 数据输入 I(R%j]LX&
• 单透镜辐射计示例 |33t 5}we
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 JGvhw,g
• 几何规范和通用几何设置 ghB&wOm/
• 光学特性 <]G'& iv>
• 光源设置 HJg&fkHn1
• 光线追迹 P/ 6$TgQ
• 系统分析与评价 "0 PsCr}!
• 光线分裂和接收属性 S"G (_%
• ASAP 宏语言 Rf`_q7fm
• 散射模型和重点采样
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• 光线路径 n^{h@u
第二天 / YZMP'v
散射杂散光： H0 "'jd
• 杂散光术语 oCkG
• 杂散光的成因和影响 {c3FJ 5:
• 杂散光分析和评价方法 Gu$J;bXVj
• ASAP杂散光分析流程、步骤 tc `3-goX
• 关键和照明表面 w`8H=Hf
• 重点采样位置和大小计算 r{r~!=u
• 杂散光PST计算 N5zWeFq@6
• 光学表面粗糙、污染和微粒 |z3!3?%R
• 表面黑化处理 (OE S ~G
鬼像： ?+ d{Rh) y
• 鬼像的来源 O6?{@l
• ASAP膜层 <FBH;} ]
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 QpQ 2hNf
第三天 /77cjesZ9
衍射和红外杂散光： &'k(v(>n,
• 孔径衍射 xva
e^gr
• 衍射光学元件的杂散光 {"~[F 2qR
• 红外系统杂散光特征 Heh&;c
• 红外热辐射 ]s5e[iS
• 自发辐射杂散光 @ a]c I
• 红外冷反射 9Cd/SlNV2
杂散光工程： /dg? 6XT/
• 杂散光的控制方法 V#$QKn`;
• 散射测量 m4OnRZYlw
• 杂散光工程流程总结和答疑 dpS @:
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培训说明 d m"R0>
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； T'7>4 MT(
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 (@*|[wN
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培训详情 <7ANXHuSW
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培训时间：2024年10月14日-16日 z6M5 '$\y
培训地点：湖北·武汉 m[y~-n
主办单位：武汉墨光科技有限公司 FLQke"6i0:
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 ]aMDx>OE
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； rz|Sjtq
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； 8iD7K@
提供服务性发票，项目“培训费”。 mIG>`7`7N
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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