培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 0F /o
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课程大纲 yH/m@#
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第一天 B:;$5 PUTc
• 光学和光线追迹的入门概念
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• ASAP 简介 05hjC
• ASAP 数据输入 db#svj*
• 单透镜辐射计示例 -?nr q <3
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 e*)*__$O
• 几何规范和通用几何设置 K,j'!VQA4g
• 光学特性 #83`T&Xw*
• 光源设置 P@|
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• 光线追迹 gv\W I4"n
• 系统分析与评价 8n??/VDRl
• 光线分裂和接收属性 mUA!GzJ~u-
• ASAP 宏语言 4M*Z1
• 散射模型和重点采样 [8jIu&tJf
• 光线路径 *\gYs{,
第二天 [|&#A;{F#
散射杂散光： =aB c .PJ^
• 杂散光术语 Y#[xX2z9
• 杂散光的成因和影响 /#}o19(-d
• 杂散光分析和评价方法 }i$ER,hXh
• ASAP杂散光分析流程、步骤 gx9=L&=d
• 关键和照明表面 Dr K@y8
• 重点采样位置和大小计算 B@k2lHks(
• 杂散光PST计算 L8,/
• 光学表面粗糙、污染和微粒 w~4T.l#1
• 表面黑化处理 'pj*6t1~
鬼像： 9CG&MvF c
• 鬼像的来源 /Bq4! n+
• ASAP膜层 [>D5(O
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 xL [3R
第三天 AO]k*N,N
衍射和红外杂散光： 8 qlQC.VA[
• 孔径衍射 / %1-tGh
• 衍射光学元件的杂散光 .WLwAL
• 红外系统杂散光特征 .cm9&&"Z
• 红外热辐射 jr(|-!RVMN
• 自发辐射杂散光 > -,$
• 红外冷反射 \
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杂散光工程： `m}G{ jfk
• 杂散光的控制方法 {>UT'fa-
• 散射测量 ; GEr8_7
• 杂散光工程流程总结和答疑 |?v .5|1
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培训说明 / hg)=p
cx[[K.
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； K5 EJ#1ov
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 e=+q*]>
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培训详情 LJA
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培训时间：2024年10月14日-16日 >y+?Sz!
培训地点：湖北·武汉 @"B{k %+
主办单位：武汉墨光科技有限公司 \!"3 yd
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 {1 1 3 B)
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； -Un"z6*
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； fZ(k"*\MZ
提供服务性发票，项目“培训费”。 V/xjI< ,
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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