培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启!
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间,时间缩短,课程凝练,培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 rslvsS: Y5Z!og
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课程大纲 ?#BV+#(
l5k?De_(x 第一天 NiA4JgM]v • 光学和光线追迹的入门概念 I9&lO/c0 • ASAP 简介 ?:igumeYX • ASAP 数据输入 _TUm$#@Y` • 单透镜辐射计示例 Y:psZ • ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ?pG/m%[ • 几何规范和通用几何设置 qTM%G- • 光学特性 3-|3`( • 光源设置 Ur!~<4GO • 光线追迹 "^Rv# • 系统分析与评价 :( ,mL2[ • 光线分裂和接收属性 2*2:-ocl$ • ASAP 宏语言 1~\M!SQ) • 散射模型和重点采样 L:@fP~Erh • 光线路径 {C")#m-0 第二天 e |V] 散射杂散光: C6jR=@42Q • 杂散光术语 ;>>C)c4V " • 杂散光的成因和影响 e2w&&B- • 杂散光分析和评价方法 Lm6**v • ASAP杂散光分析流程、步骤 mgQIhXH5L • 关键和照明表面 gU;&$ • 重点采样位置和大小计算 =Op+v" • 杂散光PST计算 hXB|g[zT • 光学表面粗糙、污染和微粒 O0huqF$K • 表面黑化处理 <f>akT,W 鬼像: wK!~tYxP • 鬼像的来源 RMP9y$~3pU • ASAP膜层 =\3Tv • ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 ke%pZ7{u 第三天 ;Ii1B{W 衍射和红外杂散光: S6D^3n • 孔径衍射 `u
XQ z7 • 衍射光学元件的杂散光 j0mM>X HB • 红外系统杂散光特征 qCPmbg • 红外热辐射 fex,z%}p • 自发辐射杂散光 ?LP9iY${ • 红外冷反射 1m@^E:w 杂散光工程: +TJEG?o • 杂散光的控制方法 ynwG\V • 散射测量 :iUF7P1I • 杂散光工程流程总结和答疑 #07!-)Gv )r tomp:X
培训说明 =,V|OfW !{%&=tIZ • 为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速;• 培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材; se9>.}zZN • 学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书。 Z`Z5sj 4{ n<7q`tM#
培训详情 ytAWOt}` ~E5z"o6$ 培训时间:2024年10月14日-16日 ;zH
HIdQ>- 培训地点:湖北·武汉 %)(Cp-b! 主办单位:武汉墨光科技有限公司 &
E}mX]t 培训讲师:武汉墨光资深光学设计工程师 ZH 6\><My 培训费用:按2800元/人的标准进行收费; +.yT/y " 团体(3人及以上)报名享八五折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; =O$M_1lp 提供服务性发票,项目“培训费”。 q_[G1&MC 报名方式:电话:13396044940 邮箱:market@asdoptics.com
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