培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启!
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间,时间缩短,课程凝练,培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 N"y4#W(Z@ {D< ?.'
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课程大纲 PN=yf@<V3F
3.Kdz} 第一天 *ni|I@8 • 光学和光线追迹的入门概念 #u^d3
$Nj • ASAP 简介 ;GSj}Nq • ASAP 数据输入 $la,_Sr • 单透镜辐射计示例 p10->BBg • ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ^`THV • 几何规范和通用几何设置 *1Q?~ • 光学特性 jT',+ • 光源设置 va<pHSX&I@ • 光线追迹 =j-{Mxb3 • 系统分析与评价 .+sIjd • 光线分裂和接收属性 8qveKS]vZ • ASAP 宏语言 \)*qW[C$a • 散射模型和重点采样 9"TPDU7" • 光线路径 hrK^oa_[W 第二天 uDR(^T{g# 散射杂散光: ;C'*Ui • 杂散光术语 pm+[,u!i • 杂散光的成因和影响 ,*US) &x • 杂散光分析和评价方法 d|3[MnU[a • ASAP杂散光分析流程、步骤 #q%/~-Uk • 关键和照明表面 NT 'Y h • 重点采样位置和大小计算 ko$R%W&T • 杂散光PST计算 ]h6<o* • 光学表面粗糙、污染和微粒 GU`2I/R • 表面黑化处理 N{0 D <" 鬼像: L 'y+^L|X • 鬼像的来源 =
4L. • ASAP膜层 ?FyA2q! • ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 =zdRoXBY[b 第三天 #"l=Lv 衍射和红外杂散光: L`6`NYR • 孔径衍射
Ox RzKT • 衍射光学元件的杂散光 FsjblB3?E • 红外系统杂散光特征 [/FIY!nC? • 红外热辐射 pB`<4+"9 • 自发辐射杂散光 Flsf5 Tr0 • 红外冷反射 ZC"p^~U_e[ 杂散光工程: ~9=g" v • 杂散光的控制方法 0:nyOx(; • 散射测量 NeH^g0Q2,g • 杂散光工程流程总结和答疑 v2NzPzzyb NR" Xn7G
培训说明 SX#ATf6# i{.!1i: • 为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速;• 培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材; G"]'`2.m • 学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书。 Ad(j&P c;VW>&,B
培训详情 q4{ 6@q 9#+X?|p+0 培训时间:2024年10月14日-16日 eG.?s;J0 培训地点:湖北·武汉 N]3XDd|q 主办单位:武汉墨光科技有限公司 ^VD14V3 培训讲师:武汉墨光资深光学设计工程师 nL9m{$Zv 培训费用:按2800元/人的标准进行收费; +u7mw<A
8 团体(3人及以上)报名享八五折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; k#
/_Zd 提供服务性发票,项目“培训费”。 ?o2L 报名方式:电话:13396044940 邮箱:market@asdoptics.com
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