培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启!
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间,时间缩短,课程凝练,培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 6jA Q =uEhxsj)S
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课程大纲 vN+!l3O
J(GLPC O$K 第一天 tc Z~T • 光学和光线追迹的入门概念 uLht;-`{n • ASAP 简介 Nq3P?I(< • ASAP 数据输入 >Li?@+Zl • 单透镜辐射计示例 (6b%;2k
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 C7:Ry)8'I • 几何规范和通用几何设置
~I74' • 光学特性 X8TZePh • 光源设置 v'=APl+_ • 光线追迹
73X]|fy • 系统分析与评价 =X B)sC% • 光线分裂和接收属性 ;2~Q97c0 • ASAP 宏语言 #(G&%I A|; • 散射模型和重点采样 vhW'2<( • 光线路径 1-fz564 第二天 Uyh#g^r 散射杂散光: d29HEu • 杂散光术语 =r2d{ • 杂散光的成因和影响 gf@Dy6< • 杂散光分析和评价方法 cE[lB08 • ASAP杂散光分析流程、步骤 5;*C0m2%i • 关键和照明表面 "lt[)3* • 重点采样位置和大小计算 iD~s, • 杂散光PST计算 2I • 光学表面粗糙、污染和微粒 {lA@I*_lj • 表面黑化处理 lHU$A; 鬼像:
ObUQ B+ • 鬼像的来源 Q2o:wXvj • ASAP膜层 B(5g&+{Lq~ • ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 iGIaZ!j aW 第三天 <|@9]>z 衍射和红外杂散光: bhRpYP%x • 孔径衍射 gQ[4{+DSf • 衍射光学元件的杂散光 ORO~(%-(e • 红外系统杂散光特征 N
Jf''e3 • 红外热辐射 IM+PjYJ • 自发辐射杂散光 7gkHKdJoMA • 红外冷反射 6=FuH@Q& 杂散光工程: iDA`pemmi& • 杂散光的控制方法 R;%iu0 • 散射测量 9bB~r[k • 杂散光工程流程总结和答疑 R B!g,u 6ZE]7~X
培训说明 20qT1!ju z'm;H{xf • 为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速;• 培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材; |[ge,MO: • 学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书。 ;AaF ;zPV 9"rATgN1
培训详情 n1ICW 9 3f3?%9 培训时间:2024年10月14日-16日 Ez)Go6Q 培训地点:湖北·武汉 g!8-yri 主办单位:武汉墨光科技有限公司 :JlJB 培训讲师:武汉墨光资深光学设计工程师 LakP'P6`E 培训费用:按2800元/人的标准进行收费; cG<?AR?wDT 团体(3人及以上)报名享八五折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; Y<B| e91C 提供服务性发票,项目“培训费”。 n1QO/1}
: 报名方式:电话:13396044940 邮箱:market@asdoptics.com
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