培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 $B}(5D a
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课程大纲 O_-.@uo./(
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第一天 g[8V fIe
• 光学和光线追迹的入门概念 5G(y
• ASAP 简介 d;D^<-[i
• ASAP 数据输入 bp_3ETK]P
• 单透镜辐射计示例 Y 91TF'
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 aZ5qq+1x
• 几何规范和通用几何设置 GY@Np^>[a
• 光学特性 Kl(}s{YFn.
• 光源设置 A~*Wr+pv
• 光线追迹 E I EwrC
• 系统分析与评价 A
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• 光线分裂和接收属性 |1J "r.K
• ASAP 宏语言 [DGq{(O
• 散射模型和重点采样 b2U[W#
• 光线路径 0Yfk/}5
第二天 N%y%)MI 8
散射杂散光： w V;y]'
• 杂散光术语 6XFO@c}d
• 杂散光的成因和影响 9tl Fbu
• 杂散光分析和评价方法 GZI[qK DfB
• ASAP杂散光分析流程、步骤 g0g/<Tv[
• 关键和照明表面 Y)BKRS~
• 重点采样位置和大小计算 ut3jIZ1]
• 杂散光PST计算 +=\S "e[F
• 光学表面粗糙、污染和微粒 uBl&|yvxB
• 表面黑化处理 eC[ g"Ef
鬼像： uK pl+>
• 鬼像的来源 kZUuRB~om
• ASAP膜层 G?3S_3J2
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 G <Lm}
第三天 [C771~BL>
衍射和红外杂散光： Bfi9%:eG
• 孔径衍射 FuEHO 6nx
• 衍射光学元件的杂散光 e= 8ccj
• 红外系统杂散光特征 -7 =pb#y
• 红外热辐射 eHqf3f
• 自发辐射杂散光 Kh$L~4l
• 红外冷反射 #Sn&W o
杂散光工程： o<V-gS
• 杂散光的控制方法
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• 散射测量 |
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• 杂散光工程流程总结和答疑
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培训说明 Ig N,]y
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； b#8 2G`6r
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 X 8[ T*L.
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培训详情 v7&$(HJ>]L
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培训时间：2024年10月14日-16日 QL|Vke:N4
培训地点：湖北·武汉 +X Y}-
主办单位：武汉墨光科技有限公司 :Bn\1\
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 UAcABL^2
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； &1w,;45
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； 1$Eiv8xd
提供服务性发票，项目“培训费”。 b[*d i{? -
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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