培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 lZt(&^T
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课程大纲 cf[vf!vi
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第一天 $
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• 光学和光线追迹的入门概念 EH+~].PJd
• ASAP 简介 ~k4W<
• ASAP 数据输入 $)e:8jS=
• 单透镜辐射计示例 CYB=Uq,
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ?Nl"sVCo
• 几何规范和通用几何设置 eZO9 GMO
• 光学特性 ~' =lou
• 光源设置 ZZ
A.a
• 光线追迹 VVrwO o CN
• 系统分析与评价 :?r*p>0$
• 光线分裂和接收属性 O5 7jz= r
• ASAP 宏语言 hZNEv|
• 散射模型和重点采样 o|2 87S|$
• 光线路径 v`G U09
第二天 TIRHT`"i
散射杂散光： zw: /!MS
• 杂散光术语 hrM"Zg
• 杂散光的成因和影响 S[@6Lp3q_
• 杂散光分析和评价方法 { >.>7{7
• ASAP杂散光分析流程、步骤 GMFc K=
• 关键和照明表面 iA z UaF
• 重点采样位置和大小计算 .{N\< 01
• 杂散光PST计算 ?2~U2Ir]:
• 光学表面粗糙、污染和微粒 oa9)Dv
• 表面黑化处理 {u]CHN `%Z
鬼像： 8 G?b.NE^
• 鬼像的来源 W:ixzpQ
• ASAP膜层 WX*cI Cb5
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 KHJ=$5r)
第三天 c=t*I0-OVS
衍射和红外杂散光： >7FSH"8[,
• 孔径衍射 ~&[u]u[
• 衍射光学元件的杂散光 l Z ~+u
• 红外系统杂散光特征 Rk[8Bd?
• 红外热辐射 [oHOHp/V
• 自发辐射杂散光 F> Mr<k=@;
• 红外冷反射 b yj[u!{
杂散光工程： Nzc>)2% N
• 杂散光的控制方法 G HrBK&
• 散射测量 2wOy}:
• 杂散光工程流程总结和答疑 c20|Cx2m
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培训说明 5fxbA2\
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； )O-sWh4
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 & ^!v*=z
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培训详情 zuj;T,R;
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培训时间：2024年10月14日-16日 W,'3D~g8
培训地点：湖北·武汉 @{de$ ODu
主办单位：武汉墨光科技有限公司 K#U{<pUP
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 s_` V*`n&
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； r2)pAiTM *
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； [b pwg&Oo
提供服务性发票，项目“培训费”。 W.GN0(uG
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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