培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 ; .0LRWcJ
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课程大纲 [0(mFMC`
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第一天 j]4,6` b\
• 光学和光线追迹的入门概念 'RQiLUF
• ASAP 简介 C M^r|4 K
• ASAP 数据输入 +{0=<2(EC
• 单透镜辐射计示例 Fva]*5
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 _Ff".t<"
• 几何规范和通用几何设置 Re\o
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• 光学特性 l]u7.~b
• 光源设置 [ )k2=67
• 光线追迹 VwC4QK,d;
• 系统分析与评价 0/*X=5
• 光线分裂和接收属性 85 Dm8~
• ASAP 宏语言 /=- h:0{M
• 散射模型和重点采样 (l2<+ R %1
• 光线路径 6,zDBax
第二天 q!@ c_o
散射杂散光： K]MzP|T,
• 杂散光术语 th9 0O|;
• 杂散光的成因和影响 Y}k y/?q
• 杂散光分析和评价方法 1V\1]J/
• ASAP杂散光分析流程、步骤 (Ot ur
• 关键和照明表面 uAQg"j
• 重点采样位置和大小计算 0O^U{#*$I
• 杂散光PST计算 ? 9qAe
• 光学表面粗糙、污染和微粒 |/t K-c6J
• 表面黑化处理 ,`+Bs&S 8
鬼像： Lm.Ik}Gli
• 鬼像的来源 | 4%v"U
• ASAP膜层 8m \;P
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 lvG3<ls0K$
第三天 D STx#*
衍射和红外杂散光： 6X ZN>#
• 孔径衍射 eNivlJ,K|@
• 衍射光学元件的杂散光 l2r>|CGQ[
• 红外系统杂散光特征 |B,dEx/uU
• 红外热辐射 83X/"2 -K
• 自发辐射杂散光 %"{ ?[!C ?
• 红外冷反射 VgUvD1v?}
杂散光工程： FmR\`yY_,
• 杂散光的控制方法 ayN*fiV]
• 散射测量 l; */M.B
• 杂散光工程流程总结和答疑 -IGMl_s
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培训说明 rC~_:uXtE
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； <'VA=orD
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 &(GopWR`e
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培训详情 *?s/Ho &'
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培训时间：2024年10月14日-16日 wX@H
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培训地点：湖北·武汉 _8Pmv$
主办单位：武汉墨光科技有限公司 D~XU `;~u
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 '! #On/
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； hwc:@'
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； 6Uch 0xha!
提供服务性发票，项目“培训费”。 T %$2k>
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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