培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启!
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间,时间缩短,课程凝练,培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 +! 6C^G :Xv3< rS<
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课程大纲 cxdhG"
_gK@),de 第一天 (u-i{< • 光学和光线追迹的入门概念 ^{["]!f# • ASAP 简介 :<w3.(Z • ASAP 数据输入 $WvI%r • 单透镜辐射计示例 `!HGM> • ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 *Wv]DV=\ • 几何规范和通用几何设置 dZm>LVjG • 光学特性 h[%`'(
• 光源设置 @6>R/] • 光线追迹 \Nu(+G?e • 系统分析与评价 MN|y5w}$u • 光线分裂和接收属性 gEtDqq~y@ • ASAP 宏语言 *A`hKx • 散射模型和重点采样 !mrB+<: • 光线路径 34
W# 第二天 !'Xk=+ 散射杂散光: YMwMaU)K, • 杂散光术语 OC9_EP\" • 杂散光的成因和影响 &"fMiK3 • 杂散光分析和评价方法 K IiV z< • ASAP杂散光分析流程、步骤 b5
YE4h8% • 关键和照明表面 Deq~" • 重点采样位置和大小计算 ZVJbpn<lo) • 杂散光PST计算 u#?K/sU • 光学表面粗糙、污染和微粒 y@'8vOh` • 表面黑化处理 ,)XT;iGQe 鬼像: T5&jpP`M • 鬼像的来源 umYq56dw • ASAP膜层 >fI<g8N D • ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 f.rz2)o 第三天 &h-d\gMJ 衍射和红外杂散光: ~Rk%M$E9 • 孔径衍射 %xf6U>T • 衍射光学元件的杂散光 Ck2O?Ne • 红外系统杂散光特征 )MLOYX • 红外热辐射 Ot(U_rJCi • 自发辐射杂散光 |&3m '"( • 红外冷反射 /sH3Rk.> 杂散光工程: 7_d gQI3y • 杂散光的控制方法 U;:>vi3p • 散射测量 _(3VzI'G • 杂散光工程流程总结和答疑 q*TH),)J j/{F#auI
培训说明 T.GY FD*`$.e3\ • 为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速;• 培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材; MftW^7W- • 学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书。 NTuS(7m z)=D&\HX
培训详情 3Tg iDlIx8PI 培训时间:2024年10月14日-16日 K7Kd{9-2 培训地点:湖北·武汉 Byyus[b'A 主办单位:武汉墨光科技有限公司 ~K 8eRT 培训讲师:武汉墨光资深光学设计工程师 {7[^L1 培训费用:按2800元/人的标准进行收费; .B{3=z^
团体(3人及以上)报名享八五折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; BHOxwW{ 提供服务性发票,项目“培训费”。 @a)@1:=Rm 报名方式:电话:13396044940 邮箱:market@asdoptics.com
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