培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 {d Msz
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课程大纲 }" %?et(
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第一天 =BAW[%1b
• 光学和光线追迹的入门概念 94.D HZqh
• ASAP 简介 ""F5z,'
• ASAP 数据输入 EPM-df!=
• 单透镜辐射计示例 Y}|X|!0x
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 F {4bo$~ >
• 几何规范和通用几何设置 tKx~1-
• 光学特性 F]]]y5t
• 光源设置 4` ]^ @"{
• 光线追迹 hwBfdZ
• 系统分析与评价 dkBIx$t
• 光线分裂和接收属性 A:N|\Mv2b
• ASAP 宏语言 e9 5Lo+:f
• 散射模型和重点采样 (WO]Xq<
• 光线路径 j8{i#;s!"
第二天 ?5|>@>
散射杂散光： suiS&$-E
• 杂散光术语 .A{tQ1&_
• 杂散光的成因和影响 Ed,~1GanY
• 杂散光分析和评价方法 p Vw}g@<M
• ASAP杂散光分析流程、步骤 ju8q?Nyhs
• 关键和照明表面 >xYpNtEs
• 重点采样位置和大小计算 6/Xk7B
• 杂散光PST计算 KNpl:g3{<Q
• 光学表面粗糙、污染和微粒 _] sn0rX
• 表面黑化处理 >#~& - 3
鬼像： A) %/[GD2
• 鬼像的来源 xU >WEm2
• ASAP膜层 ,nLy4 T&"
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 [-k
第三天 ~f1%8z
衍射和红外杂散光： {V$|3m>:*
• 孔径衍射 pW@Pt 3u
• 衍射光学元件的杂散光 E +R1 !.
• 红外系统杂散光特征 AFDq}*2Qb
• 红外热辐射 R_ ,U Mt
• 自发辐射杂散光 M!A}NWF
• 红外冷反射 .4M.y:F
杂散光工程： Z/;(f L
• 杂散光的控制方法 w QH<gJE/:
• 散射测量 @qqg e'
• 杂散光工程流程总结和答疑 EZy)A$|
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培训说明 n E& @Q
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； 6?mibvK
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 C] eSizS.
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培训详情 ~u !|qM
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培训时间：2024年10月14日-16日 W*4-.*U8a
培训地点：湖北·武汉 zyc"]IzOU
主办单位：武汉墨光科技有限公司 Y E s &
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 f c%x S7&
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； 4(~L#}:r!
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； "Hb"F?Yb
提供服务性发票，项目“培训费”。 gsv uE
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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