培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 O2n[`9*
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课程大纲 tS@J)p+_(
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第一天 keMfK ]9
• 光学和光线追迹的入门概念 B'kV.3t
• ASAP 简介 A@o:mZ+XN(
• ASAP 数据输入 %!vgAH4
• 单透镜辐射计示例 >cV^f6fH
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 $ OAak
• 几何规范和通用几何设置 9! kH:Az[p
• 光学特性 5x} XiMM
• 光源设置 t'.oty=
• 光线追迹 ^G*zFqa+`
• 系统分析与评价 *Bj7\8cKC
• 光线分裂和接收属性 {f12&t
• ASAP 宏语言 p[&6hXTd
• 散射模型和重点采样 Shm $>\~=
• 光线路径 yW!+:y_N_
第二天 d${RZ}/
散射杂散光： ,Q2?Z :l
• 杂散光术语 #zL0P>P'a
• 杂散光的成因和影响 u[>hs
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• 杂散光分析和评价方法 c@ea
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• ASAP杂散光分析流程、步骤 +,H6)'#Z
• 关键和照明表面 P\3$Y-id
• 重点采样位置和大小计算 jb5nL`(j$
• 杂散光PST计算 n G+ L'SmI
• 光学表面粗糙、污染和微粒 33*NgQ;&~'
• 表面黑化处理 @ a $HJ :
鬼像： KXS{@ /"-B
• 鬼像的来源 3SU:Xd(\o
• ASAP膜层 `Qg#`
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 D{ J+}*y
第三天 [tP6FdS/M=
衍射和红外杂散光： -l ?J
• 孔径衍射 j_I
• 衍射光学元件的杂散光 TX%W-J _
• 红外系统杂散光特征 ,O;+fhUJ(
• 红外热辐射 m K);NvJ!
• 自发辐射杂散光 +=qazE<:0
• 红外冷反射 ;Bs^+R7
杂散光工程： YdT-E
• 杂散光的控制方法 j. m(Z}
• 散射测量 .AzGPcJY
• 杂散光工程流程总结和答疑 $:aKb #l)
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培训说明 a BHV
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； OG C|elSM
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 'h:[[D%H`
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培训详情 ju@5 D
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培训时间：2024年10月14日-16日 'B$ bGQ
培训地点：湖北·武汉 FQ72VY
主办单位：武汉墨光科技有限公司 bN',-[E
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 +E nJyli
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； <> &!+|#
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； ST^@7f_
提供服务性发票，项目“培训费”。 f7Dx .-
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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