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小火龙果 2024-07-17 15:55

SYNOPSYS 光学设计软件课程七十五:衍射透镜设计激光光束整形器

1.概述 ULJmSe  
衍射透镜也被称为光学衍射元件,或者 DOE 类似于菲涅尔透镜, 有很多的倾斜的区块, 唯一不同的是区块的高度是通过计算得到的,用来让光线的相位变化刚好是一个波长或者是相位的一个周期。 KqY["5p  
2,q}N q  
初始宏文件可以评论区留言获取 avQJPB)}Sb  
[attachment=129419]
g4p  
FS6`6M.K  
所以它像一个具有不均匀间距的圆形衍射光栅.因为它以布拉格角衍射,所以它的衍射效率很高。 NoE*/!Sr  
kYzKU2T\W  
2.1设计要求
: rMM4  
下面是一个衍射透镜设计激光光束整形器的指标: 46@{5)Tq  
将最细直径为0.35 mm的氦氖激光束扩展成变动范围在10%以内的直径为 10 mm 的均匀激光束。只使用两个元件, 每个的一侧都有一个 DOE。 CNZz]H  
SYNOPSYS 初始结构搜索镜头文件和运行结果: i:]*P  
初始宏文件可以评论区留言获取
AlE8Xu9UB  
[attachment=129420]
"hxN!,DEZ  
q[q?hQ/b  
以上展示部分命令,这其中, Mn1Pt|_@!  
OBG 的物是高斯光束. a8k;(/  
DOEs 将会使用16号特殊表面形状建模,一个简单的 DOE. [epi#]m  
得到的初始结构如下:
[attachment=129421]
E>'a,!QPv  
2Y\ d<.M  
这是最初的设计,效果并不是十分理想 >@xrs  
原因如下: 3<?   
1.光束被扩大了但是并不准直。 y$FW$Ka  
2.而且强度分布仍然是输入的高斯光束的强度分布。 2WX7nK;I  
优化
c #-U%qZ  
DOEs , 就如同其他的非球面形状, 也是利用 G 变量来调整。 !U9|x\BqJ2  
优化函数还包括绝大多数的 FLUX 像差, 控制着各个区域的衰减。 )c n+1R  
改变高阶项
KqBk~-G  
应该怎样确定改变哪个 G 变量? 3~S'LxV  
所有的一切只需要按几下按键.  输入 [FA{x?v kf  
HELP USS ~(!XY/0e  
然后找到类型16。 0sN.H=   
[attachment=129422]
poGc a1  
优化结果
[attachment=129423]
AjcX  N  
;<yd^Xs  
还能做得更好。接下来尝试改变高阶的系数,将变量选项添加到 G31, 即增加到12 项。 m8'C_U^89  
光通量
:I -V_4b  
透镜看起来还是和原来一样,但是需要检查光通量的均匀性,输入 FLUX 100 P 6 3bk|<7tl  
[attachment=129424]
|8mhp.7  
,@1p$n  
得到了几乎是平直的一个漂亮的曲线,这是一个优秀的设计。但是可以加工吗? jK \T|vGJa  
如果空间频率太高,制造技术可能会出现问题。 d \x7Zw>  
打开 MMA对话框。 w0w G-R ?  
在 PUPIL上选择表面4的 HSFREQ分布。 m'P1BLk  
Object point (物体坐标)设定为 0, 3vcO!6Z5  
光线网络 CREC 设置为网格 7, O+g3X5f+  
数字化输出, yFDv6yJ.  
绘制图表。 ~gB>) ]  
[attachment=129425]
^O^l(e!3  
0#w?HCx=  
这是一个表面光栅的分布图。 /}Jj  
边缘最大空间频率在在 100c/mm 左右。 这并不是很容易制造,能不能减小, 比如说到 50 c/mm? *K> l*l(f]  
[attachment=129426]
nJ~drG}TD  
f$NMM >z  
在 PANT 文件中添加一个变量: !Mi;*ZR  
VY 5 RAD =FE|+!>PA  
然后再 AANT 文件加入一个新的像差: :'#TCDlOb  
M 50 .01 A P HSFREQ 0 0 1 0 4 2M# r]  
优化后再次按之前的步骤查看光通量和光栅分布。 V&-~x^JK  
最后的优化宏文件可以评论区留言获取
/pF `8$  
光通量
[attachment=129427]
光栅分布
[attachment=129428]
aW>6NDq(  
^G6RjJxqp8  
现在表面4上的边缘空间频率正好是 50 c/mm, 而且光通量均匀性就像原来一样的好。 EEGy!bff  
镜片表面高斯光强分析
[9 Ss# ~  
现在要运行衍射传播程序 DPROP , 来检查系统的强度分布. &u#&@J  
DPROP P 0 0 3 SURF 3 L RESAMPLE LpR3BP@At  
PO 6&bIr  
[attachment=129429]
z dO#0t N  
z5)s/;Sc  
这个图显示了表面3上的高斯光束的强度分布, (在通过第二个DOE之前。) <.Nx[!'~&d  
它有着预期的高斯分布的形状。 (SKVuR%Jj  
现在对表面 6也进行相同的操作。 os/vtyP:a  
输入: r*Yi1j/  
DPROP P 0 0 6 SURF 3 L RESAMPLE a4irokJv#  
非常均匀水平的光强分布。 @}u9Rn*d;  
DGzw8|/(  
[attachment=129430]
DMASK 图像
[attachment=129431]
<=f}8a.R3  
]Kr `9r),  
这个是由 DMASK 3 GREY 1000 命令生成的图像。 &hRvol\J  
如果 DOE 是通过光蚀刻制成的,这是要被成像到衬底上的底模。
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