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chenliang1990 2024-06-24 11:54

镀膜后环测双85实验,外观有水渍点无法去除,什么原因?

镀膜设备,光驰OTFC,工艺条件:Ta2O5+SIO2,   温度:320℃,射频源 vG#,J&aW  
[attachment=129112] dj5@9X  
-mqL[ h,  
[attachment=129111]
ouyuu 2024-07-15 16:21
两个可能。1,离子源的中和电流不够,导致膜内有电荷积聚,调大中和电流试试。 UB3hC`N\  
2,片子洗净的问题,镀前用离子源多轰一下,看看有没有改善。 y?ypRCgO.u  
:[!b";pR  
另外中和器偶尔的打火也有可能造成电荷积聚,但这个不会每炉都会实现。 iKA}??5e  
renlgj 2024-07-18 19:11
学习中,谢谢楼上各位
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