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镀膜后环测双85实验,外观有水渍点无法去除,什么原因?
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chenliang1990
2024-06-24 11:54
镀膜后环测双85实验,外观有水渍点无法去除,什么原因?
镀膜设备,光驰OTFC,工艺条件:Ta2O5+SIO2, 温度:320℃,射频源
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[attachment=129112]
dj5@9X
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[attachment=129111]
ouyuu
2024-07-15 16:21
两个可能。1,离子源的中和电流不够,导致膜内有电荷积聚,调大中和电流试试。
UB3hC`N\
2,片子洗净的问题,镀前用离子源多轰一下,看看有没有改善。
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另外中和器偶尔的打火也有可能造成电荷积聚,但这个不会每炉都会实现。
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renlgj
2024-07-18 19:11
学习中,谢谢楼上各位
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镀膜后环测双85实验,外观有水渍点无法去除,什么原因?
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