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2024-06-17 08:09 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
BT:b&"AR[ ^(*eo e 内容简介 Nj;(QhYZ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 n`Ypv{+ {% 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 }Ej^"T:H_; 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 H2_6m5[&, 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 5"#xbvRS0H H8c -/ 目录 ylmVmHmc Preface 1 S{cK~sZj 内容简介 2 +SFo2Wdr43 目录 i <SRSJJR|( 1 引言 1 WAr6Dv,8 2 光学薄膜基础 2 <t *3w 2.1 一般规则 2 ]{-ib:f~ 2.2 正交入射规则 3 T.!.3B$@] 2.3 斜入射规则 6 &I(3/u 2.4 精确计算 7 l)Cg?9 2.5 相干性 8 %F*h}i 2.6 参考文献 10 CfLPs)\ACm 3 Essential Macleod的快速预览 10 n%dh|j2u 4 Essential Macleod的特点 32 btf]~YN 4.1 容量和局限性 33 LZPLz@=&] 4.2 程序在哪里? 33 \p iz Vt 4.3 数据文件 35 xqVIw!J?/} 4.4 设计规则 35 ;;17 #T2 4.5 材料数据库和资料库 37 ]T<RC\o 4.5.1材料损失 38 4!+IsT 4.5.1材料数据库和导入材料 39 #w[Ie+ 4.5.2 材料库 41 ][Cg8 4.5.3导出材料数据 43 orF8% 4.6 常用单位 43 w##$SaTI 4.7 插值和外推法 46 ~<_PjV 4.8 材料数据的平滑 50 cZ/VMQEr 4.9 更多光学常数模型 54 @}e5T/{X}T 4.10 文档的一般编辑规则 55 L6pw'1' 4.11 撤销和重做 56 LwCf}4u" 4.12 设计文档 57 1`&"U[{ 4.10.1 公式 58 sU?%"q 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 SR'u*u! 4.10.3 沉积密度 59 JLxAk14lc 4.10.4 平行和楔形介质 60 )e\IdKl= 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 rcMSso2 4.10.4 性能 61 DmpD`^?-L 4.10.5 保存设计和性能 64 y}lqF8s 4.10.6 默认设计 64 ?F%,d{^ 4.11 图表 64 "M:0lUy 4.11.1 合并曲线图 67 7NfA)$ 4.11.2 自适应绘制 68 k'{Bhi4 4.11.3 动态绘图 68 20RI S j 4.11.4 3D绘图 69 Z:%~Al: 4.12 导入和导出 73 M,9f}V) 4.12.1 剪贴板 73 z)y{(gR 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 FAd4p9[Y 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 &Ukh 4.13 背景 77 G8p6p6* 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ^b`aO$ 4.15 生成Rugate 84
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1v oc 4.16 参考文献 91 4] I7t 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 %:]ive]e 5.1 Jobs 92 `GT{=XJfY 5.2 创建一个新Job(工作) 93 _0e;&2') 5.3 输入材料 94 uY|-: = 5.4 设计数据文件夹 95 <@2g.+9 5.5 默认设计 95 ^NiS7 )FX 6 细化和合成 97 wtnC^d$ 6.1 优化介绍 97 /jv4#9 6.2 细化 (Refinement) 98 'e06QMp@ 6.3 合成 (Synthesis) 100 a{7'qmN1 6.4 目标和评价函数 101 q*4=sf,> 6.4.1 目标输入 102 Vq<\ixRi 6.4.2 目标 103 6w:M_tDM 6.4.3 特殊的评价函数 104 6` @4i'. 6.5 层锁定和连接 104 N1i%b,:3 6.6 细化技术 104 EG[Rda 6.6.1 单纯形 105 +(3U_]Lu 6.6.1.1 单纯形参数 106 ^8eu+E.{ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 E#m|Sq 6.6.2.1 Optimac参数 108 #)N}F/Od^ 6.6.3 模拟退火算法 109 a$ FO5%o 6.6.3.1 模拟退火参数 109 `8D}\w<eI 6.6.4 共轭梯度 111 %gE*x
# 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 z<9wh2*M 6.6.5 拟牛顿法 112 &!5S'J% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 m3E`kW| 6.6.6 针合成 113 iSg^np 6.6.6.1 针合成参数 114 (^).$g5Hg 6.6.7 差分进化 114 )4BLm 6.6.8非局部细化 115 '6zD`Q 6.6.8.1非局部细化参数 115 ^6(Nu|6\@ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 of k@.TmO 6.7.1 细化 116 &;]KntxB 6.7.2 合成 117 NhYce> 6.8 参考文献 117 .~t.B!rVSB 7 导纳图及其他工具 118 9d_
Zdc 7.1 简介 118 MYVgi{ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 H!yqIh 7.2.1 四分之一波长规则 119 $(8CU$gi= 7.2.2 导纳图 120 2/m4| 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 R+y 9JE 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 HXp$\%A) 7.5 斜入射导纳图 141 yTb#V"eR 7.6 对称周期 141 6_wj,7 7.7 参考文献 142 p,K]`pt= 8 典型的镀膜实例 143 osdl dS 8.1 单层抗反射薄膜 145 L&L | |