离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 !*B'?|a<\  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） 85Otss/mM  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 ]z/8KL  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  7\s"o&G  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 3yU.& k  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） F`XP@Xx  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 koZ*+VP=  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  ~5%W:qw
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