离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 |QF_E4ISD  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） B|V!=r1%  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 PjX V.gz  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  jz HWs  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 >q&5Z  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） 2}XRqa.|  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 j1qU 4#Y  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  }aVzr}!