离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 ~/rD_K  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） p%DU1+SA  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 7_\G|Zd  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  "xlR>M6e  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 pg%(6dqK4  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） Y\9}LgIvr  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 z% bH?1^o  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  X\`']\l