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wpawj	2024-05-16 23:01
离子源前处理时间问题请教一下，镀膜前的离子源前处理时间多长合适，有什么依据或者判定标准吗？

ouyuu

2024-05-17 08:57

和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了）
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。
所以也和你清洗效果，清洗方式，镀膜温度，镀膜材料有关。

zhangsui666	2024-05-17 17:48
一般来说轰击15分钟左右就够，但是还是在进炉前清洗工作一定要仔细，离子源主要为了辅助沉积。

renlgj	2024-07-21 17:12
学习一下，新手中

renlgj	2024-07-27 15:36
学习了，谢谢各位大神

gaofei555

2024-07-30 08:38

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 {UNH?2
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） W"{Ggk`
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 bWPsfUn#
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57) [lmF2

学习了

cwl563590

2024-12-08 20:27

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 ~nZcA^b#DQ
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） fit{n]g
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所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57) CKAd\L

学习了。感谢版主分享。

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