离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 gix>DHq$k  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） `skH-lk,  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 PL!tk^;6-  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  /J.0s0@  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 z3ZuC{  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） Y'?Iznb  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 [KD}U-(Wg  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  D8a)(
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