离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 Q5lt[2Zyzd  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） %JgdLn
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2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 (eAz nTU  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  +NbiUCMX  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 T@*'}*  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） 
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所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  I)yF!E &