离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 ,c)g
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1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） ]9S`[c$  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 $rG<uO  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  RwTzz] M  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 mpef]9  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） d]M[C[TOX  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 =[(1my7  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  .u< U:*