京东方“一种光学结构及其制备方法”专利公布

据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“一种光学结构及其制备方法”发明专利，公开号CN113514911A，申请日期为2021年7月。 8^i,M^f^{  
专利摘要显示，本公开是关于光学器件技术领域，提出一种光学结构及其制备方法。该光学结构包括：隔离膜，具有透明结构，且用于反射预设波长范围的光；多个反射单元，多个所述反射单元呈周期性阵列分布于所述隔离膜的一侧，所述反射单元包括设置于所述隔离膜一侧的介质层和设于所述介质层背离所述隔离膜一侧的金属层；填充层，填充于所述反射单元之间，至少部分相邻所述金属层的间隙小于可见光波长。本公开提供的光学结构能够通过反射单元实现对可见光的非对称传输，且通过隔离膜反射预设波长范围的光，当该预设波长范围为产生热量的近红外光时，则光学结构能隔绝产生热量的近红外光，显然，由该光学结构包围的空间能够实现无源降温，且具备单向透射功能。 _tJURk%